【課題】 プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができるＸＹステージ装置を提供する。
【解決手段】 ＸＹステージ装置１の制御系は、ＰＩＤ制御要素１３、力・位相シフト変換要素１４、位相・電流変換要素１５、電流・推力変換要素１６およびステージ可動体動力学要素１７が閉ループを構成している。加えてＸＹステージ装置１の制御系は、位置（角度）指令からプラテン補正量を算出するプラテンスケーリング要素１８と、プラテン補正量と検出したステージ可動体位置（角度）とから補償量に対応した位相を算出する位置・位相変換要素１９を備えている。これにより、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 比較基準物体を採用することなく、また、遠隔位置で実行可能な、単純で、安価且つ反復可能である方法、あるいは公共に有効な選択肢を提供可能な方法及び装置を提供する。
【解決手段】 表面特徴の寸法は、表面特徴の画像を記録し、その画像の倍率を判定することによって判定する。取得した画像の構造光の位置により倍率の判定ができるように構造光をその表面上に投射する。非平坦表面はアンラップできる。また、その表面を面に投射してカメラの軸に対して傾斜しているシーンを修正することができる。表面特徴の境界は、使用者が手作業で入力できる。本方法を実施するための装置とシステムを開示する。
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【課題】緊急対応制御が可能な自律制御型ロボットを提供する。
【解決手段】自律制御型ロボットにおいて、自律制御系とは別の独立系統によって該ロボットの動作の安全性を監視して緊急対応制御ができるようにした。 （もっと読む）

【課題】露光の際の焦点位置の検出精度を向上することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置２０は、露光光を出射する露光用光源２３を含む照明光学系２２と、露光光を基板１に導く投影光学系２４と、露光時の焦点位置検出用の検出光を出射する検出光光源２９と、該検出光光源２９から出射された検出光を特定の偏光とすることが可能な偏光子３０と、該偏光子３０により特定の偏光とされた検出光を基板１に照射した際の反射光を検出する光検出器３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】被測定面の形状変化が大きいような場合でも、三角測量の原理に基づき、被測定面の３次元形状を高精度に求めることが可能な３次元形状測定装置を得る。
【解決手段】被測定面７に輝線を投影、走査する投影走査系２と、被測定面７に投影されて変形した輝線を互いに異なる方向から撮像する第１および第２の撮像系３，４と、輝線の投影方向を検出する投影方向検出手段５とを備えることにより、第１の３次元座標取得部６１によって得られたステレオ法による３次元座標データに基づく形状解析と、第２の３次元座標取得手段によって得られた光切断法による３次元座標データに基づく形状解析とを、適宜組み合わせて実施できるようにする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、より正確なキャリブレーションを行うことの可能な測距装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の測距装置は、複数の撮像手段で撮像した画像中の共通領域に存在する複数の対応点から、複数の撮像手段間の位置関係を算出するもので、画像中の共通領域から道路環境に存在する平面構造物を抽出する平面構造物抽出手段と、抽出した平面構造物の同一平面上に存在する特徴点を四点以上抽出する特徴点抽出手段と、抽出した特徴点対応点として、撮像手段間の位置関係を算出する位置関係算出手段とを備えることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 被撮影物体の一部の撮影画像から被撮影物体の全長を測定する。
【解決手段】 Ｘｗ、Ｙｗ及びＺｗ軸によって規定される三次元空間においてＸｗ−Ｙｗ平面上の位置が予め判明している位置に立つ通行者の上半身をビデオカメラ４が撮影する。ビデオカメラ４得られる二次元画像において通行者の頭頂部の二次元座標を確定し、この二次元座標と通行者の立っている位置のＹｗ座標とから、パーソナルコンピュータ１２が通行者の身長を確定する。 （もっと読む）

