【課題】検査感度を向上させるとともに、孔部の場所によらず装置全体として検査感度を均一とすることが可能となる光学式検査装置を提供する。
【解決手段】蛍光発生ユニット５に、蛍光を上方へ反射させるテーパ部６ａと反射部１２ｃと、蛍光を通過させる貫通穴１３ａ，１４ａと形成することで、光検出器７を被検査物２とは反対側に配置することとし、光検出器７が被検査物２や検査光源ユニット３と干渉することを防止し、各部品同士の距離を近づける。これによって、検査面積を広げた場合であっても、被検査物２の孔部への検査光量を増加させ、孔部を通過した検査光の蛍光板への入射量を増加させて、被検査物２の孔部に対する検査感度を向上させることを可能とする。また、被検査物２のエッジ部付近の孔部に対しても、十分な検査光量を確保して、装置全体として検査感度を均一とすることを可能とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの表面粗さに由来する背景散乱光が仰角方向または方位角方向に指向性を有する場合や、被検査ウェーハ上の位置によって背景散乱光の指向性が変化するような場合に、全散乱光量に占める背景散乱光の相対比率や角度方向での偏りが比較的大きくないときであっても、良好なＳ／Ｎで異物や欠陥からの散乱光検出ができる表面検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明による表面検査では、複数の方向に配置された複数の光検出器によって被検査物体表面または表面近傍で散乱・回折・反射された光を検出し、それによって得られた複数の信号の一次結合による重み付き加算処理又は重み付き平均化処理をすることにより、非検査物体表面等における異物や欠陥を検出する。また、その重み付き加算処理又は重み付き平均化処理の結果から異物や欠陥の大きさを算出する。 （もっと読む）

【課題】表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出するための改良された高感度光学検査システムの提供
【解決手段】本発明のシステムは、回折面上の所定の領域を照射して、欠陥または表面パタンに応答して散乱強度分布を生成する第１および第２の照射手段と、回折面のまわりの複数の位置において散乱強度分布の強度レベルを検出する手段と、検出された最小強度レベルを確定する手段と、検出された最小強度レベルが閾値強度レベル未満である場合に回折面の照射領域上に欠陥が存在しないことを示し、検出された最小強度レベルが閾値強度レベルを超える場合に回折面の照射領域上に欠陥が存在することを示す、検出された最小強度レベルに応答する手段と、回折面を移動させ回折面上に走査パターンを生成し表面全体を検査する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】ゴースト粒子に対する感度が鈍感な粒子検出システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射のビームを条件付ける照明システムを有している。パターニングサポートによって、放射のビームの断面にパターンを付与するように機能するパターニングデバイスが支持される。基板サポートによって基板が保持される。投影システムによって、パターン化された放射のビームが基板のターゲット部分に投射される。粒子検出システムによって、対象の表面の粒子が検出される。粒子検出システムは、放射の照明ビームを生成する放射源を有している。放射の照明ビームは、第１の光路に沿って対象の表面の検出領域へ導かれる。放射ディテクタは、検出領域からの第２の光路に沿った放射の検出ビームを受け取る。第１の光路の長さと第２の光路の長さは、実質的に同じ長さになっている。 （もっと読む）

【課題】 平面上の突起、窪み、折れなどの平面異常による外観不良を高速に検査するにあたり、反射率や透過率から検査する方式の表面検査装置では平面異常だけを選択的に検出することは非常に困難であった。またレーザ光を使った凹凸測定による検出方法では分解能が足りず外観不良を検査することは不可能であった。
【解決手段】光源より出射された光を、前記平面に対してライン状に走査する光走査手段と、該走査光による該平面および平面異常部からの反射光を受光する反射光位置検知手段と、該検知手段からの検知信号により該平面異常部の角度を算出して平面異常の検査を行う角度検査測定部と、を有する光走査式平面外観検査装置とした。また前記反射光位置検知手段は結像レンズによる結像位置から所定の距離だけ光軸方向に離れて設けることとした。 （もっと読む）

