【課題】横分解能が極めて高く、高精細、高コントラストの干渉波形が得られるレーザ走査干渉計を提供する。
【解決手段】レーザ光源１２からのレーザ光をコリメータレンズ１３で平行レーザ光束Ｂとし、走査ミラー１５で走査光Ｂ１〜Ｂ３に変換し、テレセントリックｆθレンズ１６を通して参照面１７ａ及び被観察面１８ａに照射する。参照面１７ａ及び被観察面１８ａからの反射光は、テレセントリックｆθレンズ１６で反射平行光束Ｂｒとなり、走査ミラー１５で反射し、ビームスプリッタ１４を通過して結像レンズ２０で集光され、ピンホール２１ａを通過して受光素子２２に入射する。受光素子２２で反射平行光束Ｂｒの光量を計測して演算手段を含む制御部２３に送信し、制御部２３で受光素子２２から得た光量信号を時系列データとして取得し、データ処理を行って表示手段２４に明暗データからなる干渉波形を出力する。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作で内径を測定することができる内径測定装置を提供すること。
【解決手段】内径測定装置１によれば、プリズム４の反射面４ａを、レーザ変位計３から発せられるレーザ光の軸線上に固設したことによって、測定対象物２０を変更したり、測定する内周面の形状が変化した場合であっても、レーザ変位計３およびプリズム４の配置を調整するという操作が不要となり、簡単な操作で内径Ｄを測定することができる。また、プリズム４の反射面４ａは、支持体６から突出するように配設されているので、測定対象物２０の内周面２０ａの径が小さく、内周面２０ａの中に測定部２全体を案内できない場合でも、プリズム４の反射面４ａを案内して、内周面２０ａの内径Ｄを測定することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶媒の蒸散によって発生する各着弾ドットにおける体積の測定誤差を極力抑えることができる着弾ドットの体積測定方法を提供することを課題としている。
【解決手段】固形成分とその溶媒とから成る機能液を導入したインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド１により、検査シート１６上に機能液滴を吐出着弾する検査吐出工程と、吐出着弾した機能液滴である着弾ドットを、画像認識して体積を測定する体積測定工程と、を備えた着弾ドットの体積測定方法であって、体積測定工程における前記着弾ドットの体積測定は、着弾ドットの前記溶媒の蒸散が微量化する乾燥安定化状態を待って行われる。 （もっと読む）

【課題】印刷マスクに対する高精度の検査を容易に行うことが可能な印刷マスクの検査装置及び印刷マスクの検査方法を提供する。
【解決手段】印刷マスクの検査装置は、電子部品を基板に実装する際に用いる印刷マスクに対する検査を行う。画像取得手段は、スキャナによって印刷マスクに形成された複数の貫通孔の画像を取得する。そして、計測手段は画像に基づいて複数の貫通孔に対する計測を行い、表示制御手段は計測結果を表示する。上記の印刷マスクの検査装置によれば、比較的安価な市販のスキャナなどを用いて、容易に、印刷マスクに形成された複数の貫通孔に対して高精度の計測を行うことができる。具体的には、微小なサイズの貫通孔に対して高精度の計測を行うことができると共に、多数の貫通孔に対して短時間で計測を行うことができる。よって、印刷マスクに対する検査を精度良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系以外の光学系における観察光学系によって、干渉光学系と干渉光学系以外の光学系におけるサンプルの高さ情報の取得範囲を設定でき、サンプルの３次元形状画像を短時間に容易に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 フィルタ切換機構１９は、バンドパスフィルタ２１を光軸上に配置し、第１の撮像素子１６は、可視光による光学顕微鏡観察像を撮像し、制御本体部５１は、光学顕微鏡観察画像を用いてサンプル１７の観察位置の調整と、フォーカス位置の調整と、干渉光学系と光学顕微鏡光学系の両方の高さ情報の取得範囲（取得範囲Ｄ１，Ｄ２）を設定する。 （もっと読む）

【課題】 共焦点レーザ走査型顕微鏡における全焦点画像と顕微干渉計測法における高さ画像を効率よく取得することで、試料の３次元形状画像を短時間に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、試料１７を載置するステージ２００と、試料１７の上方に配置される干渉対物レンズ３００と、共焦点レーザ走査型顕微鏡における光学系４００ａと、顕微干渉計測法における光学系４００ｂと、ステージ２００と、干渉対物レンズ３００を搭載する顕微鏡本体４００と、試料１７の３次元形状を観察する際に画像処理や顕微鏡本体４００を制御する制御部５００と、を有し、例えば干渉対物レンズ３００を連続して光軸に沿って移動させ、相対距離を連続的に変え、レーザ用受光素子１１と撮像素子１６から出力される出力信号を最適なタイミングで取得する。 （もっと読む）