【課題】物体表面に特定パターンの照射光を照射し、物体表面からの反射光の受光強度分布に基づいて物体表面の平滑度を算出することにより、各種の物体表面の平滑性を安定的に、正確に、迅速に、かつ、容易に測定することができるようにする。
【解決手段】物体表面に光を照射する光源１１ａと、前記物体と光源１１ａとの間に設けられ、該光源１１ａから物体に照射される照射光を所定方向の明暗から成る特定パターンを形成するように遮光する遮光手段と、前記物体表面から反射する反射光を受光する受光手段と、該受光手段が受光した光に基づき、所定方向の位置毎の受光強度分布を検出する受光強度分布検出手段と、該受光強度分布検出手段が検出した受光強度分布に基づき、前記物体表面の平滑度を算出する平滑度算出手段とを有し、該平滑度算出手段は、前記受光強度分布から求められる極大値と極小値とに基づいて所定方向の平滑度を算出する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳの動作を解析できる動作診断装置を提供する。
【解決手段】準単色光を反射光と透過光とに二分するビームスプリッター５４と、この反射光が照射されて測定光を反射するＭＥＭＳ３０と、透過光が照射されて参照光を反射する鏡面ミラー５５と、測定光及び参照光が合わさった干渉光から干渉像を形成する光学系５７、５８と、干渉像を時系列撮像するデジタル撮像装置５９と、その画像データからＭＥＭＳ３０の動作を解析する解析手段とを備え、解析手段は、撮像画像から信号強度と信号強度のヒルベルト変換した値とを求め、それらの値から当該画像の各空間位置における位相差を算出し、時系列画像の位相差からＭＥＭＳの変形の時系列過程を解析する。準単色光を干渉計の光源としているため、綺麗な干渉縞の現われた干渉像が得られ、この干渉像にヒルベルト変換位相解析法を適用してＭＥＭＳ動作の時空間的な変位を精密に計測できる。
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機械的、光機械的な機械加工及び品質管理システムのパーツのパーツ位置関係を見出すための、またこれらのパーツを認識するための装置及び方法が開示される。本発明は、光学的非接触検知技術に依拠しており、物理的な接触なしに、光学的基準パターンを記録し、そこからワーク位置に近い位置を決定する。機械のパーツ位置は、基準パターン１を鍵となるパーツに関連付け、又は機械的に一体化し、これらのパターンの画像を光学的に検出することによって決定される。所与のパーツ位置測定器６戦略によるパーツ位置及び変位は、基準パターン画像１４及び機械位置データ１７を、パーツ幾何形状関係１５のメンバであるパーツに関連付け、パーツ変位制約１６の元で、所与のパーツ位置又は変位１８を見出すことによって見出される。基準パターン１を使用して、ワーク・ピース、ワーク・ホルダ、ワーク・ツール、ゲージ・ツール、及び機械パーツ全般の識別及び認識が可能になる。
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【課題】 レンズなどの表面形状をナノメートルの分解能で高精度に形状測定するのに光の干渉を利用した測定がなされる。最近、測定範囲の拡大に二種類の単色光を利用した二光束干渉計及びその利用方法が提案されているが、干渉縞の位相を計算するための時間が膨大である。
【解決手段】 本発明では、二種類の単色光を利用するとともに、撮像装置で検出した干渉縞の光強度分布を包絡線処理することにより、従来の位相計算に要する時間を大巾に短縮できた。 （もっと読む）

【課題】 カメラ映像に基づいて複雑な計算を行うことなく、簡便に作業位置、寸法計測を実施できる作業位置計測方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 作業対象面５０との相対距離と相対角度を一定に保持することが可能であり表面に位置計測用の参照点を有する移動体１１を接触させ、カメラ２０と照明２１を有する監視装置１８を作業対象面５０との相対位置が既知である任意の基準点に設置し、移動体１１と監視装置１８とが任意の相対角度または相対距離における両者の相対距離と、映像上での前記被撮影体表面上の距離寸法と、を一対一に相関させる相関データをあらかじめ求めておき、被撮影体と監視装置との相対角度を測定し、監視装置１８のカメラ２０により移動体１１を撮影し、その映像上の前記参照点間の寸法距離と、測定した相対角度に一致する前記相関データとを照合することにより、監視装置１８と移動体１１の間の相対距離から作業位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】
精密な検査を短時間で行うことができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたシリンダブロックの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、試料に設けられた孔に対して挿入可能に設けられた外筒３５を備え、外筒３５を孔に挿入して検査する検査装置であって、光源４１と、光源４１からの光をライン状の光に変換するシリンドリカルレンズ４２と、対物レンズ３３と、光を内壁面の方向に反射する曲げミラー３４と、対物レンズの焦点位置を走査する対物レンズ焦点合わせモータ３１と、外筒３５を回転させるθ回転モータと、内壁面で反射された反射光をコンフォーカル光学系を介して検出する検出器４６と、曲げミラー３４と試料との相対位置を移動して、軸方向に走査を行うステージ１３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された膜の膜厚ムラを精度よく検査する。
【解決手段】ムラ検査装置１では、光照射部３により基板９上の膜９２に所定の入射角にて光が照射され、光照射部３からの光のうち膜９２にて反射された特定波長の干渉光が撮像部４１にて受光され、膜９２を示す元画像が取得される。記憶部６では、膜厚の変動に対する特定波長の干渉光の強度変動の割合である感度と特定波長の干渉光の強度との関係を示す感度情報６１が記憶されており、感度が膜厚に依存して変化する影響を感度情報６１および元画像の各画素の画素値を参照することにより補正しつつ、元画像から導かれる画像における所定の空間周波数帯域の振幅の度合いが膜厚ムラとして検出される。これにより、基板９上に形成された膜９２の膜厚ムラを精度よく検査することが可能となる。 （もっと読む）

