【課題】
様々な試料の形状を簡便に測定することができる干渉計及び測定方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる干渉計は、レーザ光源１１と、Ｘスキャナ１６と、回転可能に設けられた１／２波長板２０と、Ｙスキャナ２３と、２本の光ビームに分岐するＰＢＳ２６と、一方の光ビームを集光する試料用対物レンズ２７と、他方の光ビームを集光する参照用対物レンズ３０と、参照用対物レンズ３０で集光された光ビームを反射する参照用ミラー３１と、測定光と参照光との合成光を、照明光から分岐する第１の無偏光ビームスプリッタ２２と、合成光の光路中に設けられた１／４波長板４２と、１／４波長板４２からの合成光を第１偏光板５１を介して受光する第１ラインセンサ５２を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】３次元形状測定装置に関する座標系によって表された３次元形状データを支持機構に関する座標系によって表された３次元形状データに変換するための座標変換関数を、作業性および経済性よく取得する。
【解決手段】アーム座標系Ａ１のＺ軸が基準座標系ＳのＸ−Ｙ座標平面に直交する２つの位置ごとに、同Ｚ軸線回りにおける２つの測定位置から基準物体５０を測定し、Ｘ−Ｙ座標平面内における各定点によって定義される円を用いて座標変換関数Ｆ_Ｃ１Ｃ３を計算する。次に、基準座標系ＳのＸ−Ｚ座標平面に直交する連結部２５ｃ，２６ａの軸線回りにおける３つの測定位置から基準物体５０を測定し、Ｘ−Ｚ座標平面内における各定点によって定義される円を用いて座標変換関数Ｆ_Ｃ３Ａ２を計算する。そして、座標変換関数Ｆ_Ｃ１Ｃ３と座標変換関数Ｆ_Ｃ３Ａ２とを用いて座標変換関数Ｆ_Ｃ１Ａ２を計算する。 （もっと読む）

【課題】測定点のアライメント作業を容易に行える安価な測定顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】測定顕微鏡装置は、被検体２１を水平移動させるＸＹステージ２２と、被検体２１を観察する観察光学系１０と、観察光学系１０の対物レンズ１１を上下移動させるＺステージ１５と、対物レンズ１１を介して被検体２１に測定光を照射して合焦を検出する焦点検出系３０と、焦点検出系３０と対物レンズ１１を光学的に結合するハーフミラー１７と、焦点検出系３０による検出結果に基づいてＺステージ１５を制御する信号処理部４１と、Ｚステージ１５による対物レンズ１１の移動量を測定する測定部４２とを有している。さらに測定顕微鏡装置は、焦点検出系３０とハーフミラー１７の間の光路上に配置された２つのウェッジプリズム５１ａと５１ｂと、ウェッジプリズム５１ａと５１ｂをそれぞれ回転可能に保持している回転機構５２ａと５２ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】鋳鉄のシリンダーブロック等の鋳出し文字の認識精度が高く、ライン上の計測許容時間内で計測でき、実際の製造ラインで使用し得るものを提供する。
【解決手段】鋳物の鋳出しによる文字数字の凹凸形状を計測する三次元計測手段と、得られた三次元計測データの高さ方向のデータをグレースケール化処理して二次元画像データに変換後に更に２値化処理を行う画像データ変換手段と、得られた画像データを予め学習した情報に基づき文字数字を判別する文字数字判別手段とを備える。鋳出し文字は、文字表面が黒色で、艶有りや艶無しが混在し、鋳鉄に鋳出しされた文字の影はバックグラウンドと同系色であり、また、鋳出し状態や潰れなどによって文字形状が不安定な文字であるため、測定対象物の表面色、状態に影響を受けずに安定したセンシングが行える光切断法を三次元計測手段として用いた。 （もっと読む）