【課題】ワークに形成された穴の実測された位置と設計上の位置とのずれを高精度に測定できる穴位置確認システムを提供すること。
【解決手段】穴位置確認システム１は、ワーク表面を走査し走査線上の複数の点の位置を測定する測定ロボット１０と、複数の点を実測点として仮想空間に表現する実測データ仮想化部２１と、穴の設計上の位置を設計位置として仮想空間に表現する設計データ仮想化部２２と、穴の設計上の大きさに略等しくかつ実測点のうち端部に位置するものに近接する第１の近接円を仮想空間に形成する第１の近接円形成部２３と、第１の近接円を中心とする許容範囲を仮想空間に形成する許容範囲形成部２４と、許容範囲に含まれる実測点のうち第１の近接円に近接するものに近接する第２の近接円を仮想空間に形成する第２の近接円形成部２５と、第２の近接円を実測位置とし、実測位置と設計位置とのずれを算出する位置ずれ算出部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】非接触で2点間の高さの差を測定可能な光干渉式測定装置を提供する。
【解決手段】照射光を発する光源114、照射光を第1参照光と第1検査光に分割する第1半透鏡41、第1参照光と第1測定点91に照射されて第1測定光路長を進んだ第1検査光とを干渉させ、第1干渉縞を形成させる第1光学素子31、照射光を第2参照光と第2検査光に分割する第2半透鏡42、第2参照光と第2測定点92に照射されて第2測定光路長を進んだ第2検査光とを干渉させ、第2干渉縞を形成させる第2光学素子32、第1干渉縞と第2干渉縞の合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子153、合成干渉縞から、第1測定光路長と第2測定光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュール310、及び干渉縞成分から、第1測定点91と第2測定点92の高さの差を算出する算出モジュール330を備える。 （もっと読む）

【課題】反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを高速で測定することができる表面測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系２を有した表面測定装置１であって、この共焦点光学系２の対物レンズ２７と結像レンズ２５との間に、この対物レンズ２７と同軸に設けた遮光板２６と、この対物レンズ２７と同軸に、被測定面６ａにレーザ光を照射するレーザ発振器２０と、前記対物レンズ２７を介して前記被測定面６ａの像の輝度を検出する光検出手段２１と、この共焦点光学系２の焦点面を被検物に垂直に相対移動させるピエゾ素子２５ａとを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】測定対象物が横断面形状において両端部が低くなる或いは高くなる曲線を有する長丈材である場合にも、表面欠陥の検出精度を高める。
【解決手段】周期的に変調された線状レーザ光を測定対象物２の表面に照射するレーザ装置１０と、測定対象物２からの反射光を撮像する遅延積分型カメラ３０とを用いて、測定対象物２に対する線状レーザ光の照射位置を連続的にずらしながら、遅延積分型カメラ３０により測定対象物２からの反射光を撮像して光切断画像を出力し、測定対象物２の表面欠陥を検出する表面欠陥検査システムであって、測定対象物２を含んで撮像された輝度画像に基づいて、測定対象物２のエッジ位置を検出するエッジ位置検出５１１と、エッジ位置検出部５１１で検出されたエッジ位置に基づいて、遅延積分型カメラ３０で得られた画像にセンタリング処理を行うセンタリング処理部５０７とを備える。 （もっと読む）

【課題】高コントラストな干渉信号を信号処理により得る。
【解決手段】被測定面の形状を測定する形状測定装置２００は、被測定面からの測定光と参照光とによって形成される干渉光を前記測定光または前記参照光の光路長を変更しながら光電変換素子で検知する干渉計１０と、前記光電変換素子で検知された第１干渉信号をフーリエ変換して位相分布および振幅分布を求め、該振幅分布を整形した後、該位相分布および該整形された振幅分布を逆フーリエ変換して第２干渉信号を求め、該第２干渉信号に基づいて前記被測定面の形状を決定するコンピュータ１００とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光中の対象光路と参照光路との間の光路長差の変動量を抑制して、測定対象の高さ方向への走査速度にかかわらず安定した干渉像の撮像を可能とし、精度良く測定対象の表面形状を計測する。
【解決手段】表面形状計測装置の駆動信号発生回路９が制御部１０から与えられるｚステージ駆動信号と同期信号と露光時間とに基づいて、参照光路と対象光路との間の光路長差の露光中の変動量が必要高さ分解能以下になるような、上記同期信号と同期する参照ミラー駆動信号を作成して、作成された参照ミラー駆動信号を参照ミラーコントローラ８に与え、参照ミラーコントローラ８が該参照ミラー駆動信号に基づいて参照ミラー４３を駆動し、制御部１０が、カメラ５によって撮像された撮像データに基づいて、対象光路方向の干渉強度変化を求め、該干渉強度変化を分析して、測定対象２の表面高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】被検眼の画像を取得するときに被検眼を効果的に固視させる。
【解決手段】眼底観察装置1（光画像計測装置）は、低コヒーレンス光Ｌ０を眼底Ｅｆに向かう信号光ＬＳと参照ミラー１７４に向かう参照光ＬＲとに分割し、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳと参照ミラー１７４を経由した参照光ＬＲとを重畳させて干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣを検出して断層画像を形成する。放射状の複数の走査線Ｒｉに沿って信号光ＬＳを走査することにより、放射状の複数の断面における断層画像Ｇｉが得られる。３次元画像形成部２３１は、走査線Ｒｉの間隔が閾値以下である領域における３次元画像を形成する。また、眼底Ｅｆの領域を指定すると、この指定領域のサイズに応じた本数の走査線Ｒｉを自動設定する。また、走査線Ｒｉの本数を指定すると、その指定本数に応じた領域の３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】着弾ドットの測定を正確かつ効率良く行うことができる着弾ドット測定方法および着弾ドット測定装置を提供する。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド１７の検査吐出により検査シート上に着弾した機能液滴である着弾ドットＤを、白色干渉計１８１から成る形態測定装置により形状測定する着弾ドット測定方法において、機能液滴吐出ヘッド１７を主走査方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド１７の多数の吐出ノズル９８を、１つずつ時間間隔をおいて検査吐出させる検査吐出工程と、形態測定装置を、機能液滴吐出ヘッド１７に後行し且つ主走査方向に同速で移動させながら、多数の着弾ドットＤをそれぞれ形状測定する測定工程と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】導光手段からの干渉光の出射位置と干渉光を受光する受光面との位置関係を容易に調整可能な光画像計測装置を提供する。
【解決手段】眼底観察装置（光画像計測装置）１は、ＣＣＤ１８４の受光面に対する計測光の照射状態（照射位置、照射方向）を特定する照射状態特定部２１１と、特定された計測光の照射状態に基づいて光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａの位置や向きを変更するファイバ端駆動機構２４４を備え、それにより、光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａとＣＣＤ１８４の受光面との相対的な位置や方向を自動的に変更することができる。このようにファイバ端１６５ａと受光面とを適正な位置関係に配置させた状態で眼底Ｅｆの計測を実施する。 （もっと読む）

