【課題】複数種類の測定データ及び解析データを取得できるＸ線分析装置において、データの内容とその内容をもたらした解析ソフトウエアとを簡単且つ正確に把握できるようにする。
【解決手段】複数の測定手法を実現できる機能を持ったＸ線分析装置１であり、この装置は、個々の測定手法を実現して測定データを取得する測定ソフトウエア３６と、その測定データに対して所定の解析を行って解析データを取得する解析ソフトウエア３７と、測定データ及び解析データの個々に基づいて縮小画像４２を作成する縮小画像作成手段２、３８と、解析ソフトウエアを指し示すアイコン４３を作成する解析アイコン作成手段２、３９と、縮小画像４２とアイコン４３とを互いが対応関係にあることを示しつつ同じ画面９ａ内に表示する画像表示手段２，９とを有する。 （もっと読む）

【課題】試料作製装置及び試料作製方法において、簡便な方法により加工対象の試料の膜厚を測定すること。
【解決手段】試料Sに第１の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第１の二次信号Is₁を取得するステップと、試料Sに第２の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第２の二次信号Is₂を取得するステップと、第２の二次信号Is₂と第１の二次信号Is₁との比Is₂／Is₁を算出するステップと、比Is₂／Is₁が試料Sの膜厚tに依存することを利用し、比Is₂／Is₁に基づいて膜厚tを算出するステップと、算出した試料Sの膜厚tに基づき、膜厚tが目標膜厚t₀となるのに要する試料Sの加工量を算出するステップと、試料SにイオンビームIBを照射して上記加工量だけ試料Sを加工して、膜厚tを目標膜厚t₀に近づけるステップとを有する試料作製方法による。 （もっと読む）

【課題】省スペースを実現するＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０は、Ｘ線照射部と、Ｘ線検出部と、画像生成部と、本体１１と、表示部３０とを備える。Ｘ線照射部は、検査対象物にＸ線を照射する。Ｘ線検出部は、検査対象物を透過したＸ線を検出する。画像生成部は、Ｘ線検出部によって検出されたＸ線の強度に応じて、検査対象物のＸ線画像を生成する。本体は、Ｘ線照射部、Ｘ線検出部、および画像生成部を収容する。表示部は、本体に移動可能に取り付けられる。また、表示部は、画像生成部によって生成された検査対象物のＸ線画像を表示する。 （もっと読む）

【課題】個人差を生じさせずにＲＯＩ範囲を設定して検量線を算出することが可能な、検量線算出方法、及び情報処理装置を提供すること。
【解決手段】測定スペクトル上のＲＯＩ範囲を設定するＲＯＩ範囲設定工程と、設定されたＲＯＩ範囲の積分強度を前記測定スペクトルごとに算出し、算出した積分強度に基づき最小二乗法により検量線を算出する検量線算出工程と、前記積分強度と前記検量線との誤差を算出する誤差算出工程とを含み、前記ＲＯＩ範囲設定工程において、前記測定スペクトル上のＲＯＩ範囲を変更し、変更後のＲＯＩ範囲に基づき算出される前記誤差が最小となるＲＯＩ範囲を決定する。 （もっと読む）

【課題】蛍光体の劣化を適切に、かつ容易に検知する。
【解決手段】放射線露光によって蛍光を発する蛍光物質を含有した蛍光体１０と、前記蛍光体の放射線入射側に隣設されて該蛍光体によって支持され、前記蛍光体に生じた蛍光を検出する薄膜型のセンサ部１１と、を備える放射線画像検出装置１の保守方法であって、下記の構造ノイズ検査、ＭＴＦ検査、暗電流検査のうち少なくとも一つの検査を定期的に実施して前記蛍光体の劣化を検知する。構造ノイズ検査：放射線画像を取得し、取得された画像及びそれ以前に取得された画像の両画像に表れる前記放射線画像検出装置固有のパターンの変化を検知する。ＭＴＦ検査：ＭＴＦチャートを撮影した放射線画像を取得し、取得された放射線画像のＭＴＦの変化を検知する。暗電流検査：放射線非露光での黒画像を取得し、取得された黒画像に基づいてセンサ部の暗電流の変化を検知する。 （もっと読む）

【課題】鉛含有量を簡易かつ正確に測定することのできる蛍光Ｘ線分析法および装置を提供する。
【解決手段】鉛含有量が既知の標準試料により得られる鉛含有量と鉛特性Ｘ線強度との関係と、鉛特性Ｘ線強度とに基づいて鉛含有量を求める蛍光Ｘ線分析法において、Ｘ線管球電圧を変えながらＸ線透視像を観察し、Ｘ線透視像に投影された鉛含有粒子の影の有無を調べることにより、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しているか否かを判定基準として、貫通していない鉛含有粒子を有しないグループ１と、貫通していない鉛含有粒子を有するグループ２とに分類し、グループ１の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しないものを標準試料として選定し、グループ２の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有するものを標準試料として選定する。 （もっと読む）

