【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームＩＢを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム制御部３と、前記荷電粒子ビームＪＢが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 従来の光の散乱を用いた異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とでは、全く原理が異なることから、得られた異物検査データを直接比較することはできず、総合的な異物管理ができない課題があった。また、同一のウェハを、散乱光を用いた検査装置と反射結像型電子顕微鏡との別々の装置で検査を実施すると、二つの装置間でのウェハ搬送中に新たな異物が付着する危険性を除外できず、厳密な検査データの比較ができないという課題があった。
【解決手段】 反射結像型電子顕微鏡の対物レンズの周囲に、レーザー光導入システムと、散乱光検出器を配置し、同一の装置で散乱光による異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とを実施できるようにした。 （もっと読む）

【課題】皮膜付き鋼板などの試料の表面に生じたクラックをより適切に評価し得るクラック評価方法を提供する。
【解決手段】試料表面に発生したクラックを評価するクラック評価方法であって、上記試料表面に金属薄膜を成膜する工程と、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて上記金属薄膜の反射電子像（ＢＳＥ像）を取得する工程と、上記取得したＢＳＥ像に基いて上記クラックを評価する工程と、を備えるクラック評価方法。 （もっと読む）

【課題】前置増幅部前段の性能特性の変動による影響が抑制されたＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】標準サンプルから放出された蛍光Ｘ線を検出する半導体Ｘ線検出素子、及び半導体Ｘ線検出素子の出力信号を受信する初段ＦＥＴ回路を含む前置増幅部前段と、前置増幅部前段を冷却する冷却装置と、前置増幅部前段から出力される検出信号を分析する信号分析装置と、検出信号を分析して得られる前置増幅部前段の性能特性を示す性能値、及び前置増幅部前段の温度をリアルタイムで監視し、冷却装置を制御して性能値が規定値を満たすように前置増幅部前段の温度を調整させる制御装置とを備え、前置増幅部前段が調整された温度において、測定対象物から放出された蛍光Ｘ線を分析する。 （もっと読む）

【課題】 試料分析方法及び試料分析装置に関し、不安定な中間酸化物を含む酸化膜を表面に有するシリコンを主成分とする基板を酸素一次イオンにより精度良く分析する。
【解決手段】 シリコンを主成分とし、表面に中間酸化物を含む酸化膜を有する被分析試料の表面に９０ｅＶ以下のエネルギー範囲で酸素イオンを供給して前記中間酸化物を含む酸化膜を改質させる前処理工程と、前記前処理工程の後に、二次イオン質量分析を行う工程とを設ける。 （もっと読む）

【課題】樹脂中の塩素濃度を蛍光Ｘ線分析で正確に測定することが可能な塩素濃度測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の塩素濃度測定方法は、真空中での蛍光Ｘ線分析により樹脂中の塩素濃度を測定する方法であって、対陰極としてロジウムを用いて発生させたＸ線を、クロム測定用フィルタ２３を通して測定試料Ｓに照射し、測定試料Ｓとの比重差が０.１５以内の標準試料を用いて作成した検量線に基づき、照射により測定試料Ｓから発生した蛍光Ｘ線の強度から塩素濃度を算出する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子顕微鏡が、様々なビームエネルギーでの一連の測定を必要とすることなく、試料からの深さ分解像を取得するために用いることのできる方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子顕微鏡を用いた試料の検査方法は、試料ホルダ上に試料を載置する手順；粒子光学鏡筒を用いて試料の表面上に特別な放射線ビームを案内することで、試料から放出される放射線を生じさせる相互作用を生じさせる手順；検出装置を用いて放出される放射線の少なくとも一部を検出する手順、試料の表面に対して垂直な軸に対する放出される放射線の放出角θ_nの関数として検出装置の出力O_nを記録することによって、複数のθ_nについて測定データの組M=｛（O_n,θ_n）｝をまとめる手順、コンピュータ処理装置を用いて測定データの組Mのデコンボリューションを自動的に行って、結果の組R=｛（V_k,L_k）｝に分解する手順を有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の真空室内にイオン液体を充填した液体浴と超音波振動手段を配置し、イオン液体と試料の加工対象領域が接触した状態において、イオン液体中に超音波振動を伝搬させて試料を加工する。
【効果】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工ができるため、スループットを向上させるとともに、大気の影響を防止する。 （もっと読む）

