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Fターム[2F067SS02]の内容

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Fターム[2F067SS02]に分類される特許

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【課題】エッジ部分のコントラストが希薄であってもラインプロファイルに基づくエッジを適切に判定し、パターンの測長を実行することのできるパターン寸法測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は荷電粒子線の走査によって試料上に形成されたパターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法及び装置に関する。当該方法及び装置では、荷電粒子線の走査によって、試料上の画像を形成し、形成された画像の一部の領域を選択し、選択された画像の一部の領域を他の像に置換し、画像の一部が他の像に置換された画像を用いて、パターンの寸法測定を行うようにしている。 (もっと読む)


【課題】どのような多層プリント配線板の場合でも、その内層回路の状態を任意の角度から把握することが可能な非破壊検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】固定式X線発生器、固定式垂直透過X線検出器及び2N個以上(N≧1の整数)の可動式の傾斜透過X線検出器を用いてプリント配線板の内部回路構造を測定し、プリント配線板を透過したX線を、固定式垂直透過X線検出器及び2N個以上(N≧1の整数)の傾斜透過X線検出器を用いて検出し、この検出器で得られたX線強度を信号に変換し、この信号を用いて、当該プリント配線板が備える外層から内層に至るまでの回路形状を立体構造的に表示する測定方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】 ノイズがあるパターン画像から算出されるパターンの寸法やエッジの凹凸(エッジラフネス)を算出する際に、より真の値に近い値を得る。
【解決手段】画像内のエッジ近傍を表す帯状領域のうち、幅が狭い部分・広い部分でのエッジ位置の画像処理パラメータ依存性、あるいは、エッジ点がラインの外側にある部分・内側にある部分でのエッジ点位置の画像処理パラメータ依存性を算出し、計測値が真の値に十分近くなる画像処理条件を算出するか、あるいは、真の値を推定する。 (もっと読む)


【課題】両眼立体視・マルチエネルギー透過画像を用いて材料を識別する方法を提供する。
【解決手段】両眼立体視・マルチエネルギー透過画像を用いて、放射線方向に重なっている物体に対して、その中で放射線吸収の主要成分である障害物を剥離し、本来放射線吸収の副次成分であるため明らかでなかった物体を明らかになるようにし、その材料属性(例えば有機物、混合物、金属等)が識別できる。本発明の方法によれば、放射線方向における非主要成分に対して材料識別ができ、これはコンテナに遮られている爆発物、麻薬等その他の有害物を自動識別することの基礎となる。 (もっと読む)


【課題】高速かつ高精度のパターン検査方法およびパターン検査装置を提供する。
【解決手段】走査領域内で所望のパターンの寸法を測定し、測定結果から統計量を算出し、算出結果が所定の閾値を超えた場合に、寸法測定に誤差が含まれていたものと判定して補正処理を実行する。 (もっと読む)


【課題】微線量の放射線で高速に診断部位の撮像を行って安全に腐食診断を行うことのできる配管の腐食診断方法を提供する。
【解決手段】放射線を照射する照射手段20と、放射線を光線に変換する変換手段30と、変換手段30が変換した光線を撮像する撮像手段50と、撮像手段50が撮像した画像を画面表示する表示手段と、を用いて配管10の腐食減肉を診断する方法であって、配管10の診断部位に放射線を照射するステップと、診断部位を通過した放射線を変換手段30で光線に変換するステップと、その光線を撮像手段50で撮像するステップと、撮像した画像を表示手段に画面表示するステップと、を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の特定の部分の寸法を高精度かつ高速に測定する。
【解決手段】
繰り返し構造からなる第1のパターンと、第1のパターンの上に繰り返し構造を跨いで形成された線状の第2のパターンと、を有する半導体装置の寸法測定に用いられる寸法測定装置である。寸法測定装置は、第1のパターンの形状に関する情報を取得する形状情報取得手段と、第2のパターンの顕微鏡による観察結果から、第2のパターンを構成する各部分の幅値を取得する幅値取得手段と、形状情報取得手段で取得した前記第1のパターンの形状に対応するように、第2のパターン上に複数の解析領域を設定する解析領域設定手段と、設定された解析領域ごとに、幅値取得手段で取得した幅値の中から、解析領域に含まれる部分の幅値を抽出し、抽出した幅値を用いて、第2のパターンの第1のパターンと重なる部分における寸法を決定する寸法決定手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】プローブや試料を破損させるおそれがなく、すばやくプローブ先端を試料に接触させることができるプローブ付き顕微鏡を提供する。
【解決手段】プローブが試料方向に接近している最中に、顕微鏡から得られる画像を認識して、認識領域内のプローブ面積を計算することによってプローブから試料までの距離を計算する。 (もっと読む)


