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Fターム[2G059GG04]の内容

光学的手段による材料の調査、分析 (110,381) | 光源 (9,251) | 偏光を用いるもの (407)

Fターム[2G059GG04]に分類される特許

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【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置1は、照明部が、ランプハウス61からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構70,75を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板10の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するUVカットフィルター65がランプハウス61と波長選択機構70,75との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にUVカットフィルターが光路上に挿入され、また前記バンドパスフィルターの保持基板に「(1)熱線吸収膜(2)熱線反射膜及び熱線吸収膜の積層膜(3)熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜(4)熱線反射膜及び熱伝導性膜の積層膜(5)熱線反射膜、熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜の」うちのいずれかが設けられている。 (もっと読む)


【課題】テラヘルツ連続波発生装置及びテラヘルツ連続波発生方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、テラヘルツ連続波発生装置において、単一波長を有する2つの光搬送波を提供する光搬送波提供部と、上記2つの光搬送波のうちの1つを入力されて、DSB−SC信号を生成する光強度変調部と、上記2つの光搬送波のうちの残りの1つを入力されて、単一偏光成分の光搬送波を抽出する抽出部と、上記単一偏光成分の光搬送波と上記DSB−SC信号とを結合する光結合器とを含む。本発明によれば、1つの光源、1つの光強度変調器、受動光部品、及び光電変換器からなるテラヘルツ連続波発生装置により、別の光フィルタは使用せずに、光源の基本特性である偏光特性を利用して光搬送波を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】硝子やプラスチックなどの透明の物体(被検物)の屈折率を、非破壊で精度良く測定すること。
【解決手段】偏波面保存ファイバを利用した2つのプローブ光学系106,108によって、局所的に特定された被検物107中を透過する光の光路長を、干渉信号を利用して算出し、また同部分の幾何学的厚みをプローブ光学系106,108の位置を測定することで算出して、両算出値から被検物107の屈折率を求める。これにより、非破壊かつ精度の高い屈折率測定を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】光デバイスの特性を精度よく且つ低コストにて測定する方法および装置を提供する。
【解決手段】光源100と、前記光源からの光の偏光方向を調整する偏光子104と、前記偏光方向が調整された光を伝搬する光ファイバー106と、所定位置に配置され、複屈折性を有するフィルターを含む光デバイス120の入力端子の位置に対し、前記光ファイバー106の出力端部の位置を調整する調芯手段108と、前記光ファイバー106を介して前記入力端子から前記光デバイス120に入力され、この光デバイスを透過した光のうち、前記フィルター120から出力された光を検出する検出手段132と、前記調整された光の偏光方向と、前記検出された光の周波数および強度とに基づいて前記フィルターから出力された光の偏光方向を分析する偏光方向分析手段138とを少なくとも備える。 (もっと読む)


体内への針の侵入を可視化するためのシステムを提供する。このシステムは体内に入るための針を含む。この針は針の少なくとも部分が放射線散乱コーティングにより被覆されている。このシステムは、反射された、標的である体に向けた放射線を検出して体内に差し込まれた針とともに血管のような解剖構造を医療従事者に見せることができる放射線可視化装置をさらに含む。
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【課題】本発明は、温度上昇に伴って被測定物の表面応力によって生じる複屈折現象を客観的に評価することを課題とする。
【解決手段】複屈折評価装置10は、被測定物20の保持部30と、第1、第2の偏光板40,50と、光源60と、加熱部70と、温度測定器80と、応力測定器90と、照度計100と、イメージセンサ110と、記憶部120と、制御部130と、モニタ140により構成される。制御部130は、加熱部70により被測定物20を任意の設定温度に加熱すると共に、温度、応力、照度、画像データの各測定信号が入力されるのに伴って各測定信号を記憶部120の記憶させる制御処理を実行すると共に、複屈折現象の評価処理を実行する。そして、制御部130は、各設定温度毎の複屈折評価処理の結果(各測定値、画像データ、評価レベル)を各温度に対応させてモニタ140に表示する。 (もっと読む)


【課題】表面高さ情報および/またはその複雑な表面構造についての情報を、抽出すること。
【解決手段】試験対象物の第1の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。比較される導出可能な情報は、試験対象物の第1の箇所における走査干渉分光信号の形状に関する。 (もっと読む)


【課題】実使用される確認対象物の接触状態を再現でき、かつ、再現された接触状態を詳細かつ明瞭に観察可能な接触状態確認方法および接触状態確認装置を提供する。
【解決手段】本発明の接触状態確認方法は、第一の屈折率を有する確認対象物1と第二の屈折率を有するプリズム2とを接触させることにより、確認対象物1のプリズム2との接触状態を確認する接触状態確認方法であって、プリズム2を通して確認対象物1に向けて光を照射し、その照射光を確認対象物1とプリズム2とが接触する接触面に対し10°〜30°の範囲の所定の角度で入射させ、プリズム2において、上記照射光の光路長と上記接触面で反射する反射光の光路長との和を15mm以下に設定し、上記反射光に生じる明暗に基づいて、確認対象物1のプリズム2との接触状態を確認する。 (もっと読む)


