【課題】トップテーブルの小型化と、トップテーブル質量の軽量化を実現しつつ、かつ長尺の反射体を必要とせず真空試料室の小型化が可能な真空内処理装置ないし荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】測長に使用する一対の干渉計および反射体の両者が可動となるようステージを構成し、かつステージが持つ複数の移動軸のうち上記一対の干渉計および反射体によって測長が行われる方向とは交差する移動軸と平行な方向に対して、上記一対の干渉計および反射体が互いに対向する状態を保ったまま移動できるようにステージを構成する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に機能層が形成されたウエーハの内部に機能層を損傷することなく変質層を形成することができるレーザー加工方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に機能層が積層された基板の内部にレーザー光線を照射し、基板の内部にストリートに沿って変質層を形成するレーザー加工方法であって、レーザー加工装置のチャックテーブル上にウエーハを基板の裏面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、保持されたウエーハの基板の裏面側から照射し、基板の裏面および表面で反射した反射光に基づいてチャックテーブルの上面から基板の裏面までの第1の高さ位置およびチャックテーブルの上面から基板の表面までの第２の高さ位置を計測する高さ位置計測工程と、計測された第1の高さ位置と第2の高さ位置との中間部にレーザー光線の集光点を位置付けて照射することにより基板の内部に機能層に達しない変質層を形成する変質層形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 簡便に、かつ正確に取り付けることができる光ファイバーセンサー設置装置を提供する。
【解決手段】 光ファイバーセンサーの設置装置において、磁性を有する対象物３と、この対象物３に固定される磁性吸着体からなる台座２と、この台座２上に装着される光ファイバーセンサー１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定対象物の表面形状をより高い精度で測定することができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の形状測定装置Ｓは、光へテロダイン干渉を行う一面側測定部２および他面側測定部３によって測定対象物ＷＡの厚さを測定するものであって、一面側測定部２が測定対象物に複数の測定光を照射することで、１回の測定で測定対象物ＷＡにおける厚さと表面形状とを測定する。 （もっと読む）

【課題】光源（１）と、光源（１）により照明されるときに基準物から生じる後方散乱光を受光するための光検出器（３）とを備え、光検出器（３）への後方散乱される光の強度を近接度の尺度として利用することにより、第１の物体（目標物）と第２の物体（基準物）との間の近接度を検出するための装置を提供する。
【解決手段】目標物（２）は、焦点面（７）を有し光源（１）により照明される光学デバイス（４）を含む。光源（１）からの光線の軸と光検出器（３）への後方散乱による光線の軸とは互いに非常に接近し、ほぼ平行又は一致する部分を有する。近接度は目標物（２）と、ほぼ焦点面に位置する基準物（６，８）との間の間隔（相対位置）に相当する。 （もっと読む）

【課題】タービンブレードの振動応答を測定する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、複数のタービンブレード１０６のうち、少なくとも１つのタービンブレードの後縁部表面に対して約＋１５度又は約−１５度の範囲で実質的に平行な、少なくとも１つのプローブチップ光学表面を特徴とする光プローブ１１４を取り付けるステップと、複数のタービンブレード１０６のうち少なくとも１つのタービンブレードの後縁部表面に向かって光を導くステップと、複数のタービンブレード１０６のうち少なくとも１つのタービンブレードから反射される光を受け取るステップと、少なくとも部分的に反射光に基づいて、複数のタービンブレード１０６のうち少なくとも１つのタービンブレードの相対位置を判定するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】基板上の膜厚を測定可能な検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、表面に薄膜が設けられたウェハＷを支持するステージ１０と、ステージ１０に支持されたウェハＷの表面に照明光を照射する照明系２０と、照明光が照射されたウェハＷの表面からの光を検出する撮像装置３５と、撮像装置３５により検出された光の情報から薄膜の膜厚を測定する膜厚算出部５０と、照明光の実際の波長を測定する画像処理部４５とを備え、膜厚算出部５０は、画像処理部４５により測定された照明光の実際の波長を用いて、撮像装置３５により検出された光の情報から膜厚を求める。 （もっと読む）

