【課題】安価である上に安定した欠陥検出を行うことができるものとする。
【解決手段】所定速度で移送される検査木材１の表面を照明する照明手段３と、照明手段３で照明された検査木材の表面を撮像する撮像手段２と、前記撮像手段で撮像された画像に基づいて検査木材表面の欠陥を検出する処理手段４とからなる。上記照明手段は検査木材の検査面に４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの波長域の光を照射し、上記処理手段は撮像された画像における輝度を基に欠陥部を抽出する。上記波長の光を用いることで、正常部（良品部）と欠陥部とで高いコントラストを得られるために、欠陥部の判定を良好に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出の精度を高めつつ、効率良く欠陥を検出する。
【解決手段】表面欠陥検査装置は、被検査物１の表面１ａを撮像する撮像部２と、撮像部２により得られた画像に基づいて被検査物１の表面１ａの欠陥を検出する処理部４と、を備える。撮像部２は、受光面１１ａに形成された像を撮像する撮像素子１１と、受光面１１ａに被検査物１の表面１ａの像を形成する光学系１２とを有する。光学系１２の光軸Ｏが被検査物１の１ａ表面の法線Ｎ１に対して傾けられる。受光面１１ａの法線Ｎ２が光学系１２の光軸Ｏと平行である場合に比べて、受光面１１ａの周辺部での光学系１２による被検査物１の表面１ａのデフォーカス量が低減されるように、受光面１１ａの法線Ｎ２が光学系１２の光軸Ｏに対して相対的に傾けられる。 （もっと読む）

【課題】製品品質の検査システム及びその方法を提供する。
【解決手段】製品品質の検査システムは、検査機具と、撮影装置及び検査モジュールを含む。前記検査機具は検査対象としての完成品を位置決めするためであり、撮影装置をその上に架設し、両者の位置の対応関係を恒に変わらぬよう保持し、検査モジュールはデジタル信号の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】溶接欠陥の像をより確実に抽出することができる。
【解決手段】溶接箇所を含む被検査物の画像から溶接欠陥を抽出する欠陥抽出装置であって、画像の輝度毎のヒストグラムを平滑化してマスク画像を生成するマスク画像生成部と、マスク画像上の対応領域の輝度が基準輝度以下である領域を画像から抽出して抽出画像を生成する抽出部とを備える欠陥抽出装置が提供される。また、上記抽出部は、マスク画像上の対応領域の輝度が基準輝度以下の領域を画像の当該領域の輝度とし、当該マスク画像上の対応領域の輝度が当該基準輝度を超える領域を当該基準輝度を超える予め定められた輝度として抽出画像を生成してもよい。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハに代表される被検査物において、異物が電極パッド上に残っていたとしても針痕に異常がなければ、正常な針痕、しいては正常な電極パッドとして扱う方法と装置の提供。
【解決手段】電気的特性検査をおこなった時の通電のために電極パッド上に形成される針痕だけでなくその他異物が混在している場合において、電極パッドの画像を２値化、ラベリング処理、穴埋め処理、ヒストグラム算出という一連の処理により針痕と異物とに分類する。 （もっと読む）

【課題】 処理を高速に行うことが可能な欠陥検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基準画像の画像データを１画素分ずつアドレス順に抽出する基準画像対象画素抽出部１３を備える。検査画像の画像データの中から、基準画像画素抽出部１３により抽出される画像データと対応するアドレスの画像データ、並びに、その周囲の画像データを抽出する検査画像対象画素群抽出部１４を備える。検査画像対象画素群抽出部１４により一度に抽出される各画像データと１対１で対応する画素比較部２１〜２９と、画素比較部２１〜２９と１対１で対応する二値化データメモリ群３１〜３９を備える。各二値化データメモリ群３１〜３９に記憶された二値化データを集計する二値値集計部８５と、二値値集計部８５による集計結果に応じて、二値化データメモリ群３１〜３９のうちの何れか１つを選択する選択部８６を備える。検査画像における欠陥を検出する良否判定部１０を備える。 （もっと読む）

