【課題】半導体ターゲットのオーバレイなどの特性を測定する装置および方法の提供。
【解決手段】一般に、次数選択された画像化および／または照射が実行され、測定システムを用いてターゲットから画像を収集する。一実施において、調節可能な空間変調は本システムの画像化経路のみに提供される。他の実施において、その空間変調は本システムの照射経路および画像化経路の両方に提供される。特定の実施において、その空間変調は±ｎの回折次数を有する、隣接するグレーティングを画像化するために用いられる。隣接するグレーティングは半導体ウエハの異なる層または同一の層内であってよい。構造物間のオーバレイは通常、グレーティングの対称中心間の距離を測定することによって見出される。この実施形態の場合、ｎ（ｎはゼロではない整数）の所定の選択に対して±ｎの次数のみが選択され、グレーティングはこれらの回折次数を用いてのみ画像化される。 （もっと読む）

【課題】チップの形状感知システム及びこれを用いた感知方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのチップ１２２がそれぞれ分離されて付着された支持板１２０と、支持板１２０の下部に配置されて、チップ１２２の間の支持板１２０を透過するように光を放出する下部照明部１１２と、支持板１２０を透過した光を感知する光認識部とを備えるシステム及び方法であって、前記チップ１２２は、電気的な信号を処理するためのものであることを特徴とし、前記チップ１２２は、許容された範囲内で変形された形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの位置および／または移動を、過剰なコストの増加を伴うことなく、広い移動範囲にわたって正確に測定するために使用することができるシステムを提供する。
【解決手段】変位測定システム、詳細には、基準フレームに対するリソグラフィ装置内の基板テーブルの変位を測定するための変位測定システムが提供される。変位測定システムは、基板テーブルに取り付けられた複数の変位センサと、基準フレームに取り付けられた、個々の変位センサと結合したターゲットとを備えている。 （もっと読む）

本発明に従う装置は、基本的に２つの異なる測定モードで作動可能な対物レンズ（８）を有する。第１干渉モードでは、測定対象物（９）は干渉光学的に測定される。第２イメージングモードでは、イメージ処理ルーチンに供される光学イメージが作られる。２つの操作モード間の切り換えは、装置の光路の異なる位置に連結する照明装置を切り換えることで行われる。カメラから見て、一方はビーム分割器の前にあり、他方は参照光路を光路に結合するビーム分割器の後ろにある。
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【課題】パイプＡＳＳＹなどの検査対象物の表面についた傷を精度良く検出し、その検出結果に基づいて検査対象物の良否を精度良く判定できる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】表面検査装置（１）は、検査対象物の検査領域を含む領域を撮影した検査画像を取得する２次元検出器（２４）と、検査画像に基づいて検査対象物の傷に関する情報を検出する傷検出部（３３）と、その情報に基づいて、検査対象物の良否を判定する良否判定部（３４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】ホースにおける流体の漏れを可能な限り早く検出し、さらには漏れの位置及び種類を検出すること。
【解決手段】この漏れ検出装置は、ホースカーカス（６，８）を介して流体の漏れを検出するように構成された光ファイバセンサ（２）を備えている。この光ファイバセンサ（２）は、ホース区間（４）に沿って漏れの位置を検出するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】対象物の寸法を簡易かつ効率的に提示することが可能な投写装置等を提供すること。
【解決手段】投写装置１０が、対象物に対するフォーカスが調整された状態におけるフォーカス調整値に基づき、寸法を示すものさし画像を投写するための画像情報を生成する画像情報生成部１７０と、前記画像情報に基づき、前記ものさし画像を前記対象物へ向け投写する投写部１９０とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】検査対象物がノーマル検査モードではない場合、ベアボード情報を検索し、ベアボード情報がない供給業体で供給されたボードである場合、ベアボード学習を通じてボードのターゲット対象物の３次元形状を測定する方法に関する。
【解決手段】第１照明源の明るさを測定する段階と、位相を高さに変換したファクターを測定する段階と、ノーマル検査モードによるボードの３次元形状を測定する段階と、ベアボード情報がない場合にベアボード学習を実施する段階と、ベアボード情報があるか又はベアボード学習情報が発生されると学習検査モードによるボードのターゲット対象物の３次元形状を測定する段階と、３次元形状情報を用いてボードが正常か否かを分析する段階と、から構成され、ボードのターゲット対象物の３次元形状測定作業をより容易に実施することができる。 （もっと読む）

