【解決手段】本発明は、画像化される対象物の表面トポグラフィを再構成するために、画像化システムに構造光源を組み込む。構造光源は、或る角度から前記対象物上に１組の線を伝達するための機構を備える。それらの線は、マウスなど、限られた高さを有する対象物に当たると、変位、すなわち、位相シフトされる。この位相シフトは、対象物の構造光情報を提供する。カメラが、この構造光情報を取得する。構造光解析を用いるソフトウェアにより、線の位相シフトから、対象物の表面トポグラフィデータが決定される。 （もっと読む）

【課題】 路面の積雪を検出する方法であって、昼夜による日光の影響や建物の影の影響により誤作動を生じることのない、又車両のタイヤ跡が残っても正確に積雪の有無を判断することが出来る画像処理型積雪センサー及び積雪の検出方法の提供。
【解決手段】 路面をカメラにて撮影し、該カメラにて撮影した画像をビットマップデーターとしてコンピューターに取り込んで輝度画像に変換し、そして道路標示部の平均輝度を求めて道路標示以外の路面の輝度と比較し、道路標示部以外の路面輝度と道路標示部の平均輝度との比率が一定値以上である場合に積雪ありと判断し、積雪面積が基準値以下の場合には上記輝度画像を微分処理してエッジ画像を求め、さらにエッジ画像をハフ変換し、道路の方向と平行な線分が予め決められている本数以上検出された場合に積雪ありと判断する。 （もっと読む）

【課題】 小型化と検出時間の短縮を図れるマルチビーム光学式測距センサを提供する。
【解決手段】 このマルチビーム光学式測距センサによれば、回折格子４が、発光素子２の出射光を複数のビームａ〜ｅに分離するから、１つの発光素子２でも回折格子４からは複数のビームａ〜ｅを出射させることができる。したがって、このマルチビーム光学式測距センサによれば、従来に比べて、発光素子２と発光側レンズ３の個数を削減できて、発光側スペースの削減を図れ、小型化を図れる。また、この測距センサによれば、複数の発光素子をスキャンする必要も無いので、検出時間の短縮を図れる。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の正確な３次元形状測定を行うために、精度のよい座標変換関数を計算することが可能な座標変換関数の補正方法を提供する。
【解決手段】カメラ座標系の各座標軸の向きと基準座標系の各座標軸の向きとを一致させた状態で、両座標系の２つの座標軸に対してそれぞれ平行に３次元形状測定装置３０を移動させ、各移動方向においてそれぞれ少なくとも２つの位置で基準球６０の３次元形状を測定する。そして、各移動方向ごとに座標変換関数によって座標変換された基準球６０の中心座標を定点として計算し、各移動方向ごとの各定点によって基準座標系に定義される直線の傾きを計算する。この各移動方向ごとに直線の傾きに応じて第１座標変換関数を座標回転関数Ｍ’を用いて補正した後、この補正された第１座標変換関数によって座標変換された定点を用いて第１座標変換関数の座標移動関数を補正する。 （もっと読む）

【課題】 薄膜の膜厚を１分間に１万点以上の測定を基板全面にわたって行う検査を可能とする。
【解決手段】 透明基板２上に形成された薄膜３に対してレーザ光を照射し、基板の測定領域全体に渡って基板内の多数の同一ポイントでの透過強度を透過光強度モニタ４、反射光強度を反射光強度モニタ５で測定する。反射率をＲとし透過率をＴとしてＡ＝１−（Ｒ＋Ｔ）の値からＡ値と膜厚の関係から膜厚を測定し評価する。 （もっと読む）