【課題】観察対象物と内視鏡遠位端部との距離を表示することが可能な内視鏡装置を得る。
【解決手段】初期設定装置は、内視鏡スコープ２０の遠位端部２１を固定する固定部５１と、ターゲット５２と、固定部５１及びターゲット５２が取り付けられる基部５３とを主に備える。遠位端部２１からターゲット５２までの距離がｘｉであるとき、レーザ輝点Ｌｉがターゲット５２上に現れ、遠位端部２１からターゲット５２までの距離がｘｉｉであるとき、レーザ輝点Ｌｉｉがターゲット５２上に現れ、遠位端部２１からターゲット５２までの距離がｘｉｉｉであるとき、レーザ輝点Ｌｉｉｉがターゲット５２上に現れる。画像におけるターゲット５２の中心点Ｐから輝点の中心までの距離を用いて、遠位端部２１の先端からターゲット５２までの距離を測定する。 （もっと読む）

本発明は、土木構造物のための可撓性ストリップ（１）に関し、この可撓性ストリップは、縦軸に沿って縦方向に延びることができ、構造物が変形および／または温度に関して位置を特定し測定値を得ることを可能にする少なくとも１つの光ファイバ（２０）を備え、前記光ファイバ（２０）が、実質的に縦軸に沿って配置されるとともに、実質的に縦軸に沿って少なくとも部分的に強化された連続強化繊維（３０）の熱可塑性ポリマーマトリックスによって取り囲まれ、実質的に縦軸に沿って延びる連続強化繊維の質量ＷＣＦが、光ファイバの質量ＷＯＦの１０倍以上である。本発明はまた、計測デバイスおよび関連する方法に関する。
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【課題】絞りが組みつけられた状態で容易に且つ確実に絞りの開口の形状を検査することができる絞りの検査方法及び内視鏡装置を提供すること。
【解決手段】被検体の像を取得するための光学系を有する光学機器に組みつけられた絞りを検査する絞りの検査方法であって、検査光を出射する検査光源を前記絞りよりも前記光学系の像面側に配置し、前記検査光を前記絞りの開口を覆う範囲に照射する照射工程Ｓ２と、前記絞りを通過した前記検査光により前記開口の像を撮像し、前記撮像された像の形状に基づいて前記絞りを検査する検査工程Ｓ５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン投影を実現する。
【解決手段】計測装置と照明装置、撮像装置の位置関係を較正するキャリブレーションを行う（Ｓ１０１）。二次元パターン光の投影面内での輝度の不均一補正処理を行い（Ｓ１０２）、低下したピーク輝度を補償するための光源光量の調節を行う（Ｓ１０３）。計測対象物に二次元パターン光を投影し（Ｓ１０４）、反射された二次元パターン光を撮像装置で撮像する（Ｓ１０５）。撮像装置側の影響で生ずる二次元パターン光の輝度変化及びパターンエッジの位置ずれを、取得した二次元パターン画像に対し不均一補正処理を適用して補正する（Ｓ１０６）。補正処理した二次元パターン画像を基に、計測装置は計測対象物のそれぞれの測定点における奥行き方向の距離情報を取得して距離計測処理を行う（Ｓ１０７）。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射して、その反射光のパワースペクトルのピーク位置から多層膜を構成する層の膜厚を算出する膜厚測定装置では、膜厚が同程度の層が複数あると、ピークが重なって層を同定できないという課題があった。本発明は、膜厚が同程度の層が複数あっても各層の膜厚を測定できる多層膜の膜厚測定方法及び装置を提供することを目的にする。
【解決手段】膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。多層膜とミラー板の距離を多層膜の厚さより厚くすることにより、ミラー板で反射されたピークと反射されないピークが分離でき、正確に膜厚を測定できる。 （もっと読む）

【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）

【課題】熱間プレスされた加熱状態にある被加工物を撮像し、これにより得た画像から被加工物の寸法を測定する場合に、当該寸法を精度よく測定できる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】熱間プレスされた加熱状態にある被加工物１の寸法を測定する寸法測定装置１０。被加工物１にパルスレーザを照射するレーザ照射装置３と、パルスレーザが被加工物１に照射された時に、被加工物１を撮像するように作動する撮像装置５とを備える。撮像装置５は、パルスレーザの照射方向と異なる方向から被加工物１を撮像するように配置される。 （もっと読む）