物体の表面１３，１４の走査用、特に、座標測定機用の走査システム。走査センサ１は、少なくとも１つの流体マウント式光伝送モジュール２を有し、流体が前記光伝送モジュール２とマウント部３との間のマウントギャップ７に配置され、光伝送モジュール２は、筒状外壁の軸心に対して、軸心方向に移動可能、かつ、回転も可能に取り付けられている。光源からの一次光は、光伝送モジュール２の内部空間８を通って光出射位置（１２ａ，１２ｂ）へと伝送され、光出射位置は軸心方向に離間するとともに、そこから、一次光が物体表面１３，１４へと放射される。物体表面１３，１４によって反射された二次光も、光伝送モジュール２の内部空間８を通って、二次光入射位置１６ａ，１６ｂから軸心方向に離間した二次光出口位置１７へと伝送される。光伝送モジュールは、軸心方向と回転との両方において回転／平行駆動機構２７によって駆動される。
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【課題】モールドの転写パターンが形成された加工面を含む表面と、被加工部材である基板との間の空間的な位置関係を正確に計測することが可能となるパターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールドを提供する。
【解決手段】モールドの加工面に形成されたパターンを、被加工部材に転写するパターン形成装置を、つぎのような距離計測機構を有する構成とする。
すなわち、距離計測機構１０６〜１１１を、前記モールドの加工面から後退した位置にあり、且つ前記モールドの加工面と対向した計測基準面を介し、前記計測基準面と前記基板表面との間の距離を計測できる構成とする。
そして、前記計測結果と前記計測基準面と加工面の間の厚みに基づいて、前記モールドの加工面と前記基板表面との間の距離を計測可能とする。 （もっと読む）

【課題】物体を検査する方法を提供すること。
【解決手段】物体（１２）を検査する方法（３８）に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）デバイスおよびＬＣＯＳ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｏｎ ｓｉｌｉｃｏｎ）デバイスのうちの少なくとも１つから光を発すること（４０）と、ＬＣＤデバイスおよびＬＣＯＳデバイスのうちの少なくとも１つから発した光を位相シフトすること（４２）と、位相シフトされた光を物体の表面に投影すること（４４）と、物体表面から反射された光を撮像センサ（２４）を用いて受け取ること（４６）と、物体の少なくとも一部の検査を容易にするために撮像センサによって受け取られた光を分析すること（５０）とが含まれる。 （もっと読む）

【課題】物体を検査する方法およびシステムを提供すること。
【解決手段】物体（１２）を検査する方法が、光源（２２）から光（４０）を発することと、前記光源から発した前記光を前記物体の表面に投影することと、前記物体表面から反射された光を第１イメージおよび第２イメージに分割することと、撮像センサを用いて前記第１イメージおよび前記第２イメージを受け取ることと、前記物体の少なくとも一部の検査を容易にするために、前記撮像センサ（２４）によって受け取られた前記第１イメージおよび前記第２イメージを分析することとを含む。 （もっと読む）

本発明は、２つの座標系の間の相対的な空間パラメータを決定するシステム及び方法を特徴としており、この２つの座標系は、モールドと、パターンを生成するようにモールドが利用される基板の領域であってよい。このために、複数のポイントにおける２つの座標系の間の相対的なアライメントを検知し、それらの間の相対的な空間パラメータを決定する。相対的な空間パラメータは、相対的なエリアと相対的な形状を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な構成で、高精度な暗視野照明を実現して、高精度なパターン判定を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】撮像部３０の撮像中心Ｏから離れる方向に大きな間隔を有して並設配置されて、照明光を透過してウエル２の下面に案内する複数の光透過部２７を有した瞳プレート２５を通して、暗視野照明を行うようにしていることにより、ウエル２毎に反応パターンをコントラスト良く、しかも、ウエル２に収容した液量により撮像部３０の対物レンズ３１で見た光透過部２７の中心位置がずれて見えても照明装置２２からの照明光がウエル２内に漏れたりすることが防止される。 （もっと読む）