【課題】 複数のＸ線ビームを出射させるＸ線源を用いたＸ線撮像装置であって、干渉パターンの不均一さを軽減することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器と、を備える。Ｘ線源のターゲットは複数の凸部を有し、複数の凸部の各々は出射面を有する。出射面は、電子源からの電子線が入射することにより、回折格子へ向かうＸ線を出射する。出射面から出射されたＸ線は、回折格子で回折されることにより、干渉パターンを形成する。ターゲットの複数の凸部は、複数の干渉パターンの明部同士及び暗部同士が互いに重なるように配列されていて、複数の出射面の各々と回折格子との距離が互いに等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プローブ粒子の照射量を適切に決定できるイオン散乱分光測定方法を提供する。
【解決手段】イオン散乱分光測定方法は、プローブ粒子の試料への照射開始工程と、試料で散乱され検出されたプローブ粒子数を第１照射量まで積算して第１イオン散乱分光スペクトルを得る工程と、検出プローブ粒子数を第１照射量より多い第２照射量まで積算して第２イオン散乱分光スペクトルを得る工程と、第１イオン散乱分光スペクトルに基づき、試料中の第１元素に対応する第１エネルギ範囲について、単位照射量当りの検出プローブ粒子数である第１の散乱率を算出する工程と、第２イオン散乱分光スペクトルに基づき、第１エネルギ範囲について、第２散乱率を算出する工程と、第２散乱率の第１散乱率に対する違いが基準に対して少ないかどうか判定する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】バックグラウンド波形の急激に変化する偏曲点付近に存在するスペクトルであっても、蛍光Ｘ線ピーク波形とバックグラウンド波形の適当な分離を図ること。
【解決手段】典型的なバックグラウンド波形と強度を求めたい蛍光Ｘ線ピーク波形とそのピークの周辺にあり検出された複数の蛍光Ｘ線ピーク波形を使い、測定された波形を良く再現するようにバックグラウンド波形と蛍光Ｘ線ピーク波形の強度を変化させる。そして、出来上がったスペクトルから、蛍光Ｘ線ピーク波形とバックグラウンド波形を分離する蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】４以上の元素を含む試料の相解析を効率良く行えるようにする。
【解決手段】相解析画面上に表示された２元散布図（又は３元散布図）上で、分析者がマウス操作等によりプロット点の集まり（クラスター）を異なる色の囲み線ａ、ｂ、ｃで指定すると、各囲み線内に含まれるプロット点は囲み線と同色に変更される（ａ）。同時に、相解析画面上に表示された分布図上では、散布図上のプロット点に対応した位置が同色で示される。したがって、分布図上でクラスターに対応する領域がそれぞれ異なる色Ｍａ、Ｍｂ、Ｍｃで示される（ｂ）。表示される散布図が別の元素組合せのものに切り替えられても、分布図上の各位置に対応したプロット点に同じ色が与えられる（ｃ）。これにより、異なる元素組合せの散布図を関連付けることができる。また、異なる散布図上で指定したクラスターの位置を１つの分布図上で確認することができる。 （もっと読む）