【課題】ハーフミラーにより照明光を照射し、かつ被検査体からの光を透過光として観測する装置において、観測したい透過光以外のノイズを効率的に除去する。
【解決手段】被検査体の形状を光学的に測定する装置であって、被検査体に照明光を照射する照明光源と、前記照明光のうち所定の偏光成分のみを取り出す第１の偏光素子と、前記照明光を反射して被検査体に照射するハーフミラーと、前記ハーフミラーと被検査体との間に設置された第２の偏光素子と、被検査体からの光を撮像する撮像手段と、撮像手段により得られた被検査体の画像データを記憶および画像処理する処理手段とを備えることを特徴とする形状測定装置。 （もっと読む）

【課題】
測定のためにコストや手間をかけず、移動物の形状及び速度等を測定する。
【解決手段】
地面と平行な面を照射する第１のレーザ測距装置および測定領域内を斜めに照射する第２のレーザ測距装置から測拒データを得て、それら測拒データを基に物体の３次元形状を測定する。物体の移動に伴い、第２のレーザ測拒装置から得られたデータを用いて物体の形状を計算し、第１のレーザ測距装置から得られたデータを用いて物体の位置および速度を計算する。また時間経過に伴う物体の形状に関するデータを用いて物体の表面形状を計算する。 （もっと読む）

【課題】基板に焦点が合っているか否かを検出するための煩雑かつ複雑な部品を必要としない方法及び装置を提供する。
【解決手段】基板がレンズのスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを検出するため、スキャトロメータの光学システムの後側焦点面の前後において、所定値以上の放射の断面エリアを検出する。好ましくは、後側焦点面の前後にある検出位置を、反射した放射のパスに沿って後側焦点面から等距離におくことによって、基板がスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを単純な比較により判断することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤのようにパターンを可変的に表示するパターン表示素子を用いる構成において、被検面の面位置を高精度に且つ安定的に検出することのできる位置検出装置。
【解決手段】 本発明の位置検出装置では、被検面（Ｗａ）上に斜め方向から光束を投射する投射系（１〜８）と、被検面で反射された光束を受光する受光系（９〜１５）とを備え、この受光系の出力に基づいて被検面の位置を検出する。投射系は、パターンを可変的に表示するパターン表示素子（４）と、このパターン表示素子のパターンの像を被検面上に形成するための結像光学系（６，８）と、パターン表示素子への入射光の入射角度を被検面への入射光の入射角度よりも実質的に小さく変更するための入射角変更素子（７）とを有する。 （もっと読む）

第１のモードおよび第２のモードで動作するように設定された干渉計システムを備える装置を開示する。この際、第１のモードは、試験光による試験対象物の異なる照射角に対応する、第１セットの複数の干渉計シグナルを生成し、第２のモードは、試験対象物の異なる表面位置に対応する、第２セットの複数の干渉計シグナルを生成する。干渉計システムに連結される電子プロセッサは、第１のセットの干渉計シグナルを受けるよう設定されており、かつ第１セットの複数の干渉計シグナルから導き出せる情報を試験対象物の複数のモデルに相当する情報と比較して、試験対象物の１つ以上の特徴を測定し、かつ情報を出力するようプログラムされている。一部の実施形態は、解像限界以下の特徴を含む。
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