【課題】製造された全ての半導体基板の所定の測定点における少なくとも応力と膜厚とを自動的に測定し、かつ、的確に分析して高性能で生産性よい基板製造工程の確立に寄与する基板検査装置を提供できるようにする。
【解決手段】測定対象ウェハ3を移動可能な試料台4上に搬送する搬送装置と、試料台4上のウェハ3表面の測定点Pを観察する光学顕微鏡10と、その測定点Pに多波長の偏光された光L3を照射してウェハ表面に関する情報を出力するエリプソメータ光学系40と、ウェハ3の測定点Pにレーザ光を照射してウェハ3に関する他の情報を出力するラマン分光光学系20と、それら情報を用いて膜厚・屈折率及び応力・組成などの物理情報を解析し出力するコンピュータ60とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、微弱な磁気光学信号を高感度に検出できる磁気センサ、並びに磁気光学を用いた高速処理が可能な光スイッチを提供する。
【解決手段】 本発明の磁気センサは、少なくとも、光源、偏光子、貴金属薄膜層が反射面に形成された透明光学部材及び光検出器を有している。そして、本発明の磁気センサによれば、光源から出射された光が透明光学部材の入射面を介して貴金属薄膜層に入射したときに貴金属薄膜層で発生する表面プラズモン共鳴にて入射光の反射率が減少する条件で光源からの光を照射し、貴金属薄膜層からの反射光の少なくとも一部を光検出器によって検出し、発生磁界と比例関係となる光検出器の出力である磁気光学信号から磁界を換算する。よって、磁気光学信号を高感度に検出できる磁気センサを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】解析に要する時間と解析精度とをバランス良く両立させる。
【解決手段】エリプソメータ1は試料Sのいずれかのポイントに対し第1分光器8及び第2分光器9で測定を行う。第1分光器8の測定結果を用いて解析を行うと共に第2分光器9の測定結果を用いて解析を行い、第2分光器9に係る解析結果を第1分光器8に係る解析結果へ近似する近似式を算出する。試料Sの残りのポイントに対しては、第2分光器9で測定を行い、その結果を用いた解析の結果を近似式に基づき補正する。第2分光器9は第1分光器8に比べて測定精度は低いが測定時間が短いため全体の測定時間は短くなり、また、第2分光器9に係る解析結果を補正するため解析精度は向上する。 (もっと読む)


【課題】被測定物体が運動を伴う場合でも明瞭な画像を取得可能な光コヒーレンストモグラフィを用いた光画像計測装置を提供する。
【解決手段】運動検出部220は被検眼Eの運動速度に基づくドップラー周波数シフト量を求める。駆動制御部230は、このドップラー周波数シフト量に基づいて出力光Mの強度の変調周波数を求める。光源駆動部240はこの変調周波数で強度が変調された出力光Mを光源ユニット201に出力させる。出力光Mは信号光Sと参照光Rに分割される。被検眼Eを経由した信号光Sと参照光路を経由した参照光Rを重畳して干渉光Lを生成する。λ/4板207により干渉光Lの2つの偏光成分は180°の位相差を有する。偏光ビームスプリッタ211により分離された偏光成分L1、L2はCCD212、213に検出される。コンピュータ250はこれら検出結果に基づき断層像を形成する。 (もっと読む)


【課題】入射する光のs波成分とp波成分とでオフセット及びアンバランスが生じない偏光面検波センサーを提供する。
【解決手段】本発明の偏光面検波センサーは、シリコン基板301に形成された2つのフォトダイオードと、フローティングディフュージョンCfdと、シリコン基板301上方に形成された偏光層とを有する複数の単位画素を備え、偏光層は、2つのフォトダイオードの一方が形成されている領域の上方に形成され、入射光の第1の偏光成分を透過する第1の偏光子Ps1と、2つのフォトダイオードの他方が形成されている領域の上方に形成され、第1の偏光成分に直交する第2の偏光成分を透過する第2の偏光子とを有し、複数の単位画素それぞれは、さらに、第1の偏光子Ps1及び第2の偏光子からフローティングディフュージョンCfdに入射する斜め光を遮光する遮光部310を備える。 (もっと読む)