【目的】パターンの用途或いは種別によって検査する際の判定閾値を多段階に変更可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、パターン形成されたフォトマスク１０１の光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、フォトマスク１０１のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、参照画像データを作成する参照回路１１２と、設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データとパターンの重要度情報とを入力し、領域データを用いて重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する展開回路１４０と、領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の１つを用いて、領域画像データが示す領域内の光学画像データと参照画像データとを画素毎に欠陥判定する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】キズ等の欠陥が強調された欠陥抽出画像を生成することができる。
【解決手段】被検査物の欠陥を抽出する欠陥抽出装置であって、被検査物を撮像した対象画像からマスク画像を生成するマスク画像生成部と、マスク画像により対象画像をマスクして、対象画像に撮像された被検査物の欠陥を抽出する抽出部とを備え、マスク画像生成部は、対象画像における、輝度がより高い部分を膨張させ、輝度がより低い部分を収縮させる高輝度強調部と、対象画像における、輝度がより高い部分を収縮させ、輝度がより低い部分を膨張させる低輝度強調部と、高輝度強調部および低輝度強調部が出力した画像の差分をとってマスク画像を生成する差分処理部と、を有する欠陥抽出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】液体が充填された透明な容器に混入した不透明な異物を検査する際、照明の不均一さや照射光の屈折による異物の誤検出を低減する画像処理方法を提供する。
【解決手段】検査する容器の原画像に対し平滑化などの雑音画像処理を施して擬似的な基準画像を取得し、その基準画像の輝度を基準として原画像との輝度差分を求め、差分画像を生成する。この差分画像を検査することにより、照明の不均一さや照射光の屈折により生じる画像の輝度変化の影響を回避し、誤検出を低減させる。 （もっと読む）

【課題】精度よく欠陥検出を実施する欠陥検出装置、および欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出装置１は、検査対象物Ｘを撮像して撮像画像を取得する撮像部３と、撮像画像を複数の検査領域に分割する画像分割手段と、各検査領域の標準偏差を演算する標準偏差演算手段と、標準偏差に基づいて検査対象の検査領域を抽出する影部抽出手段と、検査領域に対して、影方向に沿った走査方向を設定する影方向判定手段と、走査方向に沿う各検査対象画素の輝度変化量を演算するとともに、この輝度変化量が所定の欠陥閾値以上となる検査対象画素を欠陥として検出する欠陥検出手段と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。
【解決手段】注目画素と代表的な繰返しピッチ分だけ離れた比較画素群の輝度を比較演算する比較演算処理と、注目画素と代表的な繰返しピッチから微小画素数分だけ離れた場所における輝度を比較演算する比較演算を並列で行う、繰返しパターンを有する基板の検査方法。 （もっと読む）

【課題】被検査物の欠陥検出の感度を向上することができる欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、欠陥強調処理工程と欠陥検出工程を有する。欠陥強調処理工程は、撮像画像から平滑化画像を作成する工程ＳＴ２０と、検査対象画素を順次選定する工程ＳＴ２１と、検査対象画素に対応する平滑化画像の着目画素の周囲に複数配置された比較対象画素を複数の比較対象画素群に分けて設定する工程ＳＴ２２と、比較対象画素群の各比較対象画素と検査対象画素の各輝度値の差である輝度差データを求め、その値が最小となる最小輝度差を比較対象画素群毎に求める工程ＳＴ２３と、比較対象画素群毎に算出された最小輝度差のうち、値が最大となる最小輝度差を前記検査対象画素の欠陥強調値とする工程ＳＴ２４とを備える。欠陥検出工程は、欠陥強調値を閾値と比較して抽出した欠陥候補画素で構成される欠陥候補領域の特徴量から欠陥を判別する。 （もっと読む）

【課題】非検出対象のノイズを確実に除去し、検出対象の欠陥を安定に検出できる画像検査装置を提供する。
【解決手段】第１閾値設定手段３１が、検出対象画像中の検出すべき最低輝度値を第１閾値として設定し、ラベリング処理手段３２が、撮像手段２が取得した多値画像から、第１閾値より大きい輝度値を有する画素の集合体（ブロブ）を特定する。第２閾値設定手段３３が、第１閾値よりも大きい第２閾値を設定し、削除手段３４が、ラベリング処理手段３２により特定されたすべてのブロブから、第２閾値より小さい輝度値のみからなるブロブを削除し、ノイズ処理画像を出力する。 （もっと読む）