【課題】複数の検出器で得られる検出信号の検出特性の差異を装置上で解析し、回路やソフトウェアを変更することなく種々の検査目的に柔軟に対応できるようにすることができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】試料１００を支持する試料ステージ１０１と、試料ステージ１０１上の試料１００に照明光１１１を照射する照明光源１０３と、照明光源１０３の照明光スポットに対して互いに位置が異なるように配置され、試料１００の表面から発生する散乱光１１２をそれぞれ検出する複数の検出器１２０ａ〜ｄと、検出器１２０ａ〜ｄからの検出信号を設定の条件に従って合成する信号合成部１０５と、信号合成部１０５による検出信号の合成条件を設定する入力操作部１０９と、入力操作部１０９により設定された条件に従って信号合成部１０５で合成された合成信号を基に構築された合成マップ２２０ａを表示する情報表示部１０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】
ディスクの表裏面の検査効率を向上させることができ、ディスク検査装置の小型化が可能なディスク搬送機構，ディスク検査装置，ディスクの検査方法を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、所定距離離れたそれぞれの初期位置に、ディスク検査のためにスピンドルが設定される検査位置を挟んで直線状に配置された第１，第２のスピンドルを有し、検査位置の前側あるいは後ろ側のいずれか一方にディスク反転機構が設けられ、第１のスピンドルに装着されたディスクが検査位置の位置に移送されるときに、同時に第２のスピンドルに装着されたディスクが検査位置の位置から自己の初期位置に戻され、第２のスピンドルに装着されたディスクが検査位置の位置に移送されるときに、同時に第１のスピンドルに装着されたディスクが検査位置の位置から自己の初期位置に戻されるものである。 （もっと読む）

【課題】ワーク（ウェハ）の平坦ではないエッジ部を走査した際に、そこから生じる散乱光を少しでも低減し、異物検出感度の低下および検出器の劣化を低減することにある。
【解決手段】ワーク（ウェハ）保持機構の移動方向と斜方から照射されたレーザビームの照射方向とが180度反対方向になるように構成される手段を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出の分解能（精度）を向上させるためには、θエンコーダの分解能を上げることが必要であるが、エンコーダの分解能を向上させるには限度があり、欠陥検出の位置精度向上が困難であった。
【解決手段】欠陥検出を行うＡ／Ｄ変換のサンプリング時間間隔を、ウェーハが回転移転するときに得られる角度情報（θエンコーダ）の時間間隔より小さくなるように構成し、サンプリングされたＡ／Ｄ変換結果から、そのピーク位置が角度情報の１単位内のどこに存在するかを計測（Δθを計測）する手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】高価な画像処理装置を用いることなく中子孔の狭窄・閉塞状態の良否判定を短時間で行うことができる中子孔検査方法およびその装置を目的とする。
【解決手段】 内面が微細凹凸粗面で非直線状の中子孔３の開口２から投光器４の検査光を孔内面に照射し、孔内面形状を表した投影光を一つ以上の屈曲孔部４で拡散反射させて孔内面照射用の面光源を一つ以上得、該面光源からの反射光を他方の開口２に臨ませた受光器６により検出し、検出された光量を良否判定器１５で閾値と比較して中子孔３の狭窄・閉塞状態を判定するものとしたから、一方の開口２から他方の開口２までの屈曲孔部形状と孔内面形状に基く光量が反射光として検出され、中子孔の良否判定を簡単且つ短時間で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ検査装置の色検査の精度を向上させる。
【解決手段】カラーフィルタ検査装置１のデータ処理部１００は、ＲＧＢ毎の選択波長帯域を設定する選択波長帯域設定部１０６と、分光測光装置２５により測定された各画素の分光透過率データに基づいて、各画素の前記選択波長帯域内の分光透過率の代表値を算出する透過率代表値算出部１０３と、各画素の透過率代表値に基づいて、前記カラーフィルタの検査対象領域全体についてのＲＧＢ毎の透過率画像データを各々生成する透過率画像データ生成部１０４と、前記画像データ生成部によりＲＧＢ毎に各々生成された前記透過率画像データを外部に出力する画像データ出力部１０５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光計測を用いてその構造のプロファイルを正確に決定するため、その構造を正確に特徴づけるプロファイルモデルが用いられなければならない。
【解決手段】構造を特徴づけるプロファイルモデルが、そのプロファイルモデルを特徴づける１組のプロファイルパラメータを表示することによって評価される。各プロファイルパラメータは、その値についてある範囲を有する。ある範囲の値を有する各プロファイルパラメータについて、その範囲内でプロファイルパラメータの値を選択する調節ツールが表示されている。光計測ツールを用いて計測された回折信号が表示される。シミュレーションによる回折信号は、プロファイルパラメータ用の調節ツールを用いて選択されたプロファイルパラメータの値に基づいて生成され、そのシミュレーションによる回折信号が表示される。そのシミュレーションによる回折信号は、その計測された回折信号に重ねられる。 （もっと読む）

【課題】時間とコストがかからない光学計測システムを提供する。
【解決手段】 光計測モデルを用いて半導体ウエハ上に形成されたパターニングされた構造を検査するシステムは、第１製造クラスタ、計測クラスタ、光計測モデル最適化装置、及びリアルタイムプロファイル推定装置を有する。 （もっと読む）