【課題】試料表面及び厚さ方向の構造を精度よく分析できる試料構造の分析方法及び分析装置を提供する。
【解決手段】この分析装置は、試料２００が配置されるステージ１０３と、Ｘ線照射機１０１と、Ｘ線検出器１０２と、針状電極１０５と、針状電極１０５と同期してレーザーを走査するレーザー照射装置１０６と、少なくともステージ１０３、該ステージ１０３に設置される試料２００、及び針状電極１０５が収容される真空チャンバ１２１と、電源装置１０８とを備え、試料２００にＸ線１１１を照射して、該試料にて回折されたＸ線１１２をＸ線検出器１０２で検出する工程と、試料２００に高電圧及びレーザー１１３を印加して、針状電極１０５と試料２００の間に生じた電界強度とレーザーパワーにより、該試料表面を電界蒸発して掘削する工程とを交互に行うように制御されている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検出器等の被冷却物を冷却できない原因となる異常箇所を判定できる冷却装置を提供する。
【解決手段】筐体４１内に配置された被冷却物３２を設定目標温度に冷却する冷却装置４０であって、被冷却物３２の熱を吸熱する吸熱部５１と、吸熱部５１が吸熱した熱を排熱する排熱部５２と、回転羽根４２ｂが回転することで排熱部５２に向かって冷却風を送るファン４２と、被冷却物３２の温度を測定する被冷却物温度センサ４４と、吸熱部５１の温度を測定する吸熱部温度センサ４５と、被冷却物温度センサ４４からの温度情報に基づいて、被冷却物３２の温度が設定目標温度となるように、吸熱部５１が吸熱する熱量を調整する制御部とを備え、制御部は、回転検知センサ４６、被冷却物温度センサ４４及び吸熱部温度センサ４５からの情報に基づいて、被冷却物３２を冷却することができない原因となる異常箇所を判定する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で安定したパルスＸ線を発生させることができるＸ線装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線装置１は、Ｘ線源１０、照射部２０、結像部３０、検出部４０、真空容器５０および制御部６０を備える。Ｘ線源１０は、Ｘ線を連続的に出力する。照射部２０は、入力端２１および出力端２２を有し、Ｘ線が或る特定の方位に沿って入力端２１に到達すると、そのＸ線を出力端２２から試料９０へ出力することができる。結像部３０は、試料９０で発生した二次Ｘ線の像を検出部４０の受光面上に結像する。検出部４０は、照射部２０の出力端２２から出力されたＸ線が試料９０に照射されたときに試料９０で発生した二次Ｘ線（蛍光Ｘ線または散乱Ｘ線）を入力して、この二次Ｘ線の入力に応じて電荷を発生して蓄積し、その蓄積した電荷を読み出す。 （もっと読む）

【課題】 強い強度の互いにコヒーレントな少なくとも２つのＸ線ビームを得ることができるＸ線ホログラフィ光源素子を提供する。
【解決手段】 入射したＸ線を分割して互いにコヒーレントな少なくとも２つのＸ線ビームを出射するＸ線ホログラフィ光源素子であって、コアとクラッドとを有し、入射したＸ線を分割するＸ線導波路と、前記Ｘ線導波路の出射側の終端部に配されており、Ｘ線ビームを出射する少なくとも２つの開口部が設けられている遮蔽部材とを備え、前記コアは、複数の屈折率実部の異なる物質を含む基本構造が周期的に配された周期性構造体であり、前記コアと前記クラッドとの界面における前記Ｘ線の全反射臨界角は、前記コアの前記基本構造の周期性に対応するブラッグ角よりも大きいＸ線ホログラフィ光源素子。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構を付加するだけで、測定室内の雰囲気を短時間でヘリウムガスから空気に置換することが可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】開口部３を有するベース板１の下方に測定室２が設けられ、該開口部３を塞ぐように試料Ｓを載置し、試料ＳにＸ線光源４から一次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ線を検出器５で検出して試料Ｓに含まれる元素を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、測定室２にヘリウムガスを注入するヘリウムガス注入手段Ａと、測定室２に空気を強制送入する空気送入手段Ｂと、ベース板１の試料Ｓの上方空間１４を囲う着脱可能な蓋体１５とを備え、ヘリウムガス注入手段Ａは、測定室２の壁板２ａに形成されたガス注入口６と、該ガス注入口６からガスボンベ７に接続する配管８とからなり、空気送入手段Ｂは、測定室２の壁板２ａに形成された空気注入口９と、該空気注入口９から空気供給源１０に接続する配管１１とで構成する。 （もっと読む）