【課題】 機長の増大を抑えるとともに、被検査物の形状にかかわらず被検査物が転倒することなく安定して搬送できるＸ線遮蔽装置及びそれを用いたＸ線異物検出システムを提供する。
【解決手段】 Ｘ線遮蔽装置２は、搬送コンベア２１とＸ線遮蔽カバー２２とからなるＸ線遮蔽トンネル２０と、搬送コンベア２１の始端から中途にわたって設けられ、被検査物を斜め方向に案内する第１の案内部材２５と、搬送コンベア２１の中途から終端にわたって設けられ、被検査物を斜め方向に案内する第２の案内部材２６と、Ｘ線遮蔽トンネル２０の長手方向の中程に、Ｘ線遮蔽トンネル２０の幅方向の一端側から幅方向の中程まで延びて設けられ、Ｘ線を遮蔽する第１の遮蔽板２３と、Ｘ線遮蔽トンネル２０の長手方向の一端側に、Ｘ線遮蔽トンネル２０の幅方向の他端側から幅方向の中程まで延びて設けられ、Ｘ線を遮蔽する第２の遮蔽板２４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。
【解決手段】
観察装置を，座標変換情報を記憶する記憶手段と、検査装置で検出した複数の欠陥の座標情報を記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を用いてそれぞれの欠陥に対応する観察装置上の座標情報に変換する座標情報変換手段と、座標情報変換手段で変換した観察装置上の座標情報に基づいてそれぞれの欠陥を撮像する撮像手段と、撮像手段で取得した画像から抽出した欠陥の座標情報と座標変換手段で変換したそれぞれの欠陥の座標情報とから記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を修正する座標情報修正手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】微小試料を加工する際のユーザの負担を効果的に低減できる微小試料の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る微小試料の加工方法は、微小試料の断面のＳＥＭ画像を取得するステップと、取得したＳＥＭ画像の一部の領域を指定するステップと、指定した領域の濃淡度を指定するステップと、集束イオンビームを照射して、微小試料を加工するステップと、加工した微小試料の断面のＳＥＭ画像を取得するステップと、取得したＳＥＭ画像の指定した領域の濃淡度を算出するステップと、算出した濃淡度が、指定した濃淡度を満たすかどうかを判定するステップとを具備し、算出した濃淡度が指定した濃淡度を満たすまで、微小試料を加工するステップから濃淡度を算出するステップまでを繰り返すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥レビューのレポート作成に要する時間を短縮し、欠陥レビュー装置あるいは検査システムユーザの利便性を向上する。
【解決手段】被検査試料に存在する複数の欠陥のレビュー機能を有する欠陥レビュー装置に接続されて使用されるレビュー支援装置１３において、外観検査装置３などによって取り込まれた欠陥の位置情報と画像情報とを処理する演算手段と、欠陥レビューの結果を要約したレビューレポートを作成するための操作画面が表示されるモニタとを有し、レビューレポートのレイアウト編集機能を持ったレビューレポート作成ツール１０〜１２を構成することにより上記の課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 作業効率よく、安全に試料測定を行うことができるＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 試料上の照射ポイントに放射線を照射する放射線源と、試料から放出される特性Ｘ線及び散乱Ｘ線を検出し、特性Ｘ線及び散乱Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、信号を分析する分析器と、試料を載置する試料ステージと、試料ステージ上の試料と放射線源及びＸ線検出器とを相対的に移動可能な移動機構と、試料における照射ポイントの高さを測定可能な高さ測定機構と、測定した試料における照射ポイントの高さに基づいて移動機構を制御して、試料と放射線源及びＸ線検出器との距離を調整する制御部とを備えていることを特徴とするＸ線分析装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】極めて短時間に且つ簡単に試料分析を行う。
【解決手段】 電子ビーム照射により試料４表面から発生し、Ｘ線分光器７のＸ線検出器に検出された特性Ｘ線信号に基づくスペクトルを表示装置１７の表示画面上に表示させる様に成してあり、過去の分析に使用した分析条件に関するデータとその分析条件下で検出された信号に基づいて作成された分析データとを関連付けて記憶する記憶手段１６、分析データに関係するパラメータの数値範囲を選択可能に表示手段１７に表示させるパラメータ表示指令部９Ｐ、表示されたパラメータから分析データに関係するパラメータの数値範囲を指定する指定手段１８、及び、指定されたパラメータの数値範囲が含まれる分析データに関係づけられた分析条件データを記憶手段１６に記憶されたデータから抽出し、表示手段１７に表示させる分析条件抽出手段２１を備えている。 （もっと読む）

【課題】不具合箇所を容易に特定することのできる半導体装置の解析装置及び解析方法の提供。
【解決手段】半導体装置の解析装置は、荷電粒子ビームを試料に照射し、検出した２次電子強度に応じた２次電子像を表示する機能を備える。解析対象の半導体装置に対し、第１の照射パターンで、荷電粒子ビームを照射して、電荷を注入する。次に、前記解析対象の半導体装置の電荷の蓄積状態を観測する。電荷の蓄積状態が正常でない箇所を、半導体装置の不具合箇所として検出することができる。 （もっと読む）

【課題】被検査試料の外周部と中心部とで帯電特性が異なることから、被検査試料外周部と中心部とで同等の検査感度を得ることができない。
【解決手段】被検査試料を載置する試料ホルダの外周部に試料カバーを設け、被検査試料の帯電特性にあわせて試料カバーの帯電特性を変更する。これにより、試料外周部と中心部とで均質な帯電状態を形成でき、試料外周部の検査・観察が従来よりも高感度に実現可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＣＡ線の製造工程におけるＣｕ被覆とＡｌ線の密着性を正確に予測できる比較的簡単な評価方法を提供し、伸線加工によって目的とするＣＡ線を製造する際のＣｕ被覆の剥離やＡｌ線の露出、さらには断線の可能性等を事前に推測できるようにすることにある。
【解決手段】Ａｌ線上にＣｕテープをフォーミングし、ついで前記Ｃｕテープの突合せ部分を溶接した後、縮径することによってＡｌ線とＣｕテープ被覆を密着させてＣＡ母材とし、ついで前記ＣＡ母材を伸線加工するＣＡ線の製造方法において、前記伸線加工工程における特定の段階で、Ｃｕ被覆剥離面の新生面比率を測定することによって、Ａｌ線とＣｕ被覆の密着性を評価するＣＡ線の評価方法である。 （もっと読む）

【課題】試料ホルダの形状や搭載状態を、ステージマップ上に表示できる表面分析装置を提供する。
【解決手段】複数の試料ホルダを搭載可能な試料ステージ１９、試料ステージ１９を駆動するステージ駆動手段１１、複数の試料ホルダにそれぞれ収納された試料に対して、逐次測定をする測定手段１２を有する測定ユニット１と、ホルダベース、複数の試料ホルダの装着位置座標及び複数の試料ホルダの形状に関する表示情報を生成するマップ表示情報生成手段２３１、複数の試料ホルダの装着位置及び複数の試料ホルダの種類の情報を含む配置情報を生成するホルダ配置情報生成手段２２２、配置情報からホルダ配置図を生成するホルダ配置図生成手段２２３、ホルダ配置図をステージマップ図に合成するステージマップ表示手段２２６を有する演算処理装置２２ａと、ステージマップ図を表示する表示装置２６とを備える。 （もっと読む）