本発明は、決められた方向に従って偏光されたN(Nは、3以上の整数である)波長のビームでシーン(1)を照明するステップを含む、シーン(1)の画像を識別するための方法である。それには、以下のステップ、すなわち、
− 前記方向に従って偏光された画像、すなわちiが1からNまで変わる、X(λ)で示されたN画像(11)、および前記方向に垂直な方向に従って偏光された画像、すなわちX(λ)で示されたN画像(12)であって、これらの画像X(λ)が画像X(λ)と空間的に異なる画像の、各波長用の同時取得ステップと、
− X(λ)およびX(λ)の線形結合である強度画像の、各波長用の計算ステップであって、したがってこれらのN強度画像に対して、各画素用に強度スペクトルが対応するステップと、
− X(λ)およびX(λ)の関数として計算された強度比に基づいた偏光コントラスト画像の、各波長用の計算ステップであって、したがってこれらのN偏光コントラスト画像に対して、各画素用に偏光コントラストスペクトルが対応するステップと、
− 分光偏光コントラスト画像と名付けられ、かつSPC画像と呼ばれる、シーンの画像の計算ステップであって、この画像の各画素が、検討される画素の強度スペクトルおよびコントラストスペクトルに基づいて取得されるステップと、
が含まれる。
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モニタ対象の領域(38)内の粒子を検出するために協働して作動する光源(32)と、受信器(34)と、ターゲット(36)とを含むビーム検出器(10)。ターゲット(36)は入射光(40)を反射して、反射光(32)を受信器(34)に戻す。受信器(34)は、その視界を横切る複数の点における光強度を記録して報告できる。好ましい形態では、検出器(10)は、第1の波長域の第1の光線(3614)と、第2の波長域の第2の光線(3618)と、第3の波長域の第3の光線(3616)と、を放射し、ここで、第1および第2の波長域は実質的に等しく、第3の波長域とは異なっている。
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【課題】化学基の同一性を調べるための装置および方法を提供すること。
【解決手段】この装置(35)は、サンプル(82)が支持されているプラズモン共鳴表面を有する基板(80)、光ビーム源、ならびにチップ領域およびナノレンズ(62)を有するレンズアセンブリを有し、このナノレンズ(62)は、そのチップ領域上の1つ以上のプラズモン共鳴粒子(PRP)からなる。このPRPは、ナノレンズ(62)と基板(80)との間のギャップが30nm以下の場合に、ナノレンズ(62)と基板表面(80)上の直面する検出領域との間の空間に近距離場電磁ギャップモードを生ずるように配置される。この装置における焦点合わせ機構が作動し、30nm未満のギャップで基板表面(80)に向けておよび離してレンズアセンブリを動かし、検出領域におけるサンプル(82)により生じたラマン分光学シグナルを高める電磁ギャップモードを生じる。 (もっと読む)


【課題】複写機、ファクシミリ、プリンタ、印刷機等の画像形成装置等に用いられる、物体表面の光沢ムラを比較的簡易な手法で定量的に測定して評価する光沢ムラ評価装置、光沢ムラ評価方法、かかる光沢ムラ評価装置を有するかかる画像形成装置、かかる光沢ムラ評価方法を実行するプログラムを格納した記録媒体の提供。
【解決手段】撮像された被評価サンプルSAの正反射光を含む画像の画素の光輝感成分と色彩成分とを算出する第1の算出手段80と、光輝感成分の平均値と色彩成分の平均値とを算出する第2の算出手段80と、光輝感成分の平均値からの偏差の空間周波数特性に、人の視覚特性を考慮した重み付け処理を行い積分して所定値を算出する第3の算出手段80と、所定値に色彩成分の平均値を用いた色味の度合いで重み付け処理を行った光沢ムラ評価値を算出する第4の算出手段80とを用いる。 (もっと読む)


【課題】高感度で所定の周波数のテラヘルツ光を検出できるテラヘルツ光検出素子および、かかるテラヘルツ光検出素子を有する光学設備を提供する。
【解決手段】
屈折率の異なる層を交互に配設することによって形成された1次元フォトニック結晶から形成されており、1次元フォトニック結晶は、テラヘルツ光が入射されると電気光学効果が生じる部材によって形成された欠陥部12と、入射されたテラヘルツ光を、欠陥部12内で共振させ得る構造に形成された一対のミラー部13,13とを備えている。テラヘルツ光が入射されると、電気光学効果によって欠陥部内に複屈折を誘起させることができるから、複屈折率を測定すれば、テラヘルツ光が入射したか否かを検出することができる。しかも、入射したテラヘルツ光を欠陥部内で共振させることができるから、テラヘルツ光を検出する感度を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】空間分解能、照明深さおよび光強度を向上可能な光出射プローブ等を提供する。
【解決手段】光照射を利用した生体情報検出に用いられる光出射プローブは、ビーム中心軸に垂直な光断面においてビーム中心軸を囲むまたは挟む部分に明部を持つ光ビームを生成する光ビーム生成手段を含み、光ビームを生体外部から生体内に向けて照射したときに、生体内に進入した光ビームの干渉光をビーム中心軸付近に形成させて、当該干渉光を生体からの情報の取得に用いる。 (もっと読む)


光学測定対象物の複屈折を測定する測定法において、規定の入力偏光状態を有する測定ビームを発生させ、該測定ビームを測定対象物に指向させ、測定対象物との相互作用後の測定ビームの出力偏光状態を表す偏光測定値を生成するために、測定対象物との相互作用後の測定ビームの偏光特性を検出する。測定ビームの入力偏光状態を、角度パラメータαの周期変調関数に従って少なくとも4つの異なる測定状態に変調し、少なくとも4つの測定状態に関連する偏光測定値を処理して、角度パラメータαに応じた測定関数を形成する。偏光測定値を評価するために、測定関数の2波部分を求める。複屈折を記述する少なくとも1つの複屈折パラメータを導出するために、上記2波部分を解析する。この目的で、測定関数の二重フーリエ変換を実行することが好ましい。 (もっと読む)


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