【課題】ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。
【解決手段】反射高速電子回析装置１０は、真空チャンバーの内部に着脱可能に設置された蒸着源１４ａ〜１４ｃと、試料１１に形成された薄膜に向かって電子線２８を発射する電子銃１５と、薄膜の表面において反射した反射電子から生成される反射電子像回析パターンを映し出す蛍光スクリーン１８と、反射電子を電流増幅するマイクロチャンネルプレート１７ａ，１７ｂとを有する。反射高速電子回析装置１０では、ｎＡのレベルのエミッション電流値の電子線２８を電子銃１５から薄膜に向かって発射する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線のエネルギーに依らず、微小領域における高効率・高感度分析が可能な荷電粒子線分析装置を提供する。
【解決手段】 真空容器（５、６）内で荷電粒子線１７を試料１４に照射し、試料１４から発生するＸ線３をＸ線検出器２８で検出して試料１４を分析する荷電粒子線分析装置４において、構成の異なるＸ線レンズ１（１ａ、１ｂ）を真空容器（５、６）内に２個以上備える。Ｘ線レンズ交換に伴う真空容器の大気開放や真空引きが不要になり、高効率・高感度分析が可能となる。 （もっと読む）

【課題】微小試料の測定室への落下による装置の不具合と故障を、未然に防止することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】測定部に備えられた撮像装置７によって、試料３下部の透明な落下防止板１１を通して試料３の被測定部位を、例えば０．５秒に一回撮影する。この画像を画像記憶装置１６によって記憶し、画像比較装置１５直近の２つの画像を比較する画像に差がある場合は、表示装置１７に警報を表示するとともに、制御装置１４を介して落下防止板１１の動作を停止する。 （もっと読む）

【課題】小さい分析領域への高い強度のＸ線の照射を図ること。
【解決手段】電子ビーム２の衝突によりＸ線５を放出するアノードターゲット４と、アノードターゲット４に対向する位置に配置され、電子ビーム２を放出する複数のカソード電極１と、電子ビーム２の照射方向を制御する電子光学系と、アノードターゲット４とカソード電極１と電子光学系とを収容する外囲器と、を有するＸ線管を提供する。 （もっと読む）

【課題】第1の測定と第2の測定との間で測定サンプルが大気に触れないようにすることができ、またこれらの複数の測定にかかる時間を短縮化すること。
【解決手段】一つの気密（減圧）容器内に、第１の測定を行う第１の測定部と、第１とは異なる第２の測定を行う第２の測定部とを設ける。試料を取り付けたサンプルホルダの、第１の測定部から第２の測定部への移動は、サンプルホルダ移動手段により行う。 （もっと読む）

【課題】 非導電性の物体の微細形状を、物体の形態を変化させることなく観察可能とすること
【解決手段】 観察する物体の表面に液晶を被覆した観察試料を電子顕微鏡内に配置し、前記観察試料を加熱することにより前記液晶の膜厚を変更するとともに、前記走査型電子顕微鏡により前記観察試料を観察する。これにより最適な液晶の膜厚における観察が可能となる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。
【解決手段】同一箇所を複数回スキャンして得られる画像あるいは画像信号を加算し、加算回数の異なる画像あるいは画像信号を比較することにより、擬似欠陥あるいは真の欠陥の欠陥位置を検出する。擬似欠陥あるいは真の欠陥のいずれを検出するかは、加算回数の異なる複数の画像の比較演算の組み合わせによって定める。 （もっと読む）