【課題】肉厚測定値について高精度に校正を行い、かつ操作性に優れた肉厚測定装置を提供する。
【解決手段】X線Rを発生させ、配管5を照射するX線発生装置2と、X線発生装置2から発生したX線Rを検出し、X線Rを光に変換することにより測定結果を画像化し撮像画像データを得るカラーI.I.3からなる肉厚測定装置であって、前記撮像画像データに対し所定の演算を行うことにより、校正された被測定物の肉厚量を求めることができる肉厚量校正手段を備えた肉厚測定装置、および前記肉厚測定装置を用いた肉厚測定方法である。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム装置における倍率校正を精度良く行うために校正位置の特定が容易な校正用標準部材及びそれを用いた電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】装置校正用標準部材の超格子パターン近傍に、校正位置を特定するためのマークもしくは標識を形成することで、校正位置の特定が可能な高精度測長校正が実現できる。異なる材料4、5が交互に積層された積層構造の超格子パターンの断面を有する基板1に、電子ビーム装置から放出される一次電子ビーム11を照射して検出される二次荷電粒子の信号をもとに前記電子ビーム装置の倍率校正を行う校正用標準部材において、前記基板は、前記積層に並行した基板面上にあって前記超格子パターン断面に対して交差する方向に一定の間隔で配列された線状パターン3を有し、該線状パターン3の断面は前記超格子断面と略同一の平面内にあるよう構成して、前記線状パターンにより前記超格子パターンの位置を特定する。 (もっと読む)


【課題】漏れが発生する前に管状被検体の劣化或いは破損を非破壊で検知可能な非破壊検査装置及び非破壊検査方法を提供すること。
【解決手段】管状被検体に放射線を側面から照射する放射線源と、前記管状被検体を透過した放射線を検出して透過画像を得るイメージセンサと、前記イメージセンサにより得られた前記透過画像から前記管状被検体の管壁画像情報を生成する画像情報生成手段と、前記画像情報生成手段により生成された前記管壁画像情報に基づいて、前記管状被検体の健全性を評価する評価手段とを具備することを特徴とする非破壊検査装置を使用する。 (もっと読む)


【課題】ベッド位置決め時の操作者の入力の煩雑さを解消しつつ、ベッド位置決めの精度維持を容易とし、ベッド位置決め時間の短縮化を可能とする。
【解決手段】
治療計画時に計算点をCT画像上にて設定し、設定した計算点の三次元座標値をDRR画像内に設定する。ベッド位置決め装置115はDRR画像を画像サーバ109から読込んだ時点でDRR画像内に設定されている計算点座標値を読み取り、モニタ116にDRR画像と共に表示するとともに、位置決め装置115にDR画像データが読込まれると、モニタ116上にDR画像を表示するとともにDRR画像上に設定されている計算点をDR画像にも設定する。 (もっと読む)


【課題】
電子線照射に対する耐性が低い材料では,S/Nの良好な電子顕微鏡画像を得ることが難しい。これに対し,従来の画像平滑化処理を行うと,計測の安定性は向上するが,絶対値に対する計測誤差や感度が低下したり,立体形状情報の質が劣化したりという問題が生じる。
【解決手段】
計測対象パターンの寸法ばらつきを考慮して,信号波形が持つ立体形状情報を劣化させない画像平均化処理を行うことにより,計測安定性と精度および感度の向上を両立する。本発明により,高精度なパターン寸法および形状の計測と,それを用いた高感度な半導体製造プロセスの管理が実現できる。 (もっと読む)