透明基板の寸法変化を測定する方法は、基準プレート上に基準マーカーのアレイを形成する工程、透明基板上に基板マーカーのアレイを形成する工程、基準マーカーと基板マーカーが重なるように基準プレートと透明基板を積み重ねる工程、透明基板の処理の前後に基準マーカーの座標に対する基板マーカーの座標を測定する工程及び、透明基板の処理の前後の測定された基板マーカーの相対座標の間の差から透明基板の寸法変化を決定する工程を含む。
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【課題】露光装置の性能を高精度に評価する。
【解決手段】走査露光装置における露光スリット内に同時に含まれる複数のマーク像の重ね合わせ誤差に含まれるスケーリング成分、オフセット成分、回転成分などの１次成分のみを、露光装置の性能に関係する成分として抽出し、それ以外の成分はウエハの変形などの露光装置の性能には無関係な成分として除去する。そして、その１次成分のばらつき具合の指標値を露光装置の性能評価値とする。 （もっと読む）

【課題】 実際のマークの形状が設計値とは異なっており、又は実際のマーク検出装置の特性がずれていても計測エラーを生じずにマーク位置を検出できるようにする。
【解決手段】 ウエハＷ上に形成されたウエハアライメントマーク（例えば、ＹマークＳＹＭ及びθマークＳθＭ）のマーク位置は、これらのマークを撮像して得られた画像信号に対し所定の画像処理を施すことにより求められる。この画像処理を施す際に、ラインパターンＳＭＬ１〜ＳＭＬ４の幅を示す情報及び間隔を示す情報を変更するとともに、その変更の適性度を算出し、この適性度が所定基準を満たすものを用いてマーク位置を求める。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、膜厚測定装置の光照射光学系や受光光学系を構成する各光ファイバ装置において、サイズの大きな反射ミラー式照射、受光光学系も必要とせず、従来よりも広い波長帯域で高精度で膜厚の測定が可能な膜厚測定装置及び薄膜形成装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の膜厚測定装置は、薄膜に光を照射する光照射光学系６と、光照射光学系６を介して照射された光が薄膜を透過して生じた信号光を受光する受光光学系４と、受光光学系４を介して導かれた信号光を処理して薄膜の膜厚を算出する信号処理装置３とを有する膜厚測定装置において、光照射光学系６及び受光光学系４は各々中空光ファイバ４１ｂを有し、光照射光学系６の中空光ファイバ４１ｂを介して薄膜に光を照射し、かつこの光が薄膜を透過して生じた信号光を受光光学系４の中空光ファイバ４１ｂを介して信号処理装置３に導くことを特徴とする。
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【課題】基板とマスクとの間の隙間を高精度に安定して測定することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも３台以上の隙間測定装置は、入射光による信号が前記マスクに所定の角度で入射するように配置した測定用光源と、前記入射光による信号が前記マスクの下面及び前記基板の上面で反射してなる反射光を受光する反射光測定器とをそれぞれ備えており、演算制御手段６０は、各隙間測定装置の反射光測定器で受光した反射光が隙間信号として入力する際に、波形ピークが所定レベル範囲内であって前記隙間の演算が可能な信号波形となるように、前記各隙間測定装置の反射光測定器から入力した前記隙間信号の強度をそれぞれ調整する信号利得変更手段を備えている。 （もっと読む）

【課題】 正確に吸着位置（フィッティングポイント）を特定することができる眼鏡レンズの吸着治具取付装置、及び眼鏡レンズの吸着治具取付位置決定方法を提供すること。【解決手段】 眼鏡レンズを開口部内に配置できる載置台と、前記開口部に載置された眼鏡レンズの画像を撮像する撮像手段と、撮像された前記眼鏡レンズの画像から吸着治具の取付位置を特定する位置決定手段と、吸着治具を前記眼鏡レンズの取付位置に配置する装着手段とを備えた眼鏡レンズの吸着治具取付装置において、前記位置決定手段は、前記撮像手段で撮像した前記開口部内部の画像から眼鏡レンズのペイント及び隠しマークの少なくとも一方の有無及び位置を検出するマーク検出手段と、前記検出した眼鏡レンズのペイントから前記吸着治具の装着位置を求めるための基準位置を特定する基準位置決定手段を備えた （もっと読む）

