【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基準点に対する像内の構造の位置を決定する方法、更に、この方法を実施するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】対称中心を有する構造の基準点に対する像内の位置を決定する方法を提供し、本方法は、構造を含み、かつ基準点を有する像を準備する段階と、基準点に対する像の少なくとも１つの対称操作を実施し、それによって構造に対して合同である鏡像反転構造を有する少なくとも１つの鏡像が得られる段階と、構造と１つの鏡像反転構造又は２つの鏡像反転構造との間の少なくとも１つの変位ベクトルを決定する段階と、構造の位置を少なくとも１つの変位ベクトルから基準点に対する構造の対称中心の位置として計算する段階とを含む。更に、基準点に対する像内の構造の位置を決定するための位置測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で容易に撮像面の傾斜状態を検出可能な傾斜検出方法を提供する。
【解決手段】２つの撮像装置のそれぞれについて、撮像装置の傾斜状態を検出する傾斜検出工程と、撮像装置の傾斜を調整する傾斜調整工程と、撮像装置の位置を検出する位置検出工程と、撮像装置の位置を調整する位置調整工程と、を有し、傾斜検出工程は、均等間隔で設けられたパターンを、撮像装置の焦点位置を順次変化させて撮像し、撮像画像におけるパターン位置を検出してパターン領域を設定し、パターン領域における各画素の輝度値を検出し、検査方向に沿って画素間の輝度変化量を算出し、各パターン領域における輝度変化量の積算値を算出し、積算値が最大となる撮像画像に対応した焦点一致位置を検出し、焦点一致位置に基づいて、撮像装置の傾斜状態を検出することを特徴とする調整方法。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】エッジ（段差）近傍の表面プロファイルの測定結果を正確に取得することができる、物体の表面プロファイルを測定する方法を提供する。
【解決手段】物体の表面プロファイルを測定する方法であって、物体の表面の段差が走査方向に対して延在する第１の方向の情報を取得するステップと、前記情報に応じて、照射ビームに与える位相分布を設定するステップと、前記照射ビームで前記物体を前記走査方向に走査するステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】反射画像の輝度を適切な輝度に調整することができ、被計測物の三次元形状を正確に計測することが可能な三次元形状計測装置を提供すること。
【解決手段】三次元形状計測装置１００は、輝度が正弦波状に変化する縞状の光パターンを異なる位相で複数回、被計測物に投影する投影手段１０と、光パターンが投影された被計測物の反射画像を撮像する撮像手段２０と、被計測物の反射画像を基に、被計測物の三次元座標を計測する計測手段３１と、を有し、光パターンを被計測物に投影する前に、投影手段１０より所定の光を被計測物に投影し、所定の光が投影された被計測物の反射画像における各画素の輝度階調値と、所定の光の輝度階調値と、を基に、被計測物の光の最大反射率を算出する反射率算出手段３２と、最大反射率に応じて、撮像手段２０が受光する受光量を調整する調整手段３３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】複数のセンサ画素を有する光電変換素子１において、マルチプレクサ５と、複数の水平転送レジスタ３ａ〜３ｄとを有する。センサ画素は、水平転送レジスタ３ａ〜３ｄのそれぞれに対応するように、複数のブロック２ａ〜２ｄに分割される。複数のブロック２ａ〜２ｄの電荷が、対応するそれぞれの水平転送レジスタ３ａ〜３ｄを介してマルチプレクサ５に読み出され、マルチプレクサ５を介して出力されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】複層塗膜の内部構造及び内部欠陥を、非接触非破壊且つ簡便に測定、解析することができる複層塗膜の非接触非破壊評価方法及びそれを用いた装置を提供すること。
【解決手段】本評価方法は、光源１からの光を参照光と複層塗膜４への入射光とに分岐する分岐ステップと、前記参照光の光学距離を調整する調整ステップと、前記複層塗膜からの反射光と前記参照光とを干渉せしめる干渉ステップと、前記複層塗膜からの前記反射光を含む干渉光を検出して前記干渉光の強度信号を出力する検出ステップと、前記強度信号を解析する解析ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】空間符号化法における物体の三次元形状の計測を高速に且つ高精度に行う。
