【課題】簡易な構成で素材、板厚、端面の状態等を含めたガラス基板等の状態の検査を行うことが可能なガラス基板検査装置及びガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】画像データを解析する解析手段を有し、前記解析手段は、前記画像データの所定領域内における色に基づき前記ガラス基板の素材を判別する判別手段と、前記ガラス基板の板厚を算出する板厚算出手段と、前記ガラス基板の端面に対する加工が行われているか否かを検出する端面状態検出手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線が照射される位置の安定性を容易に評価することができる変位検出回路を提供する。
【解決手段】ヘテロダイン干渉計と、該ヘテロダイン干渉計の基準信号と測定信号のそれぞれの光ビート回数をカウントするデジタルカウンタと、前記基準信号と前記測定信号との差分をとる減算器と、前記基準信号の波形の位相をシフトさせる位相シフト回路と、該位相シフト回路で位相シフトされた位相シフト信号の波形から特定の１つの信号波形を選択するスイッチ回路と、前記基準信号と前記測定信号との位相差を検出するゲートと、該ゲートの出力からヘテロダイン周波数の信号を取り除くローパスフィルタと、を構成とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の形状測定の精度と測定の作業効率を向上させることができる、ガラス基板の形状測定装置を提供すること。
【解決手段】ガラス基板Ｗを載置可能な載置部１１と、ガラス基板Ｗの被測定部位Ｗａの測定基準となる基準形状１２ａが形成された基部１２と、被測定部位Ｗａと基準形状１２ａを被写体とするカメラ１４と、カメラ１４による被写体の撮像画像に基づいて、基準形状１２ａに対する被測定部位Ｗａの相対位置を検出する相対位置検出部３１と、基準形状１２ａの絶対位置と相対位置検出部３１によって検出された相対位置とに基づいて、被測定部位Ｗａの絶対位置を検出する絶対位置検出部３２とを備える、ガラス基板の形状測定装置。 （もっと読む）

【課題】大気中の物質に対する耐食性に優れ、かつ高精度なナノメーター標準原器を提供する。
【解決手段】ナノメーター標準原器としての標準試料は、比較の基準となる標準長さを有している。また、この標準試料は、ステップ／テラス構造が形成されたＳｉＣ層を有している。そして、ステップの高さが、ＳｉＣ分子の積層方向の１周期分であるフルユニットの高さ、又はＳｉＣ分子の積層方向の半周期分であるハーフユニットの高さと同一である。また、このステップの高さが前記標準長さとして用いられる。 （もっと読む）

【課題】カラー画像上における色の違いがグレーの濃淡に適切に反映されかつ色の欠落がないグレースケール画像を生成することができる画像処理装置および方法を実現する。
【解決手段】カラー画像をグレースケール画像に変換する画像処理装置１は、カラー画像についての、ＲＧＢ色空間におけるＲ（赤）、Ｇ（緑）およびＢ（青）の各要素の明度の値を取得する取得手段１１と、ＲＧＢの各要素別にグレー濃淡の階調の範囲が画定されたグレースケール上において、取得手段１１によって取得したＲＧＢの各要素の明度に、当該要素に割り当てられたグレー濃淡の階調の範囲内のグレー濃淡の階調を対応付けることで、グレースケール画像に関するデータを生成する生成手段１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】汎用の２次元測長機を用いても露光面に形成された座標上の露光点を高精度に測定できるようにする。
【解決手段】Ｘ軸ガイドとＹ軸ガイドがＸ軸とＹ軸で直角に直交している状態から、Ｘ軸とＹ’軸とで示すように９０度以下の角度θで交差する状態になる。このとき、Ｘ軸ガイドとＹ軸ガイドに基づいて露光点観測カメラが露光点２０を測定すると、測定される座標の測定値はｘ’とｙ’となるが、露光点２０における真の座標の測定値はｘ、ｙである。一方、真の座標の測定値ｘ、ｙと実際の測定値ｘ’、ｙ’との関係は、ｘ＝ｘ’＋ｙ’cosθ、及び、ｙ＝ｙ’sinθで表わすことができる。従って、Ｘ軸ガイドとＹ軸ガイドが９０度以下の角度θで交差していても、実際に測定された測定値ｘ’、ｙ’と交差角度θを上式に代入すれば、真の座標の測定値ｘ、ｙを容易に求めることができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計の計測精度を改善する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系ＵＬと、原版Ｒまたは基板Ｗを保持して移動可能なステージ１ｒ、１ｗと、ステージを支持する定盤４と、原版または基板の表面の高さ及び傾きを検出する検出手段７と、投影光学系と検出手段とを支持する架台８と、定盤と架台との間における、ステージを含む空間の空調を行う空調手段と、該空間内に光路を有してステージの位置を計測するレーザ干渉計６と、を有する。上記検出手段は、光電検出手段２７と、パターンを投影する投光光学系と、原版または基板上に投影された上記パターンの像を光電検出手段に再結像させる受光光学系とを有する。光電検出手段を含む検出手段の第１の部分は、上記空間の外において架台に支持され、検出手段の第２の部分は、上記空間内において架台に支持され、第１の部分と第２の部分とは、受光光学系の瞳面と像面との間で分割されている。 （もっと読む）