【課題】 リムとタイヤの組付け状態を、タイヤの一周に渡り短時間で連続的に測定できる、リム組付けタイヤの組付け状態測定方法を提供する。
【解決手段】 タイヤ内部構造測定装置10に、リム30にタイヤ56を組み付けたリム組付けタイヤ12を回転可能に支持し、リム組付けタイヤ12を、押圧負荷のない無負荷状態で回転させ、X線照射装置20からX線をリム30の接線方向に照射し、X線検知装置22により、リム30とタイヤ56との組付部のX線透過情報を所定のタイミングで取り込み、取り込んだX線透過情報に基づいて、画像形成処理部28で接線方向透過画像を形成し、得られた接線方向透過画像を用いて、リム30とタイヤ56の特定部位の位置情報を得る。 (もっと読む)


【課題】撮像レシピ又は/及び計測レシピを自動かつ高速に生成できるようにして検査効率及び自動化率を向上させたSEM装置又はSEMシステム並びにその方法を提供することにある。
【解決手段】SEM装置又はSEMシステムにおける撮像レシピ及び計測レシピ生成方法であって、レシピ演算部において、評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の許容値を評価する評価ステップと、回路パターンの設計データ上の任意の領域をアドレッシングポイントとした場合における前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の予想値を評価する評価ステップと、前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の許容値と前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の予想値との関係に基づいて、撮像レシピ及び計測レシピを決定する決定ステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】物理量検査領域の各区画毎に、物理量算出結果をそれに対応するX線画像と関連付けた把握容易な表示を行なうことができるX線検査装置を提供する。
【解決手段】X線源2と、X線検出部4と、データ処理部6と、表示部20とを備えたX線検査装置において、被検査物の質量検査領域を複数の区画A,B,Cに分割し、X線検出部4からの検出情報のうち所定検出レベル範囲の検出情報を複数の区画の各区画毎に抽出して質量測定領域のX線画像をX線画像生成部11に生成させる領域抽出処理部8と、この領域抽出処理部8で抽出された検出情報に基づいてワークWの質量を算出する質量算出部13と、複数の区画における質量測定領域のX線画像と質量算出部13で算出された質量を示す複数のグラフ表示要素43,44,45とをそれぞれ関連付けて表示部20に表示させる表示データ生成部15とを設ける。 (もっと読む)


【課題】光学顕微鏡による観察面の直接観察では発見しにくい、平坦で特徴の少ない面内の極小領域に規則性を持って点在する試料であった場合に、アライメントを容易にする。
【解決手段】走査電子顕微鏡の試料室外もしくは試料室内に、走査電子顕微鏡の観察面に対して斜め方向に光を照射して反射光を検出する光学顕微鏡ユニット24を設ける。アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。撮影した画像をテンプレートマッチングの手法を用いて解析し、実画像上における観察位置の座標情報を推定する。 (もっと読む)


【課題】 検査対象とすべき最適な断層像を特定することが困難であり、結果として高精度の検査を行うことができなかった。
【解決手段】 X線によって検査対象を検査するにあたり、X線を基板上の検査対象品に照射して異なる方向から撮影した複数のX線画像を取得し、上記複数のX線画像に基づいて再構成演算を実行し、当該再構成演算によって得られた再構成情報に含まれる上記基板の配線パターンの情報に基づいて上記検査対象品の検査位置を決定する。 (もっと読む)


【目的】本発明は、電子線ビームを測定対象にフォーカスして取得した画像上のパターンの測定を行うパターン測定方法およびパターン測定装置に関し、走査型電子顕微鏡なしで測定データ情報を指定して登録可能になると共に測定対象のマスク上でのパターンの欠落や余分なパターンがあっても確実かつ正確に測定データ情報を指定して測定することを目的とする。
【構成】測定対象の設計データのパターン上で指定された測定対象のパターンと測定領域と測定方法からなる測定データ情報を読み込むステップと、読み込んだ測定データ情報をもとに、電子線ビームを測定対象にフォーカスして画像を取得するステップと、取得した画像上で、読み込んだ測定データ情報をもとに、パターンの有無、余分なパターンの有無、および寸法を測定するステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明の主たる目的の1つは、複雑化・多層化された素子を測長するのに好適な試料寸法測定方法、及び試料寸法測定装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によれば、上記目的を達成するために、半導体素子のデザインデータを用いて、試料像上のパターンの寸法を測定するに当たり、試料像、或いは測定対象の半導体素子の状況に応じて、測定条件を変化させる方法、及び装置を提案する。このような構成によれば、試料像の状態や試料上に形成されている素子の状態に応じて、適切な測定条件を選択することができるため、測定効率の向上が可能となる。 (もっと読む)


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