【課題】時間とコストがかからない光学計測システムを提供する。
【解決手段】光計測モデルを用いて半導体ウエハ上に形成されたパターニングされた構造を検査する装置は第１製造システム計測プロセッサを有する。その第１製造システムは、第１製造クラスタ、第１計測クラスタ、光計測モデル最適化装置、及びリアルタイムプロファイル推定装置を有する。また、計測プロセッサは第１製造システムと結合する。計測データプロセッサは、材料の屈折率に関するパラメータ及び計測装置に関するパラメータのうちの少なくとも１についてのある範囲内にある一定値を、受け取り、処理し、保存し、かつ伝送するように備えられている。 （もっと読む）

【課題】 表面き裂を持つ配管や圧力容器からのき裂貫通の検出において、内部に封入・加圧した溶媒によらずに、漏れ光によりき裂貫通を検出する方法を提供する。
【解決手段】 金属製の配管または圧力容器の表面または内部の欠陥、き裂、切欠き等からのき裂の成長によるき裂貫通を検出する方法であって、配管または圧力容器の壁面の片面に光が侵入しないように遮光して暗空間を作るとともに、前記壁面の対面に照明または自然光を照射して明空間を作り、前記暗空間の欠陥、き裂、切欠き等を見込む位置に受光素子を配し、漏れ光侵入を計測することにより、き裂の貫通を検出することを特徴とする、漏れ光によるき裂貫通検出方法。 （もっと読む）

【課題】微小な凹凸欠陥の形状を、計測できるようにした安価な表面検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】半導体レーザのような広帯域のレーザ光源を干渉計に用いた光干渉方式を用いた表面検査装置において、照明光源に可干渉距離の短いスペクトルの幅の広い半導体レーザを使用し、分岐光学要素４と合成光学要素１５との間の２つの光路の各々に、互にわずかに異なる周波数で変調する変調光学要素５、１０と光路長を調整できる光路長可変光学要素８、１３とを設置し、干渉強度を計測しながら、前記光路長可変光学要素８、１３を調整して干渉強度が最大となるように構成した。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度で平面および曲面上の傷や欠陥を検出できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】 表面検査装置１００は、投光系に可動ミラー３０と固定ミラー４０ａ，４０ｂ，４０ｃを設けることで、走査光を可動ミラー３０により固定ミラー４０ａ，４０ｂ，４０ｃに反射させ、固定ミラー４０ａ，４０ｂ，４０ｃからの反射光は異なる角度から被検査物体１１の被検査面に照射する。受光系に反射光のピーク点の位置および波形の分散値（光量分布）を検出することができる受光手段８を設け、被検査面より反射されたいずれかの反射光を受光し、反射光のピーク点の位置および波形の分散値を検出することで、反射光のピーク点の位置により光の反射角度を測定することが可能となり、また波形の分散値により被検査面に傷の有無を判断することができる。 （もっと読む）

【課題】 偏光素子の劣化による欠陥検出精度の低下を把握できる表面検査装置を提供すること。
【解決手段】 直線偏光を生成する第１の偏光素子３４を有し、直線偏光Ｌ１によって被検基板２０の表面を照明する照明手段１３と、直線偏光の振動面に交差する偏光成分を抽出する第２の偏光素子３７を有し、表面から発生した光のうち偏光成分Ｌ４を受光する受光手段１４と、第１の偏光素子および第２の偏光素子のうち少なくとも一方の劣化の度合いをモニタするモニタ手段１５,１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】被検査物体に熱ダメージを与えないよう、照明光の照度を一定の上限値以下に保つと、従来の異物・欠陥検査方法では、検出感度と検査速度がトレード・オフの関係にあり、他方を犠牲にせずに一方を改善したり、両方を改善することは非常に困難であった。
【解決手段】本発明では、光源にパルスレーザを用い、レーザ光束を複数に分割後、異なる時間差を与えて、複数の照明スポットを形成し、各照明スポットの発光開始タイミング信号を用いることによって、各照明スポットからの散乱光信号を分離検出する。 （もっと読む）

【目的】 電流電圧変換回路の異物検出のためのダイナミックレンジが広く、従って測定可能な異物による散乱光の大きさの範囲が広く広範囲のサイズの異物を検出できる異物検出装置を提供すること、及び、ダイナミックレンジの広い部分を有効に利用して高分解能の異物検出を行うことができる異物検出装置を提供すること
【構成】
異物が存在するかもしれない検査対象物を照明するための照明光学系と、検査対象物からの散乱反射光を受光するための受光部と、該受光部からの電流信号を入力され、直流成分を除去して出力するための直流成分除去部と、該直流成分除去部からの出力を増幅するための増幅部と、該増幅部からの出力から異物を検出する異物検出部とを有することを特徴とする異物検出装置 （もっと読む）