【解決手段】それぞれのエッジの位置が相互に重ならない複数の周波数のスリット光パターンを被写体に投影したときのそれぞれの撮像画像から、スリット光パターンのエッジの部分を特定する。そして、２以上のスリット光パターンの撮像画像において、エッジの部分が重なる場合に、そのエッジに対応する位置の距離算出値の信頼度を低下させる。 （もっと読む）

【課題】 透過性膜の膜厚を算出する際に用いられる撮影データの最大値に関する信頼性を評価して、信頼性の高い膜厚測定が行えるようにする。
【解決手段】 固定長の焦点距離を備える撮影部２を種々の高さに位置させて、基材と透光性膜とを含む基板を撮影した際の撮影画像の合焦度を算出する合焦度算出部６ａと、撮影部２の位置に対する合焦度からなる合焦度曲線の極大値を検出する極大値検出部６ｂと、極大値の信頼度を算出して、極大値が適正値か否かを判断する信頼度算出判断部６ｃと、信頼度算出判断部６ｃにより適正と判断された極大値に対応する撮影部２の位置を境界位置として算出する境界位置算出部６ｄと、境界位置に基づき透光性膜の膜厚を算出する膜厚算出部６ｅと、を備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の向きにかかわらず、凹部に存在する突起や付着物などの寸法が許容範囲にあるか否かを短時間で、複数の対象物を連続して検査する。
【解決手段】第一の照明手段１３により検査対象物５の第一の面５１に略平行に光を照射しながら第一の撮像手段１１により検査対象物５の第一の面５１を撮像して第一の画像データを生成し、画像処理手段１７が、第一の画像データに写っている凹部５１１の輪郭を抽出して凹部５１１の位置を特定し、第二の照明手段１４により検査対象物５の第一の面５１に対して所定の角度をもって傾斜する方向から光を照射しながら第一の撮像手段１１により検査対象物５の第一の面５１を撮像して第二の画像データを生成し、画像処理手段１７が第二の画像データに含まれる凹部５１１を抽出し、閾値を超える輝度値を有する領域の面積を算出し、面積に基づいて、検査対象物５が良品であるか不良品であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】 表示領域の端部近傍に線欠陥が生じている平面表示パネルであっても、表示領域の端部の位置を誤って検出してしまうことを防止する。
【解決手段】 表示領域検出装置は、予め定める複数種類の表示パターンを平面表示パネルにそれぞれ表示させる表示パターン指定部と、各表示パターンを表示させたときの平面表示パネルを撮像した画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、撮像画像取得部によって取得された画像データと該画像データに対応する表示パターンとに基づいて、表示領域の端部の位置の座標を推定する端部位置座標推定部と、端部位置座標推定部によって表示パターンごとに個別に推定された各座標を比較して、表示領域の端部の位置の座標を決定する端部位置座標決定部とを含む。 （もっと読む）

【課題】表示パネルと光学手段との相対的な位置精度を低コストかつ高速に検出できる、実装精度検査方法及びその検査方法を用いる検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象となる表示装置は、複数の画素群が配列された表示パネルと、画素群から複数のＮ（Ｎは２以上の自然数）視点に向けた画像表示を提供するための光学手段と有する。検査装置は、視点毎に異なる画像信号を有する検査パターンを表示装置に出力する画像出力手段と、表示装置から表示された検査画像の境界線分の傾きと位置を抽出する抽出手段とを備え、抽出手段が抽出した傾きと位置に基づいて表示パネルと光学手段との位置精度を検出する。 （もっと読む）

【課題】 メモリ容量が問題とならない位置ずれ量の検出を行い、位置ずれ量に基づき基板の位置を補正し基板の外観検査を行う。