【課題】伝搬光による光スポットを微小化するとともに、その位置を変位させることができるようにする。
【解決手段】光軸対称で凸の錐体面を光射出面として有する透明な光学素子１０の光射出面１０Ａから、光軸ＡＸに直交する面内で光射出面の断面形状に相似な形状で、光軸から所望の内径と幅とを有する光軸対称な光束部分Ｌ１２を射出させて、光学素子外の光軸上に微小な光スポットＳＰを形成させ、光軸対称な光束部分Ｌ１２の光軸ＡＸからの内径：Ｒと幅：Δのうち、少なくとも光軸からの内径：Ｒを変化させることにより微小な光スポットＳＰの形成位置を変化させる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの端縁を全周にわたって共焦点画像として撮像する共焦点型撮像装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ（１）を支持するウェハステージ（２）は回転テーブル（３）を有し、回転テーブル上に半導体ウェハを支持する。撮像光学系（６）の対物レンズ系（２２）から回転する半導体ウェハに向けてライン状光ビームを投射する。半導体ウェハの端縁は集束性のライン状光ビームにより全周にわたって走査され、半導体ウェハの端縁からのライン状の反射光は対物レンズ系を経てリニァイメージセンサ（２３）により受光される。リニァイメージセンサの各受光素子は個別の光入射面を有するから、コンフォーカル光学系を構成する。従って、半導体ウェハの端縁をその全周にわたって共焦点画像として撮像することができる。 （もっと読む）

【課題】検査時間の長時間化を回避でき、作業の手間を軽減できる光画像計測装置を提供する。
【解決手段】眼底観察装置１（光画像計測装置）は、低コヒーレンス光源１６０からの光を眼底Ｅｆに向かう信号光ＬＳと参照ミラー１７４に向かう参照光ＬＲに分割し、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳと参照ミラー１７４を経由した参照光ＬＲとを重畳して生成される干渉光ＬＣをスペクトロメータ１８０で検出して眼底Ｅｆの断層画像を形成する。更に、参照ミラー１７４を参照光ＬＲの光路方向に移動させる参照ミラー駆動機構２４３と、過去の断層画像に基づく参照ミラー１７４の位置を示す参照ミラー位置情報を記憶する情報記憶部２２５とを備える。制御部２１０は、情報記憶部２２５に記憶された被検眼Ｅに関連する参照ミラー位置情報に基づく位置に参照ミラー１７４を移動させるように参照ミラー駆動機構２４３を制御する。 （もっと読む）

【課題】 移動体ごとに面倒な校正登録作業などの初期設定を要することなく、可動式の走査器を要することもなく、また各発光手段を適正な順序で発光動作させることができ、高い精度と信頼性をもって移動体の位置を検出することが可能な位置検出システムおよびその位置検出システムに用いられる発光装置を提供する。
【解決手段】 光学ビーコン♯１〜♯２６が、自身以外の光学ビーコンから発せられる光を受けるための受光部９を有している。この受光部９の向く方向が本体に対して可変である。 （もっと読む）