【課題】 光干渉信号出力をセンサ信号とするセンサでは、光干渉信号方式として、ホモダイン干渉方式があり、構成は簡単であるが、その入力となる参照光と計測光との位相関係が同位相または逆位相付近にある時にその干渉出力の歪が大きくなり、そこを避けるためには、干渉計の光路長に関係する部品には、参照光と計測光の位相関係を良好に保つために、高い工作精度と、熱膨張対策が必要であった。
【解決手段】干渉計の入力となる参照光の位相を９０度変化させて、２つの位相の参照光とすることにより、一方の位相の参照光と計測光との位相関係が同相または逆相付近にあった場合には、他方の参照光と計測光の位相関係は９０度近く異なることになり、必ずどちらかが歪の少ない干渉出力となることにより、前後の干渉出力から判別処理し、センサ出力とすることで、光部品の工作精度や熱膨張による位相変動を許容した光ファイバセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】 正確かつ簡単にディストーションを求めることができ、正確な面形状を測定することができる面形状計測装置を提供すること。
【解決手段】 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、被測定面で反射した測定光と参照光とが干渉することで形成される干渉縞に基づいて、被測定面の形状を測定する面形状測定装置は、干渉縞を撮像する第１の撮像素子と、測定光および参照光を第１の撮像素子に導く光学系と、光学系を経由していない光源からの光の光量分布を測定する第２の撮像素子と、第１の撮像素子で撮像した干渉縞に基づいて被測定面の形状を算出する算出手段とを備える。まず、光学系を経由した光源からの光の光量分布を、第１の撮像素子で測定する。そして、第１の撮像素子で測定した光量分布と第２の撮像素子で測定した光量分布とに基づいて、算出手段で算出される被測定面の形状を補正する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つの測定方向で互いに可動自在で配置されている二つの対象物の、位置を検出するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置には光源および、光源から送られた光線を二つ以上の分光光束に分割する分光手段を含んでいる。分光光束は、少なくとも二つの分光光路を通過する。分光光路からの干渉分光光束が、多数の光電式検知要素に当たるので、変位に従う位置信号を検知要素を介して検出することができる。光源は、ファイバ格子逆カップリング手段付き半導体レーザとして構成されている。 （もっと読む）

【課題】画像検査装置において、被検体からの光を複数の波長帯域に分けて画像を取得して画像検査を行う場合に、簡素な構成により高精度な検査を行うことができるようにする。
【解決手段】画像検査装置５０は、可視光Ｌ_１と、赤外光Ｌ_２とを、導体パターン２に照射する照明部４と、導体パターン２で反射された可視光Ｌ_１および赤外光Ｌ_２を結像する撮像光学系６と、撮像光学系６によって結像された像を撮像する撮像素子８と、導体パターン２と撮像素子８との間の光路上で進退可能に設けられ、可視光Ｌ_１の透過を阻止するとともに赤外光Ｌ_２を透過させる可視光カットフィルタ７ｂと、導体パターン２と撮像光学系６との間の光路上で進退可能に設けられ、赤外光Ｌ_２の透過を阻止するとともに可視光Ｌ_１を透過させる赤外光カットフィルタ７ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ゴースト光に起因した干渉計の測定制度の低下を抑制することができる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計は、光源と、前記光源から射出された光のうち第１偏光成分を参照光として反射し、第２偏光成分を測定光として透過する第１偏光ビームスプリッタと、前記光源と前記第１偏光ビームスプリッタとの間に配置された複屈折材料の素子と、前記第１偏光ビームスプリッタを透過し被検面である反射面で反射され前記第１偏光ビームスプリッタを透過した測定光と前記第１偏光ビームスプリッタで反射された参照光との干渉光を受光する受光素子と、を備える。前記参照光と前記測定光とは、前記第１偏光ビームスプリッタと前記受光素子との間で前記複屈折材料の素子を通過する。 （もっと読む）

【課題】高輝度パルス光源構成を提供する。
【解決手段】高輝度光源構成は、長寿命を有し高速度で変調することができる。本構成は、アクチュエータに取り付けられた可動部材と、可動部材に関連する発光蛍光体領域と、放射光出射領域に対し固定された点において発光蛍光体領域を照射する入射光源と、可動部材アクチュエータと入射光源を制御する光源制御装置と、を含む。入射光源（例えばレーザー）は照射スポットに高輝度入射光を供給し、発光蛍光体領域に高輝度出射光を放射させる。発光蛍光体領域は消光と光退色を低減するように照射スポットに対して動かされ、これにより光源構成の寿命を延ばす。蛍光体領域は広帯域光を放射することができる、および／またはそれぞれのピーク波長を放射する蛍光体を有するそれぞれのサブ領域を含むことができる。 （もっと読む）