【解決手段】 参照テーブル４２４に基づいて、推定基準点位置設定部４１３により推定基準点位置および仮基準点位置設定部４１５により仮基準点位置が設定される。距離指標値算出部４１４が推定基準点位置と仮基準点位置との距離の標準偏差を求め、該標準偏差が最小となるときの回転角および仮基準点位置と基準点位置との位置差分値を位置ずれ量４２５として取得する。該位置ずれ量４２５に基づき被検査基板６の位置合わせを行うことで、メモリの使用容量を増やすことなく、確実に位置合わせを行うことができるとともに、外観検査を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】小型であり、且つ回折格子で反射回折された回折光の光量の利用効率が従来よりも高いエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部から照明光がスケール５（回折格子）に照射されてスケール５で反射回折された＋１次回折光を反射させて当該＋１次回折光の回折角と等しい角度で再びスケール５に入射させる第１コーナーキューブ２１と、スケール５で反射回折された−１次回折光を反射させて当該−１次回折光の回折角と等しい角度で再びスケール５に入射させる第２コーナーキューブ２３とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】
安価なモノクロカメラを使用するとともに撮像画像の画像データ処理を少なくして画像処理を高速に行うことができ、撮像時にワークの影が発生してもワーク外形の検出に影の影響を排除することができ、低コストでワーク外形検出方法及び画像処理システムを提供する。
【解決手段】
第１ステップで取得した撮像画像を床面と支持部の中間値の輝度を閾値として二値化し、二値化した画像データをマスクデータにする。支持部の表面の明度と同レベルの明度を有するワークを、支持部に支持した状態でモノクロカメラによりワーク台とともに撮像し、ワーク撮像画像を取得する。ワーク撮像画像から、マスクデータにおける支持部に関する画像領域５２，５４を消去して支持部消去画像を取得する。支持部消去画像から、支持部消去部分を含んだワーク外形線５７を抽出し、支持部消去部分を補間処理してワーク外形線５８を取得する。 （もっと読む）

【課題】２つの位置決めマークからの反射光の光路差及び光路方向を変更可能で、簡易小型化した装置を提供する。
【解決手段】同一平面上にない２つのワークにそれぞれ設けられた位置決めマークを照射する照明装置と、それぞれの位置決めマークからの反射光を撮像する撮像装置と、を備える。さらに、２つのワークと撮像装置との間に配設され、それぞれの位置決めマークからの反射光を、少なくとも２回垂直に反射させることにより、撮像装置までの反射光の光路長が同一となるように複数の光学素子を組み合わせてなる光路差変更手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】搬送されるワークの外形を正確に検査する。
【解決手段】両側にガイド壁２２を備えた直線状のワーク搬送路Ｐを設け、搬送されるワークＷを上方からＣＣＤカメラ４で撮像してワーク寸法の良否を検査するワーク検査装置であって、ＣＣＤカメラ４に中心を一致させて下方のワーク搬送路Ｐに向けて設けたリング状照明器３と、ガイド壁２２の上方にこれに沿いワーク搬送路Ｐに向けて設けたライン状照明器５Ａ，５Ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】操作者の手間が少なく、測定を迅速且つ確実に行うことのできる画像測定装置及び画像測定方法を提供する。
【解決手段】ワークを撮像する撮像ユニット１７と、撮像されたワークの画像を取り込む取り込みプログラム４３１と、取り込まれた画像を２値化する２値化プログラム４３３と、２値化された画像内に存在する図形情報を認識し、当該図形情報の輪郭線を検出する輪郭線検出プログラム４３４と、検出された輪郭線に基づいて図形情報の角点を検出する角点検出プログラム４３６と、検出された角点を含む輪郭線上に、エッジ検出ツールを設定する設定プログラム４３７と、設定されたエッジ検出ツールにより、図形情報の測定を行う測定プログラム４３８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ワークの寸法を測定するための測定設定データを容易に作成することができる測定設定データ作成装置を提供する。
【解決手段】 形状線の位置情報、寸法線の位置情報、並びに、寸法線に関連付けられた設計値及び公差からなる設計値情報を含む設計データを取得する設計データ取得手段と、ワークを含むマスター画像に対し、測定対象箇所及び測定種別を指定するための測定対象箇所指定手段と、指定された測定対象箇所について、マスター画像からエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を算出する寸法値算出手段と、算出された寸法値に近い設計値からなる設計値情報を設計データから抽出する設計値情報抽出手段と、指定された測定対象箇所及び測定種別からなる測定対象箇所情報、並びに、測定対象箇所に関連付けた設計値情報を含む測定設定データを生成する測定設定データ生成手段により構成される。 （もっと読む）