類似構造要素を分類するＣＤ計測のシステム及び方法を提供する。本方法は、半導体構造の画像を取得する段階と、ｂ）各群が異なる製造ステージから生じる類似構造要素の第１の群に属する構造要素（２０４）の十分な量及び第２の群に属する構造要素（２０５）の十分な量を識別する段階と、ｃ）第１の群及び第２の群内の要素の十分な量のうちの各所定の構造要素に対してそれぞれの製造ステージを示す１つ又はそれよりも多くの特徴を評定し、それぞれの特徴の値が取得画像から導出される段階と、評定の結果を製造ステージと類似構造要素の第１の群内及び第２の群内のそれぞれそれから生じる構造要素とに関連する分類判断に使用する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜の基板面内における膜厚変動の影響を低減でき、計測精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板上に薄膜が製膜された被検査基板Ｗに、該ガラス基板側から単波長の光を照射する光源と、光源から射出された照明光の光軸に対して所定の傾斜角度で受光軸が交差するように配置され、被検査基板Ｗを透過した拡散透過光を受光する受光素子と、受光素子によって受光された光の強度に基づいて薄膜のヘイズ率を求めるコンピュータ７とを備える。コンピュータ７は、ヘイズ率と拡散透過光の光強度とが関連付けられたヘイズ率特性を有しており、該ヘイズ率特性と前記受光素子によって受光された光強度とを用いてヘイズ率を求める。 （もっと読む）

【課題】屈折レンズのみを用いた光学系により垂直照明を可能とし、かつＤＵＶ−ＵＶ（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）領域の広帯域色補正を行うことを可能とする分光光学系および分光測定装置を提供する。
【解決手段】光源100、折り返しミラー110、視野絞り120、及び試料上に集光させる物体側集光レンズ系130と、該物体側集光レンズ系の結像面に配置される像側集光レンズ系140と、前記試料からの正反射光を分光する分光器150とを有し、前記物体側集光レンズ系130と、前記像側集光レンズ系140は、波長１９０〜４００ｎｍのブロードな帯域で色補正され、かつ垂直照明可能な屈折型レンズのみで構成される分光光学系であって、レンズのワーキングディスタンス（WD）が、所定の距離以下で設定され、かつ各接合レンズ間隔Ｄが、所定の距離以上で設定されている。 （もっと読む）

【課題】 薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法を提供する。
【解決手段】検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。 （もっと読む）

【課題】欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。また、正常パターンの散乱光量に応じて照明光量或いは／及び検出効率を画像検出中に制御することにより明るさの飽和を抑制した画像を得る。 （もっと読む）

【課題】光源からの光の光量ばらつきの影響を低減して、被計測面の表面形状を高精度に、且つ、再現性よく計測することができる技術を提供する。
【解決手段】計測面の表面形状を計測する計測装置であって、光源からの光を計測光と参照光とに分離し、計測光を被計測面の表面に入射させ、参照光を参照面に入射させる光学系と、被計測面の表面で反射した計測光の光強度と、参照面で反射した参照光の光強度と、被計測面の表面で反射した計測光と参照面で反射した参照光との干渉パターンとを検出する検出部と、検出部によって検出された干渉パターンの干渉信号に基づいて、被計測面の表面形状を算出する処理部と、を有し、処理部は、検出部によって検出された計測光の光強度、及び、参照光の光強度に基づいて、検出部によって検出された干渉パターンの干渉信号に含まれる光源からの光の光量ばらつきによる影響を低減して、被計測面の表面形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】下方から照射された光により透明基板上に塗布した点塗布マークを読み取る際に、該点塗布マークの厚みに起因した輪郭のぼやけの無い 鮮明な画像を認識することができる高精度な位置検出装置の提供を提供する。
【解決手段】ガラスプレート３０（光透過プレート）の下方に該ガラスプレート３０上の塗布マークＭに下側から光を照射するＬＥＤ照明３２（照明）を設け、さらに該ガラスプレート３０の下面に、認識用カメラ２０の光学的軸線と平行となるようにＬＥＤ照明３２から発せられた光の光軸を調整する液晶プレート３１を積層する。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】二次元測定機で線幅を測定する際に、照明レベルが線幅測定の安定領域に維持されるように、自動調光のパラメータ設定を作業員に負担をかけずに短時間で容易にできるようにする。
【解決手段】測定物を照明する照明装置と、測定物を撮像する撮像部と、該撮像部からの映像信号の輝度変化から線の縁を検出して線幅を測定できる二次元測定装置において、照明装置の照明レベルを段階的に変化させる照明レベル変化手段（Ｓ６、Ｓ７、Ｓ８、Ｓ１５）と、照明レベルの各段階毎に線幅を測定する線幅測定手段（Ｓ９〜Ｓ１３）と、線幅、該線幅を測定したときの照明レベル、最大輝度及び最小輝度を記憶する測定値記憶手段（Ｓ１４）と、記憶した測定値に基づいて線幅測定の安定領域を検出して映像信号の輝度範囲を設定する輝度設定手段（Ｓ１６）と、映像信号の輝度を設定された範囲内に保持する自動調光手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法およびシステム。
【解決手段】 このシステムは、光検査ヘッド、ウェーハテーブル、ウェーハスタック、ＸＹテーブルおよび振動絶縁装置を含む。光検査ヘッドは、複数の照明器、画像収集装置、対物レンズおよび他の光学部品を含む。このシステム及び方法は、明視野画像、暗視野画像、３Ｄ形状画像および検査画像の収集を可能にする。収集画像は、画像信号に変換され、かつ処理のためにプログラマブルコントローラに伝送される。ウェーハが動いている間、検査が実行される。収集画像は、ウェーハ上の欠陥を検出するための基準画像と比較される。基準画像を作り出すための例示的な基準作成プロセスおよび例示的な画像検査プロセスもまた、本発明によって提供される。基準画像作成プロセスは、自動プロセスである。 （もっと読む）

