【課題】この発明は塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の量を精度よく測定することができる塗布装置を提供することにある。
【解決手段】基板に溶液を供給塗布する溶液の塗布装置であって、
溶液を吐出するノズルを有する塗布ヘッド２２と、塗布ヘッドに設けられ電圧が印加されることで作動してノズルから上記溶液を吐出させる圧電素子と、ノズルから吐出された溶液の長さを検出する測定装置４１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、共焦点撮像系によりZスキャン機構無しで物体の表面形状計測を可能とした焦点面傾斜型共焦点表面形状計測装置において、高速計測時に著しく露光時間が短くなることから三次元形状計測で異常をきたす問題が生じる為、露光時間を多く確保して適度な光量を得た画像を取得し、正常に三次元形状計測を可能とすることを目的とする。
【解決手段】
焦点面傾斜型共焦点表面形状計測装置の移動機構による物体の移動と微小シフト機構によるスポットの移動とを等速とすることにより、共焦点撮像系が物体に対して同じ箇所を長時間露光可能なように構成し、三次元形状計測を行う。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、偏光方向の調整をすることなく良好な画質の断層画像を低コストで取得する。
【解決手段】光断層画像化装置１００は、測定光Ｌ１を測定対象Ｓに照射させて所定の走査周波数で走査させて測定対象Ｓの断層画像を取得する。光断層画像化装置１００における、光源ユニット１０内または光源ユニット１０から合波手段４までの光Ｌ、測定光Ｌ１、参照光Ｌ２、反射光Ｌ３の光路の少なくとも１つに、時間的に平均したときに出力光が無偏光となるように入力光の偏光状態を走査周波数と同等もしくはそれ以上に高い周波数で変化させる無偏光化手段７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工される被加工対象物の表面の高さの変動に対応して、表面に加工用レーザを結像もしくは集光する光学素子の高さ位置を制御し、常時焦点を合わせる。
【解決手段】加工用レーザを被加工対象物５の表面に集光する対物用光学装置６と、被加工対象物５の加工用レーザが照射される部位の高さ位置を測定する高さセンサ１を備える。被加工対象物５の表面の高さ位置の変動に対応して対物用光学装置６を上下に移動し、常時焦点を被加工対象物に合わせる。高さセンサ１は、対物用光学装置６の加工用レーザの移動方向の先側に配置され、加工用レーザが照射される前に高さ位置を測定する。加工用レーザの照射位置が測定位置に達する毎に、測定された高さ位置に対応して対物用光学装置６を移動する。これにより、高さ位置の測定と対物用光学装置６の移動を独立して行え、加工用レーザの移動速度を速くしても、追随して対物用光学装置６を移動できる。 （もっと読む）

【課題】軌道とプラットホーム端部との距離を精度良く測定でき、かつプラットホーム端部の表面形状も測定できる操作性に優れた測定装置を提供する。
【解決手段】 軌道１０上を走行可能な台車５１と、台車５１の走行距離を測定し、一定走行距離毎に電気信号を出力する距離測定手段（走行距離センサ５７、コントローラ６５）と、台車５１上に設置され、前記電気信号が出力される毎にプラットホーム２０の端部の、軌道１０と直交する方向の縦断プロファイルを測定する非接触位置センサ６４と、データ収集装置７０とを具備する。データ収集装置７０は測定データから軌道１０に対する前記端部の距離を算出する手段と、その算出値と管理値とを比較する手段と、比較結果を表示する手段と、測定データ及び比較結果を記憶する手段を備える。 （もっと読む）

【課題】表示領域の大型化を図ることが可能な光学式位置検出装置を提供すること。
【解決手段】画像を表示するための液晶ディスプレイ１と、液晶ディスプレイ１を挟んで互いに平行に配列された複数の発光素子２ａ〜２ｔおよび複数の受光素子３ａ〜３ｔと、複数の発光素子２ａ〜２ｔおよび複数の受光素子３ａ〜３ｔを駆動制御するための制御手段４と、を備えたタッチパネルＡ１であって、制御手段４は、複数の発光素子２ａ〜２ｔのうち互いに隣り合う２つの発光素子２ｆ，２ｇを同時に発光させ、複数の受光素子３ａ〜３ｔのうち発光素子２ｆ，２ｇと対面する１つの受光素子３ｑによって２つ発光素子２ｆ、２ｇからの光が受光されないときに、２つの発光素子２ｆ，２ｇと受光素子３ｑとの間に指Ｆｇが存在すると判断する構成とされている。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面に存在する加工部が欠陥の有無の判別に与える影響を排除して正確な検査を実施でき、かつ処理の高速化を図ることが可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物の円筒状の表面に対応する２次元画像内の濃度値に基づいて欠陥の有無を判別する表面検査装置において、２次元画像上に出現すべき加工部の像２０３ａ〜２０３ａ、２０４を、加工部毎に別々の基準画像２１１、２１２として保持するとともに、表面の軸線方向に相当する軸線相当方向における加工部の像の位置ｙ１、ｙ２、及び表面の周方向に相当する周相当方向に関して同一の加工部の像が存在すべき個数を基準画像２１１、２１２と対応付けて保持する。基準画像、該基準画像に対応付けられた位置及び個数に基づいて、２次元画像上で欠陥判別の対象から除外されるべき領域を特定し、その特定された領域外における画素の濃度値に基づいて欠陥の有無を判別する。 （もっと読む）