本発明は、加工品（６）、好ましくは、セルロース材料の袋製品または袋の半製品上の塗布のり剤（９）の３次元的広がりの特徴を測定および監視の少なくとも一方を行う装置（８）を開示する。この装置（８）は、加工品（６）から発出する電磁放射（３）の特性を記録する（３）ことができるセンサ装置（５）を含む。加工品（６）によって反射される電磁放射（３）の強度値を、このセンサ装置（５）によって記録することができる。 （もっと読む）

【課題】物体表面に特定パターンの照射光を照射し、物体表面からの反射光の受光強度分布に基づいて物体表面の平滑度を算出することにより、各種の物体表面の平滑性を安定的に、正確に、迅速に、かつ、容易に測定することができるようにする。
【解決手段】物体表面に光を照射する光源１１ａと、前記物体と光源１１ａとの間に設けられ、該光源１１ａから物体に照射される照射光を所定方向の明暗から成る特定パターンを形成するように遮光する遮光手段と、前記物体表面から反射する反射光を受光する受光手段と、該受光手段が受光した光に基づき、所定方向の位置毎の受光強度分布を検出する受光強度分布検出手段と、該受光強度分布検出手段が検出した受光強度分布に基づき、前記物体表面の平滑度を算出する平滑度算出手段とを有し、該平滑度算出手段は、前記受光強度分布から求められる極大値と極小値とに基づいて所定方向の平滑度を算出する。 （もっと読む）

【課題】形状計測対象物が検出対象物であるか否かを容易に判定することができるようにした形状計測装置を提供する。
【解決手段】二次元シャッタ１１６には形状計測対象物の観測画像をポジ画像として入力し、二次元シャッタ１１７には検出対象物を検出するための辞書画像をネガ画像として順に入力する。二次元シャッタ１１７から出力される画像は、観測画像と辞書画像との差分画像となる。観測画像と、画像が一致する辞書画像との比較時には、スクリーン１２０に投射される画像は暗画像となると共に、光検出器１２２は入射光を検出しない。観測画像と、画像が一致しない辞書画像との比較時には、スクリーン１２０には一部又は全部を明とする画像が投射されると共に、光検出器１２２は入射光を検出する。したがって、形状計測対象物の形状を観測画像と辞書画像との比較において計測できる。 （もっと読む）

【課題】光切断法による形状計測を容易、かつ、高精度に行うことができるようにした形状計測装置を提供する。
【解決手段】光源８５から出射された光は、二次元シャッタ８６及びレンズ８７を介して形状計測対象物８４の表面に照射され、形状計測対象物８４の表面からの反射光は、レンズ８８を介して、ＣＣＤカメラ８９の受光面に入射し、ＣＣＤカメラ８９により形状計測対象物８４の表面が撮像される。そこで、二次元シャッタ８６中の開状態とするシャッタを適当に選択することにより、必要に応じて種々の形状の投射パターンを形状計測対象物８４に投射する。 （もっと読む）

【課題】
精密な検査を短時間で行うことができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたシリンダブロックの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、試料に設けられた孔に対して挿入可能に設けられた外筒３５を備え、外筒３５を孔に挿入して検査する検査装置であって、光源４１と、光源４１からの光をライン状の光に変換するシリンドリカルレンズ４２と、対物レンズ３３と、光を内壁面の方向に反射する曲げミラー３４と、対物レンズの焦点位置を走査する対物レンズ焦点合わせモータ３１と、外筒３５を回転させるθ回転モータと、内壁面で反射された反射光をコンフォーカル光学系を介して検出する検出器４６と、曲げミラー３４と試料との相対位置を移動して、軸方向に走査を行うステージ１３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 測定センサの数を増やすことなく、幾つかの座標位置における被測定物の寸法を簡単に測定できるようにする。
【解決手段】 リードＹ付きの被測定物Ｘを実装状態で装着する基台２と、基台２の両側に投光器３と受光器４とをそれぞれ配置し、投光器３からの参照光を受光器４で捕捉して、受光器４からの検出出力により被測定物Ｘの寸法を測定する測定センサ６とを備え、基台２を手動若しくは電動で回転可能にする。これにより、予め被測定物Ｘを装着した基台２を適宜回転させるだけで、投光器３から受光器４に至る参照光の光路中に、被測定物Ｘの様々な部位を位置させることができ、幾つかの座標位置における被測定物Ｘの寸法を簡単に測定できる。
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