【課題】高精度で寸法計測ができる。
【解決手段】路面上の車両に上方から、識別可能な第１スリット光Ｓ１および第２スリット光Ｓ２を同一投光面Ｆ上で上下に異なる位置から投光する第１投光器１および第２投光器２と、車両Ｍの上方から前記第１スリット光Ｓ１および第２スリット光Ｓ２による路面の反射光エッジｅ１，ｅ１’，ｅ２，ｅ２’の位置をそれぞれ検出する撮像装置３Ａ，３Ｂと、撮像装置３Ａ，３Ｂにより検出された２つの車両の反射光エッジｅ１，ｅ１’，ｅ２，ｅ２’の座標から車両Ｍの光切断面上の検出位置を求め、２つの検出位置から光切断面上の車両Ｍの寸法Ｗを演算する演算処理装置とを具備した。 （もっと読む）

【課題】 従来の軸心がＺ軸を成す回転テーブルと、回転テーブル上をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動自在なＸＹテーブルと、ＸＹテーブル上部に固定設置され被計測物装着具を設置できる載置台と、少なくともＺ軸上の点を中心としてＺ軸を含む同一平面上を回転移動できる一つのレーザセンサにより載置台上の被計測物の形状の三次元座標を計測する計測部とを備えた三次元計測装置を用いて歯顎模型形状等の計測をする方法において、計測ラインを増やしても計測時間が増加しない計測方法を提供する。
【解決手段】 回転している被計測物を計測部が予め決められた角度を単位とした回転移動を行う都度計測することで複数の計測ラインの集合による三次元形状を得る際に、Ｚ軸を超えた後はＺ軸を超える前に計測した計測ラインと異なる新たな計測ラインを計測することを特徴とする歯顎模型形状等の計測方法とする。 （もっと読む）

【課題】 レンズの球面収差による光リング像を検出して光源までの距離を計測する場合に、その測定可能距離を伸ばすことができる位置計測システムを提供する。
【解決手段】 本位置計測システムは、光源１２、１２’からの光で球面収差により光リング像を形成するレンズおよびこのレンズにより形成される光リング像を検出する受光素子を有するカメラ１５と、受光素子により検出された光リング像の非飽和領域の光量に基づいて光源１２、１２’までの距離を計測するＰＣ（演算処理装置）１６とを備える。ここで、光源までの距離が所定範囲内にあるときは、ＰＣ１６は、上記光リング像の非飽和領域の光量に代えて、受光素子により検出された光リング像の直径に基づいて光源までの距離を計測することができる。 （もっと読む）

【課題】ナノトポグラフィを正確に測定することができるウェーハ表面形状測定装置、及び、それを用いたウェーハの評価方法の提供。
【解決手段】直径３００ｍｍの片面が研磨されたウェーハを、外周部保持手段のみで、すなわち、１２０度の等間隔で円周上に配置された保持部で、ウェーハの外周部のベベル面を保持し表面形状を測定した。その後、中央部保持手段によりウェーハの中央部裏面を保持し表面形状を測定した。得られた画像信号を解析して、外周部保持手段により得られた画像のうち外周から２０ｍｍ位置までのウェーハの外周部の画像を除外し、また、中央部保持手段により得られた画像のうち、中央保持部の領域の画像を除外して、それぞれの画像を合成して一つの画像とした。 （もっと読む）