【課題】円形状のエッジを自動検出して円形を求め、該円形の幅寸法の測定を可能にする円形の幅寸法測定装置を提供する。
【解決手段】全体として１または２以上の層を有する円形状の物体を上方から撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって得られた画像から前記円形状の仮中心点を求める手段と、前記仮中心点から円形の複数のエッジを求める手段と、前記円形の複数のエッジから仮想円の中心を求める手段と、前記仮想円の中心から仮想円を求める手段と、前記仮想円から検出円を求め、該検出円の幅を円形状の幅寸法とする幅寸法算出手段とを有することを特徴とする円形の幅寸法測定装置。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの欠陥検査方法では、基準となるパターンの画像データを膨張・収縮といった操作を行い、許容できる最大の寸法と最小の寸法を有するマスタパターンを作製し、被検査物から得た画像データをこのマスタパターンと比較することで欠陥を発見する。このマスタパターンを作製する膨張・収縮という画像処理においては、画素毎にその周囲の画素を加減する処理が行われるが、様々な線幅が含まれる基準パターンの場合は線幅の比率によって一定の割合で膨張・収縮することが困難であった。
【解決手段】基準パターンに属する画素に背景からの距離データを付与し、周辺の画素に自分より大きな距離データがなくなるまで画素を削除し、基準パターンの骨格を代表する骨格パターンを作製する。この骨格パターンに属する画素が有する距離データに所定倍率をかけた範囲にある画素をマスタパターンとする。 （もっと読む）

【課題】めっき層表面に生じるめっき未着等の欠陥を安定的に検出することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置２０は、パッド部と、パッド部と異なる色彩をもつめっき層とを有する被検査基材１０の外観を検査するものである。外観検査装置２０は、被検査基材１０に対して光を照射する照明装置と、被検査基材１０を撮像してカラー画像を取得するカラーセンサカメラ２２と、カラーセンサカメラ２２に接続された画像処理装置３０とを備えている。画像処理装置３０は、カラー画像のうちパッド部からの反射率が低く、めっき層からの反射率が高くなる特定波長成分のみを含む画像成分を抽出する成分抽出部３２と、特定波長成分を含む画像成分の画像を処理する画像処理部３３と、めっき層の欠けを判定する判定部３４とを有している。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンの異常の原因を特定することが可能な評価装置を提供する。
【解決手段】評価装置１において、第１撮像素子３１は、検光子２１の透過軸の方位が偏光子１７の透過軸に対して９０度±３度の傾斜角度となるように検光子２１を回転させて、それぞれの条件でフーリエ画像を撮像し、演算処理部４０は、２枚のフーリエ画像における信号強度の差分に基づいて、ドーズ量の変化に起因する繰り返しパターン３の状態変化を検出し、２枚のフーリエ画像における信号強度の平均に基づいて、フォーカスの変化に起因する繰り返しパターン３の状態変化を検出するようになっている。 （もっと読む）