本発明による装置及び方法を提供することが可能であり、少なくとも１つの第１電磁放射線を含む特定の放射線が少なくとも１つのサンプルに向けられ、且つ、少なくとも１つの第２電磁放射線が基準に向けられる。特定の断面幅を有する第１電磁放射線をサンプルの少なくとも一部分に印加し、少なくとも１つの第３電磁放射線を生成することが可能である。特定の断面幅に対する０．５の乗数と１００の乗数との間の所定の乗数に相当する距離について特定の軸に沿って、サンプルの少なくとも一部分内で第１電磁放射線を並進運動させることが可能である。第１電磁放射線に関連する第３電磁放射線と第２電磁放射線に関連する少なくとも１つの第４電磁放射線との間において干渉を検出することが可能である。更には、第１電磁放射線の非対称断面エリアを提供することが可能である。
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【課題】簡便に結晶方位の同定が可能であって、しかも微細な結晶粒に対して適用可能であり、被検体に含まれる添加物の影響を受けにくい結晶方位の同定方法及び結晶方位同定装置を提供する。
【解決手段】圧子を結晶体における所定の結晶粒に押し込んで圧痕を形成する圧痕形成手段と、圧痕の形状を計測する圧痕形状計測手段と、圧痕の形状から結晶方位を同定する解析手段とを備え、解析手段では、圧子で形成される理想的な圧痕の形状と、圧痕形状計測手段で計測した圧痕の形状との差に基づいて結晶方位を同定する。 （もっと読む）

【課題】光半導体素子において、発光スペクトル幅が広く、かつ出力が高い光を発生させる。
【解決手段】光半導体素子１には、光導波路型発光領域である導波路２、３、４と、出射用光導波路である導波路５とが形成されている。導波路２、３、４の長さＳ１は互いに等しいように構成されている。導波路２、３、４で発生した各光は、導波路５に入射して合波され、合波された光は、導波路５により外部に出射される。 （もっと読む）

【課題】
大型液晶用マスク基板、大型機械加工面、大型定盤基準面などの長尺での真直度測定では、超精密駆動基準軸や超精密水準器、レーザー反射式コリメータなどが使用されている。
特に、大型マスク基板での１ｍを越す長尺測定では超精密駆動基準軸は高価格であり、水準器やコリメータでは被測定物との接触が問題となる。そこで、低価格で非接触式の高精度測定システムが求められている。
【解決手段】
本発明は、従来の遂次3点測定法の欠点である多数点測定での累積誤差の増大、測定ピッチの制限を改良した。遂次３点測定での累積誤差は測定点数の２乗に比例している。本発明では長尺の全長を数ブロックに分割し、ブロック間を３個のセンサー21,22,23による従来の３点法で計測し、ブロック内は４個目のセンサー24で同時信号処理にて測定し、累積誤差の大幅な軽減化と測定ピッチの任意化が可能となった。
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【課題】鏡面反射する表面の形状を高精度に測定することができる３次元形状測定装置及び３次元形状測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】測定対象物Ｔの鏡面反射する表面Ｓの形状を測定する３次元形状測定装置１００であって、波状の濃度分布を有するパターンを表示する表示手段１０と、表示手段１０に表示されるパターンをシフトするシフト手段と、表示手段１０に表示されるパターンを写し出した表面Ｓを異なる２方向から撮影する撮影手段２０Ａ，２０Ｂと、撮影手段２０Ａ，２０Ｂが表面Ｓの重複した範囲を撮影して得た画像データの対応付けにより当該範囲の表面Ｓの形状を求める表面形状解析手段と、を備える３次元座標計測装置１００。 （もっと読む）

【課題】直線道路やカーブ道路におけるレーンマークを認識することができる車両用レーンマーク認識装置を提供する。
【解決手段】今回のサイクルでの車線中心線の位置や形状、車線幅の予測結果を用いて、レーンマークに対応するデータを抽出し（ステップＳ４）、この抽出したデータの車軸方向成分（ｘ軸の成分）を補正して車線中心線に相当するデータを生成し（ステップＳ５）、この生成したデータを用いたハフ変換処理により、車線中心線の位置や形状を算出する（ステップＳ６）。続いて、ステップＳ４で抽出したデータの車線中心線からの相対位置の度数分布を算出し（ステップＳ７）、この度数分布に対して自己相関関数を演算して、道路の車線幅を算出する（ステップＳ８）。ステップＳ９では、カルマンフィルタによって、今回のサイクルや数サイクル後における車線中心線の位置や形状、車線幅を推定／予測する。 （もっと読む）