【課題】高い確度の眼底の３次元画像を形成可能な技術を提供する。
【解決手段】演算制御装置２００の画像形成部２２０は、眼底カメラユニット１Ａによる照明光の眼底反射光の検出結果を基に眼底Ｅｆの表面画像を形成し、ＯＣＴユニット１５０による干渉光ＬＣの検出結果を基に眼底Ｅｆの断層画像を形成する。制御部２１０は、眼底カメラユニット１Ａによる照明光の眼底反射光の検出タイミングとＯＣＴユニット１５０による干渉光ＬＣの検出タイミングとを同期させる。補正処理部２４０は、ＯＣＴユニット１５０による干渉光ＬＣの検出結果に基づく断層画像の画像位置を、眼底カメラユニット１Ａによる照明光の眼底反射光の検出結果に基づく２次元画像に基づいて補正する。画像処理部２３０は、画像位置が補正された断層画像に基づいて、眼底Ｅｆの３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】測定対象の膜に送光部から測定光を送光すると共に，その反射光を受光部で受光して，反射光の強度スペクトルを検出し，その極大と極小から膜厚を測定する光学式膜厚測定方法においては，測定可能範囲内に極大又は極小のいずれもが位置していないと測定が良好に行えない。
【解決手段】そこで本発明では，上記膜厚測定装置において，送光部６は，測定対象の膜９に対する光の入射角度θを可変に構成すると共に，受光部８の受光角度を上記入射角度の変化に連動して可変に構成した光学式膜厚測定装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】温度変化や振動等の環境に強い光画像計測装置を提供する。
【解決手段】光カプラ４は、直線偏光の低コヒーレンス光Ｌ０を、それと同じ偏光軸方向を有する直線偏光の信号光ＬＳと参照光ＬＲとに分割する。信号光ＬＳは、ＰＭファイバ６により偏光軸方向を保持しつつ被検眼Ｅに導光され、眼底Ｅｒを経由後、このＰＭファイバ６を通じて光カプラ４に戻ってくる。参照光ＬＲは、ＰＭファイバ５により偏光軸方向を保持しつつ参照ミラー１４に導光され、参照ミラー１４に反射された後、このＰＭファイバ５を通じて光カプラ４に戻ってくる。光カプラ４に戻ってきた信号光ＬＳと参照光ＬＲは、互いに重畳されて干渉光ＬＣを生成する。干渉光ＬＣは、スペクトロメータ３０により検出され、その検出信号に基づいてコンピュータ４０が被検眼Ｅの画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】光の副走査方向の走査位置と主走査方向のリニアリティを高精度に測定することを可能とした光学特性測定装置を提供する。
【解決手段】複数の受光部（２１−１〜ｎ：ｎは、任意の整数）は、固定部材（２０）の主走査方向に配列されており、固定部材（２０）を、主走査方向（２８−１）、副走査方向（２８−２）、デフォーカス方向（２８−３）の何れかの方向に位置調整を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より簡易に且つ高精度に計測できる変形／ひずみ計測方法及びその計測装置を提供する。
【解決手段】被測定物２の表面２Ａに密着もしくは近接させたラインスキャナ装置３により撮像した被測定物表面２Ａの画像を取り込み、被測定物表面２Ａの経時前の画像と、経時後の画像から画像解析により変位もしくはひずみを計測し、変位もしくはひずみの計測結果を出力する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの断面輪郭ないし断面形状を短時間で測定できる測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ（１）の中心面（Ｓ）をはさんで両側に共焦点型の撮像装置（１０，１１）をそれぞれ配置する。各撮像装置から測定面内で周期的に振動する走査ビーム又はライン状光ビームを半導体ウェハの端縁（２）に向けて投射する。測定中、対物レンズ（２７，６２）を光軸方向に移動させながら端縁からの反射光を光検出器（３２，６５）で受光し、複数の一次元画像を撮像する。複数の一次元画像情報から、位置検出器により各画素の最大輝度値を発生するＺ軸方向の位置を検出する。そして、信号処理回路（４０）において、Ｚ軸方向の位置情報及び画素の位置のデータについて座標変換して断面輪郭を算出し、２つの断面輪郭を合成して断面形状を出力する。 （もっと読む）

【課題】スペーサの形状にかかわらず、比較的広範囲にわたって、しかも高精度に基板間隔調整用スペーサの高さを測定することが可能な液晶パネルの基板間隔調整用スペーサの高さ測定方法及びその測定装置を提供する。
【解決手段】一対の基板間に間隔調整用のスペーサを介設すると共に、両基板間に液晶を封入した液晶パネルにおいて、一方の基板１１の表面側に間隔調整用のスペーサ２１を配置した状態において、計測用透明板１４をスペーサ２１上に載置する。計測用透明板１４をスペーサ２１に押圧接触させる。計測用透明板１４の載置面と基板１１の表面との隙間距離を光学的手段１２を利用して測定することで基板１１の表面上のスペーサ２１の高さを求める。 （もっと読む）