移動するシート上のクレープパターンを直接測定する画像に基づく測定技術は、照明、光学素子、及び撮像装置の好適な配列を使用することでシート表面のデジタル画像を得る。この画像の解像度は、クレープのスケールにおいてティッシュのクレープ折り目を示すのに十分な解像度である。画像の一部又はすべてをスペクトル解析することで、クレープ折り畳みピッチが求められる。場合により画像をさらに解析することによって、クレープ折り目の配向角分布、及び折り目の直線長さの分布などの他のクレープ構造パラメータが求められる。クレープ構造の変化に応じて、修正措置を行うことができる。クレープのピッチは、クレープパターンを表す主要パラメータであり、さらに、勾配演算子を使用して画像を解析することによって、クレープ折り目の配向、フード側のクレープ溝の角度分布、又は同様にシリンダ側のクレープ継ぎ目の角度分布に関する情報を得ることができる。
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【課題】
非接触光計測において歪曲収差などの系統誤差を低減させ、高精度の絶対値計測を実現する。
【解決手段】
本計測処理方法は、三次元空間においてグリッド状に配置されているノードに対応する複数の特定位置についての計測結果である計測座標値を取得し、上記特定位置の座標値と共にデータ格納部に格納するステップと、データ格納部に格納されている上記特定位置の座標値と計測座標値とを用いて、上記特定位置の座標値と計測座標値との間の関係を表すテンソル積型複合超曲面のための制御点のデータを生成し、制御点データ格納部に格納する制御点データ生成ステップとを含む。上で述べたようなテンソル積型複合超曲面を採用することにより高精度の絶対値計測が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 検出光の光量の損失を抑制することができ、かつ検出光を分割することができ面位置検出装置を提供する。
【解決手段】 光源から供給される検出光により照明された第１面１２ａ上のパターンを被検面Ｗ上に斜め方向から投射する送光光学系ＳＬと、前記被検面で反射された前記検出光を受光する受光光学系ＲＬと、該受光光学系を介した前記検出光を検出する検出器３８とを備え、該検出器の出力に基づいて前記被検面の面位置を検出する面位置検出装置２において、前記送光光学系は、前記被検面上で一方向に延びた計測領域Ａを形成し、前記送光光学系の光軸を前記被検面上に投影した軸線方向は、前記計測領域の長手方向と一致し、前記光源と前記第１面との間の光路中に配置されて、前記計測領域の長手方向に対応した方向に関して光束を拡大させる、または前記長手方向と直交する短手方向に対応した方向に関して光束を縮小させる光学部材１１を備える。 （もっと読む）

【課題】 指標を簡便な方法で正確に同定する。
【解決手段】 撮像装置１３０の撮像画像から情景中の指標を検出する主観視点指標検出部１１０と、検出された指標の画像座標に関する情報を用いて撮像装置１３０の位置及び姿勢を推定する位置姿勢推定部１２０と、情景中に設置された客観視点カメラ１８０によって撮像装置１３０上の指標を観測し指標候補を検出する客観視点指標候補検出部１４０と、検出された指標候補の画像座標に関する情報を用いて位置拘束条件を算出する位置拘束条件算出部１５０と、撮像装置１３０の推定位置姿勢と客観視点指標候補の位置拘束条件とに基づいて客観視点指標を同定する客観視点指標同定部１９０を有する。 （もっと読む）

【課題】 暗視野照明による位相パターンの像から観察光学系のコマ収差またはケラレを正確に検出することができる観察光学系の検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物Ｗを暗視野照明する照明光学系と、前記被検物Ｗからの光束を集光して前記被検物の像を形成する結像光学系とを有する観察光学系の検査装置において、前記被検物Ｗに形成された位相パターンＷＭを前記照明光学系により暗視野照明し、前記結像光学系を介して形成された前記位相パターンＷＭの像を光電検出する光電検出手段１６，１７と、前記光電検出手段１６，１７から得られる出力の非対称性からコマ収差または前記観察光学系のケラレを検出する検出手段３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面欠陥の形状、サイズ（面積）、深さ等の種類を判別することができる表面検査方法を提供する。
【解決手段】 検査対象領域の各部に対して、表面欠陥がなければ照明光の反射光がカメラに検出される明領域となる光学条件と、反射光が検出されない暗領域となる光学条件を含む、複数種類の光学条件下で表面欠陥の検出を行い、各光学条件下における欠陥検出の有無の組合せパターンに基づいて、検出された表面欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）