【課題】画像内に含まれる目的の対象物を検出する速度を向上させる。
【解決手段】標準パターンの領域を、任意の点である領域分割中心点から放射線状に２つ以上の領域に分割し、分割領域ごとに領域分割中心点から最大距離にある標準パターン画素位置を標準パターン代表点として選定する。被判定パターンの領域を、標準パターン代表点選定ステップと同じ条件で領域分割中心点を用いて２つ以上の領域に分割し、分割領域ごとに領域分割中心点から最大距離にある被判定パターン画素位置を被判定パターン代表点として選定する。対応する分割領域における標準パターン代表点の座標と被判定パターン代表点の座標の位置的差異を求め、すべての分割領域において位置的差異が予め定められた範囲内であるときに被判定パターンは目的の対象物であると判定する。 （もっと読む）

【課題】基板の加工領域の位置に関する位置情報をアライメントマークに関連させて取り出し、アライメントと実際の加工とを切り離して基板を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】基板（５；４２）は、基板（５；４２）に対して固定されたアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）が設けられ、基板（５；４２）を加工する前に、基板（５；４２）の加工領域の位置に関する位置情報がアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）に関連させて取り出された場合に、アライメントと実際の加工とを切り離すことによって効率よく製造することができる。この場合に、アライメントは、加工時にアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）の位置を１回だけ再測定し、加工領域の位置に関する保存された位置情報を使用することにより行うことができる。 （もっと読む）

【課題】表面の干渉分析の方法とシステムを提供する。
【解決手段】物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。 （もっと読む）

【課題】測定物の厚さや温度測定を、非接触により高精度で行うこと。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、ミラー１２と、ミラー１２の位置を調整する位置調整装置１３と、測定光と参照光との干渉強度の波長スペクトルを測定する受光装置１４と、干渉強度のスペクトルを空間座標に逆フーリエ変換して、干渉強度の空間分布を求め、その空間分布から測定物の厚さや温度を測定する干渉波形解析装置１５と、によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面位置を計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源からの光を第１の経路に導くとともに第１の経路を逆行する反射光を第２の経路に導く第１の光分岐手段と第１の経路に導かれた光を平行光にし、この平行光を第３の経路と第４の経路に分ける第２の光分岐手段と第３の経路に配設され第３の経路に導かれた光を被加工物に導く対物レンズと、第２の光分岐手段と対物レンズとの間に配設された集光レンズと、第４の経路に導かれた平行光を反射し、この反射光を逆行せしめる反射ミラーと、第２の経路に導かれた反射光を回折する回折格子と、回折光の所定の波長域における各波長の逆数の光強度を検出するイメージセンサーと、検出信号からの分光干渉波形と理論上の波形関数に基づくフーリエ変換理論による波形解析を実行する制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】可視光、近赤外光または赤外光が透過する材料に設けられた高アスペクト比の穴の深さ等の段差構造の形状を正確且つ高速に測定する。
【解決手段】可視光、近赤外光または赤外光の測定用光Ｌを未貫通ビア１０４が形成されたシリコンウェーハ１０１の裏面１０３側から照射し、共焦点測定法により、測定用光Ｌがシリコンウェーハ１０１の表面１０２及び未貫通ビア１０４の底面１０５に焦点を結ぶ位置を測定することによって未貫通ビア１０４の見かけ上の形状を測定し、予め取得したシリコンウェーハ１０１の屈折率または屈折率を測定する屈折率測定手段によって測定したシリコンウェーハ１０１の屈折率を用いて、前記測定した形状を換算することにより未貫通ビア１０４の実際の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置で使用するために、自身の測定ビームの焦点高さによる影響を受け難いことが好ましい代替レベルセンサを提供すること。
【解決手段】本発明は、基板の高さレベルを測定するように構成されたレベルセンサを提供し、レベルセンサは、測定ビームを基板に投影する投影ユニットと、基板で反射した後に測定ビームを受ける検出ユニットと、検出ユニットが受けた反射測定ビームに基づいて高さレベルを計算する処理ユニットとを備え、レベルセンサは、傾斜測定デバイスをさらに備え、傾斜測定デバイスは、反射測定ビームの少なくとも一部を受けるように配置され、公称平面に対する基板の傾斜を表すチルト信号を提供するように構成される。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを２本の物理的に離れた平行なレーザービームに分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に向けて分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に仮想直線上にお互いの反射面を反対方向に向けて固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備える。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。
【解決手段】シート基板Ｐの露光装置であって、シート基板Ｐを走査方向Ｄ１に移動する基板駆動装置１０と、マスクＭ１〜Ｍ３を保持して上面ＭＢａに沿って移動するマスクステージＭＳ１〜ＭＳ３と、駆動対象のマスクステージＭＳ２の走査方向Ｄ２の位置情報を計測する干渉計３３ＸＡ，３３ＸＢと、この計測結果に基づいて、マスクステージＭＳ２を走査方向Ｄ２に移動する駆動装置と、マスクステージＭＳ１〜ＭＳ３の走査方向Ｄ２の位置を相互に入れ替えるステージ入れ替え装置２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。
【解決手段】
欠陥検査装置を、本来同一の形状となるべきパターンが繰り返して形成された試料上の異なる領域に異なる光学条件で同時に照明光を照射する照射手段と、照明光を照射した領域からの反射光を異なる領域ごとに検出する検出手段と、検出した反射光の検出信号を処理して異なる領域ごとに異なる光学条件の元での欠陥候補を抽出する欠陥候補抽出手段と、異なる光学条件の元で抽出した欠陥候補を統合して欠陥を抽出する欠陥抽出手段と、抽出した欠陥の特徴量を求めて該求めた特徴量に基づいて前記欠陥を分類する欠陥分類手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。 （もっと読む）