【課題】めっき層表面に生じるめっき未着等の欠陥を安定的に検出することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置２０は、パッド部１１ａ、１１ｂと、パッド部１１ａ、１１ｂと異なる色彩をもつめっき層１２とを有する被検査基材１０の外観を検査するものである。外観検査装置２０は、被検査基材１０に対してパッド部１１ａ、１１ｂからの反射率と、めっき層１２からの反射率との差が大きくなる特定波長成分を含む光を照射する照明装置２３ａ−２３ｃと、被検査基材１０を撮像してグレー画像を取得するモノクロカメラ２２と、モノクロカメラ２２に接続された画像処理装置３０とを備えている。画像処理装置３０は、モノクロカメラ２２からのグレー画像に基づいて白黒画像を生成する二値化処理部３３と、白黒画像に基づいてめっき層１２の未着を判定する判定部３４とを有している。 （もっと読む）

【課題】見えにくい箇所に付着した異物を効率良く除去する手段の提供。
【解決手段】測定ユニット１６の外装部には、プローブカード２の触針３_ｎを上方、左方、右方の異なる３方向からブラッシングするための３種類のブラシが取り付けられたクリーニングプローブを有するクリーニングユニット２１が設けられており、このクリーニングユニット２１は、プローブカード２と測定ユニット１６とが３次元方向に相対的に移動することで、３種類のブラシによって、上方、左方、右方の異なる３方向から触針３_ｎをブラッシングする。これにより、触針３_ｎの見えにくい箇所に付着している異物を効率良く取り除くことが可能となり、プローブカードに設けられた触針の形状を測定する測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】
干渉光学系において干渉縞のある取得画像からアライメントマーク位置を検出する方法およびこれを用いた高速な装置を提供する。
【解決手段】
干渉光学系における撮像画像は撮像対象面３０Ａと参照面１５から同一光路を戻る反射光同士の干渉現象により、撮像装置１９で撮像した画像には干渉縞が現れる。このとき、分布干渉縞の角度θだけ画像を回転させた回転画像を作成し、その画像に対して１次元微分フィルタを掛けることにより干渉縞の輝度変動の影響を無くす事が出来、取得画像のアライメントマークの位置を正しく検出する事が出来る。 （もっと読む）

【課題】二光束の光路長差が安定に一定となる構成を備えることにより光源波長の変動をｐｍ以下の精度、分解能で測定可能な波長ずれ測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の波長ずれ測定装置は、光源から射出される光束の波長の変動量を測定する波長ずれ検出センサＷＬＣＤ１であって、光源から射出された光束を複数の光束に分割し、複数の光束のうち二光束を合成して干渉光を生成するビームスプリッタＢＳ２と、ビームスプリッタＢＳ２により分割された二光束の光路長差が一定になるように設けられたスペーサ部材ＳＰと、ビームスプリッタＢＳ２により生成された干渉光を検出する複数の光電センサＰＤＡ＋、ＰＤＢ＋とを有し、複数の光電センサＰＤＡ＋、ＰＤＢ＋は、干渉光に基づいて互いに位相がずれた複数の干渉信号を出力し、複数の干渉信号を用いて波長ずれ量を算出する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単かつ高精度に被測定面の位置を測定することが可能な測定装置、測定方法、コンピュータ、プログラム及び露光装置を提供する。
【解決手段】被測定面の位置を測定する測定装置１００は、光源１１２からの広帯域光を分離し、一方を計測光として被測定面に案内し、他方を参照光として参照面に案内し、計測光と参照光によって形成される干渉光を光電変換素子１３７で検出する干渉計と、光電変換素子１３７が検出した干渉信号をフーリエ変換して位相分布及び振幅分布を求め、位相分布データＰ４を補正用位相分布データＰ３で補正した後、補正された位相分布データＰ４ａ及び振幅分布データＡを逆フーリエ変換して得られる干渉信号に基づいて被測定面の位置を算出するコンピュータと、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数のショット領域において同一の計測箇所で表面位置を計測するために好適な技術を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、前記投影光学系の光軸の方向に関して前記基板の表面の位置を計測する計測器と、前記ステージおよび前記計測器を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記走査の方向に沿うようにショット領域の中心に対して対称に所定ピッチで配置された計測箇所のリストである第１計測箇所リストを生成し、前記計測器の制御には、前記第１計測箇所リストに含まれる計測箇所で前記計測器に前記表面の位置を計測させる第１の制御と、ショット領域において最後に計測される計測箇所及び／又はその次のショット領域において最初に計測される計測箇所を前記第１計測箇所リストから除いた第２計測箇所リストに含まれる計測箇所で前記計測器に前記表面の位置を計測させる第２の制御と、が含まれる。 （もっと読む）