【課題】 対象物を光ストライプで照射し、対象物表面から反射した光を検出することで、対象物の表面上の複数の点からデータを捕捉するための走査プローブ（２）に関する。走査プローブは、（ａ）光ストライプ（５５）を生成および発するためのストライプ生成手段（１４）、（ｂ）対象物表面から反射した光ストライプを検出するための画素の配列を有する画像センサを備えるカメラ（１６）、（ｃ）カメラ（１６）によって検出された強度に応じて、フレームの取得中に光ストライプ（５５）の強度を調節するための手段を備える。ストライプ長を修正する手段、処理手段のための隔離された区分室、およびスキャナのための取り付け可能なダストカバーを有するスキャナにも関する。 （もっと読む）

各部分に対して所定のレンズ後焦点領域が照明され、照射光と物体（ＯＢ）との間の相互作用によって試料光が発生されるように、異なる波長を有する照射光を該物体（ＯＢ）の種々の表面部分に向ける照明モジュールと、検出モジュールであって、該検出モジュールがスキャナ（５）を用いて試料光を検出光路の中に向け、かつレンズ後焦点領域の各被検出後焦点に対して該検出光路の中へ向けられた試料光のそれぞれ１つの別の波長を平面内で共焦点に結像し、共焦点に結像された試料光の強度を波長に依存して検出し、かつそこから物体（ＯＢ）の対応する表面部分の位置を導出し、スキャナ（５）と該平面との間に配置され、かつ試料光が通り抜ける調整可能な色波長誤差を含むカラーモジュール（９）を有し、その結果、該色波長誤差の変化によって被検出後焦点が調節可能であることによって、時間的に相前後して各部分の試料光を検出する検出モジュールとを備える、該物体（ＯＢ）の表面輪郭を測定するための顕微鏡が提供される。
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【課題】試料の測定対象面に段差が存在する場合、反射率の異なる部位が存在する場合、または透過面が存在する場合においても、これらの影響を受けずに測定を行うことができる共焦点走査型光学顕微鏡システムを提供する。
【解決手段】共焦点走査型光学顕微鏡システムは、試料の測定対象範囲となる領域を複数に分割した領域である分割領域と、該分割領域に対応して設定される該分割領域についての光軸方向に関する観察範囲である分割領域観察範囲と、を設定し、相対位置変位手段によりその各分割領域観察範囲を試料を変位させて、該分割領域観察範囲内で取得された２次元画像の各画素データから代表となる画素データである代表画素データを取得し、その代表画素データに基づいて、観察画像を構築することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰを製造する際に、基板上の突起の検出を高精度に行うことができる欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】基板を載せるステージ２２と、そのステージ２２の上面に対して平行にレーザー光を照射するレーザー照射装置２３およびレーザー光を受光する受光装置２４を有する検出装置とを備えた欠陥検査装置２１を用い、基板上に誘電体層が形成されてなるＰＤＰ用基板２０をステージ２２上に載せて、レーザー照射装置２３からレーザー光を照射しながら、ＰＤＰ用基板２０がレーザー照射装置２３と受光装置２４との間を通過するように、少なくともＰＤＰ用基板２０または検出装置を移動させてレーザー光を受光装置２４で受光し、その受光による信号レベルの変化から突起の大きさを求めるステップ１と、前記突起の大きさを用いて良否判定を行うステップ２とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の反りを測定する方法を提供する。
【解決手段】本基板の裏面の反り測定方法は、基板検出ステップＳ１と最適平面算出ステップＳ５と、算出ステップＳ６とを含む。また、本基板の裏面の反り測定方法において、基板検出ステップＳ１後、最適平面算出ステップＳ５前に、ノイズ除去ステップＳ２および外周部除去ステップＳ３、外周部除去ステップＳ３および平滑化ステップＳ４、またはノイズ除去ステップＳ２、外周部除去ステップＳ３および平滑化ステップＳ４を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】位相シフトデジタルホログラフィを用いた変位計測において、3次元変位計測を一挙に且つ短時間で行う手法を提供する。また、変位計測手法によって得られた変位分布からひずみ分布を算出する手法も提供する。
【解決手段】a) 計測物体に３つの異なる方向から同一波長の物体光を照射し、b) 物体光と同一波長を有する３つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ複数枚、２次元撮像素子で撮影し、c) フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することにより３つの物体光による干渉像を分離し、d) 各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することにより計測物体の３次元変位を計測する。 （もっと読む）

【課題】外部共振器型の波長可変レーザ装置において、小型化とともに、高速かつ安定した波長掃引を可能にする。
【解決手段】レーザ装置１０は、半導体レーザ媒質１１と、半導体レーザ媒質１１から射出した光を波長分散する分散素子である回折光学素子１３と、波長分散された光が入射される空間変調素子１５とを備える。空間変調素子１５は、制御信号に応じて光を変調する複数の画素１５ａを有し、波長分散された光の一部を選択的に反射して帰還させて戻り光とする。半導体レーザ媒質１１と空間変調素子１５が外部共振器の両端部を構成し、半導体レーザ媒質１１の射出端面１１ａから、戻り光の波長のレーザ光Ｌ０が射出される。 （もっと読む）