【課題】少ない数のゾーンプレートで高さを測定するようにする。
【解決手段】 ステップＳ１１で、フーリエスペクトルの幅ｆvが決定される。ステップＳ１２で、ゾーンプレートの周波数γの走査ステップ（＝１／fs）が決定される。ステップＳ１３で、ステップＳ１１で算出された幅ｆvとステップＳ１２で算出されたサンプリングレートｆsとの関係の下で、キャリア縞の周波数ｆcが決定される。ステップＳ１４で、初期位相βと周波数γをリニアな関係に設定する式β＝２πｆcγに従って、周波数γと、ステップＳ１３で決定されたキャリア縞の周波数ｆcから位相βが算出される。周波数γと算出した位相βを有するゾーンプレート１５ａが生成される。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエーハの製造時における研磨や洗浄を効果的に行なうために半導体ウエーハ表面のマイクロラフネスを短時間で簡易的に評価する半導体ウエーハの評価方法及び前記評価方法を用いた半導体ウエーハの製造方法を提供する。
【解決手段】予め半導体ウエーハ表面の垂直照射・高角度受光のヘイズ値及び／又は斜角照射・低角度受光のヘイズ値を測定すると共に、該ウエーハの表面形状を測定し、該測定したウエーハの表面形状のデータをパワースペクトルに変換し、該パワースペクトルにおいて、空間波長１μｍでのパワースペクトル密度と垂直照射・高角度受光ヘイズ値との相関関係及び／又は空間波長０．１μｍでのパワースペクトル密度と斜角照射・低角度受光ヘイズ値との相関関係を求めておく半導体ウエーハの評価方法、及び前記方法によりウエーハの表面形状を評価し、該評価結果に応じて研磨条件及び／又は洗浄条件を調整する半導体ウエーハの製造方法。 （もっと読む）

波長分散や光路長等の光学特性を高速に評価することのできる検出装置、光路長測定装置、光学部材評価方法等を提供することを目的とする。 また、他の目的は、化学・生体反応および温熱効果を高精度に評価できる検出装置、温度変化検出方法を提供することにある。 検出装置１０Ａでは、被測定物Ｓの波長分散を受けたゼロ次光Ｂ０と、周波数をシフトさせた一次光Ｂ１とを重ね合わせ、これによって低周波のビートを発生させ、そのビート位相の波長依存性を測定するようにした。さらに、周波数シフター１２からの交流電気信号を位相基準信号とし、測定信号の相対的な位相を検出するようにした。また、互いに波長が異なる測定光と参照光をそれぞれ周波数シフトさせ、測定光のビート位相を、参照光のビート位相を基準として相対的に求めるようにすることも有効である。
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【課題】 簡単な構成で、測定位置から離れた距離をもつ物体の変位量を測定できる変位量測定方法を提供する。
【解決手段】 基板１４には、中心域に反射率の高い再帰性反射シート１３ａが貼り付けられ、その外周域に反射率の低い再帰性反射シート１３ｂが貼り付けられている。上方からレーザダイオード１１によりレーザ光が照射され、反射光がＰＩＮフォトダイオード１２で検出される。基板１４の変位量を測定するのであるが、レーザ光が中心域にあるとき（Ａ）は反射光のレベルは大きく、外周域にあるときは（Ｂ）反射光のレベルは小さく、外周域の外にあるとき（Ｃ）は反射光はない。この反射光のレベルによって、基板１４の変位量を測定できる。 （もっと読む）

【課題】 ワークに形成されたスポット溶接部の数と位置を精度良く検査することができる検査装置を提供する。
【解決手段】 溶接部１２を検査するための検査装置１０は、ロボットアーム２１に設けられたレーザセンサ２２と、レーザセンサ２２をワーク１１の表面に沿って移動させる制御部２３と、判定部２４と、表示装置２５などを備えている。判定部２４は、レーザセンサ２２をワーク１１に対して等速度で移動させている間に、レーザセンサ２２からワーク表面１１ａに向けてレーザビームを照射し、その反射光に基いてレーザセンサ２２からワーク１１までの距離を検出する。こうして検出された波形を微分化することにより、レーザセンサ２２からワーク１１までの距離の変化量を求める。そしてこの変化量がしきい値を越えたとき、レーザビームが照射された個所にスポット溶接部１２が存在したと判断する。 （もっと読む）