【課題】食品検査のスループットの向上が可能な検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置１は、検査対象物９０である食品における異物の有無または品質を検査する装置であって、検査対象物９０を含む領域に近赤外領域の光を照射する照明部１０と、複数の受光素子を含み、近赤外領域の光の照射範囲において当該照射に伴って生じる光を或る時間間隔で繰り返して検出して受光する受光部２０と、受光部２０から受光強度に応じて出力される信号群を解析して、そのうち重要度が高いと判断した信号群に基づいて複数の特徴点を抽出する解析部３０と、その抽出の結果として得られた特徴点を画面表示する表示部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】包装食品の出荷前の検査工程において、包装材内の食品中に含まれる異物の有無を高精度に且つ安価な構成で全品検査することが可能な検査装置を提供する
【解決手段】近赤外線を透過する部材から成るコンベア、又は包装食品の撮像領域に対応する開口をコンベア連結部若しくは搬送面に設けたコンベアに包装食品を載置して搬送する搬送手段と、近赤外線を発するライン状光源から包装食品に対して近赤外線を照射する近赤外線照射手段と、コンベアの搬送面を挟んでライン状光源と対向配置されたラインセンサを有し、ラインセンサにより照明された包装食品の近赤外線透過像を撮像する撮像手段と、撮像手段から出力される近赤外線透過像の画像信号に基づいて、包装材内の各薄板状食品の表裏各面に付着した異物の有無と各薄板状食品の内部に含まれる異物の有無とを同時に検査する検査手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】一部の領域に差異が発生する場合にも高精度の画像欠陥判定を可能とする画像欠陥検査装置および画像欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ある被検査物から光電変換された画像信号と参照画像を比較検査するパターンの欠陥検査方法において、前記参照画像を補正して第１の補正画像を得る第１の画像補正ステップＳ４１と、前記画像信号と前記第１の補正画像を用いて欠陥を検出し欠陥座標を求める第１の欠陥検出ステップＳ４２と、前記画像信号と前記第１の補正画像と前記欠陥座標から重み画像を得る重み画像算出ステップＳ４３と、前記画像信号と前記第１の補正画像と前記重み画像を用いて第１の補正画像を再補正して第２の補正画像を得る第２の画像補正ステップＳ４４と、前記画像信号と前記第２の補正画像を用いて欠陥を検出する第２の欠陥検出ステップＳ４５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン検査機で検査された欠陥画像から水残り欠陥を特定できるようにしたパターン検査機による水残り判定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】カラーフィル基板上の欠陥をパターン検査機で検査する欠陥検査方法において、パターン検査機で欠陥画像を取得し、欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示から形状判定と、欠陥画像のコントラスト波形かコントラスト判定と、を行って水残りを特定するパターン検査機による水残り特定方法である。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの製造方法うち、カラーフィルタパターン検査工程において、検査機で検出するカラーフィルタ基板の欠陥に対し、Ｘ方向またはＹ方向の同一座標位置上に多数の欠陥を検出したカラーフィルタ基板を共通欠陥は発生した製品異常として検出結果を出力するカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法を提供すること。
【解決手段】基板上に、カラーフィルタパターンを備えたカラーフィルタを製造する工程で、基板上複数のチップを多面付け形成したカラーフィルタの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機の検査工程が、画像からデータ画像へ変換し、該データ画像の特徴抽出、比較照合よる欠陥異常を抽出し、欠陥の位置座標が、Ｘ軸方向、又はＹ軸方向に同一となる複数の欠陥を軸方向共通欠陥とし、追加して分類するカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法。 （もっと読む）

【課題】外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。
【解決手段】特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 （もっと読む）

【課題】試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。
【解決手段】試料２の表面に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検査装置１は、撮像部１３により撮像された撮像画像上にて検出された欠陥候補のサイズが撮像部１３の結像光学系の解像限界よりも小さく、かつ欠陥候補を示す欠陥候補画素の周囲の画素からこの欠陥候補画素までのグレイレベル値の空間的変化が結像光学系の解像力を超えているとき、この欠陥候補を疑似欠陥として判定する疑似欠陥判定部３１を備える。 （もっと読む）