【課題】 分光光学系で光学部材の位置ずれが生じても、信頼性の高い断層画像や光学表面プロファイルを得る。
【解決手段】 参照光と測定光の反射光とを合成し干渉させる干渉光学系と、得られた干渉光を周波数毎に分光し，分光された干渉光を受光手段に受光させる分光光学系と、受光手段からの受光信号に基づいて被検眼の画像情報を取得する眼科装置において、分光光学系の各光学部材が所定の位置関係にある分光光学系に対して前記キャリブレーション用の光束を導光し，導光されたキャリブレーション用の光束を分光光学系を介して前記受光手段に受光させることによって得られる分光情報を予め基準分光情報として予め記憶し、基準分光情報が記憶された状態でキャリブレーション用の光束を受光手段に受光させることによって得られる分光情報と前記基準分光情報とに基づいて受光手段と分光光学系に設けられた他の光学部材との相対的な位置関係を調整する。 （もっと読む）

【課題】試料照射レンズ周りを大型化することなく到達深度を向上させ、光断層イメージング装置を、内視鏡などの小型機器に適用できるようにする。
【解決手段】中心波長の異なる複数の低コヒーレント光源１０Ａ，１０Ｂを備え、かつ、複数の低コヒーレント光源１０Ａ，１０Ｂからの光を被測定部Ｓに照射したときの反射光に基づいて、被測定部Ｓの断層画像を得る光断層イメージグ装置１において、複数の複数の低コヒーレント光源１０Ａ，１０Ｂとして、被測定部Ｓにおける深度成分の浅い断層画像を作成するための短波長の光源１０Ａと、被測定部Ｓにおける深度成分の深い断層画像を作成するための長波長の光源１０Ｂと、を使用する。 （もっと読む）

【課題】試料の任意の点に合焦位置を確実に誘導することができる光学測定装置を提供する。
【解決手段】光源１１からの光を試料８に対して集束させる対物レンズ７と、集束光の光軸方向に沿って対物レンズ７の集光位置と試料８の位置を相対的に移動させるＺレボルバ２１を有し、予め入力されるオフセット情報づいてＺレボルバ２１による対物レンズ７の集光位置を制御する。 （もっと読む）

【課題】内視鏡挿入部に配置できる共通化した光学系にし通常のマクロ画像と低干渉性光による高分解能の拡大観察画像とを得られる光イメージング装置を提供する。
【解決手段】照明手段と照明された被検体を結像する光学系と結像された像を撮像する撮像手段と、コヒーレント光源と、共焦点光学系と、この共焦点光学系からのコヒーレント光を被検体に導きさらに被検体からの反射光を共焦点光学系に戻す光学系と、共焦点光学系からの光信号から画像を構築する信号処理手段があり、被検体を結像する光学系と共焦点光学系に導く光学系のすくなくとも一部が同じであり、撮像素子に結像される光学系の開口数が、共焦点光学系に光が導かれる場合の光学系の開口数より小さくなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】手振れによる影響を低減する手持ち可能な３次元計測装置を提供する。
【解決手段】この３次元計測装置１は、測定すべき対象物体２に所定角度ずつ位相をずらした１組の縞パターンを投影する投影部４と、物体２上の１組の縞パターンの画像を撮影して各々の画素について１組の輝度値を得る撮影部５と、各々の画素について１組の輝度値から復元位相値を算出する位相復元手段６１、及び復元位相値から絶対位相値を求める位相接続手段６２、を有する画像処理部６と、を備えることによって物体２の表面形状を計測するものにおいて、投影部４は、１個の画像の撮影のために撮影部５が必要とする露光時間を複数回分割して得られるスライス時間ごとに１組の縞パターンの各々を順次切り換えて繰り返し投影し、撮影部５は、スライス時間ごとに１組の縞パターンの各々の画像を１組の受光素子５１、５２、５３に順次取り込んでそれを繰り返す。 （もっと読む）