実質的に鉛直平面で設置された実質的に平面のガラスシート（３０）を処理する装置（１０）である。一態様において、このガラスシートはＬＣＤディスプレイ用のものである。ガラス処理装置は、洗浄区域（２００）、すすぎ区域（３００）、乾燥区域（４００）、およびガラスシートを搬送路（１００）に沿ってその中で移動させるための下部ローラ（５１０）を含む。洗浄区域は、ガラスシートを損傷させずに支持および駆動するよう構成された駆動ローラ（５３０、５４０）を含む。すすぎ区域は、ガラスシートを過剰に振動させずにすすぐよう配置されたノズル（３１０、３２０）および液体軸受（３３０、３４０）を含む。さらに、乾燥区域は、ガラスシートを過剰に振動させずに乾燥するよう配置されたエアナイフ（４１０、４２０）および流体軸受（４４０、４５０）を含む。
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【課題】長尺の筐体に装備されるランプ支持体の位置を常時一定に保持して、ランプ支持体と被処理物と擦すれず、隔壁の熱変形によるランプ支持体の位置の変動をなくし、かつエキシマランプの周囲から発生するオゾンによる筐体内に搭載される機器の腐食を防止する。
【解決手段】エキシマランプ装置１は、筐体１と、筐体１に支持された懸架体４と、懸架体４に支持されたランプ支持体６と、ランプ支持体６に支持されたエキシマランプ５と、エキシマランプ５と懸架体４との間に設けた隔壁７とを備え、ランプ支持体６は、隔壁７に設けた貫通穴８に遊嵌して懸架体４に支持されていることを特徴とする。また、懸架体４に対するランプ支持体６の上下方向の位置を調整する調整手段を設け、貫通穴８と貫通穴８に遊嵌するランプ支持体６間における気体の通過を防止する遮蔽手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板の厚さにばらつきがあっても、電極が設けられた側辺部を確実に清掃できるようにした清掃装置を提供することにある。
【解決手段】基板の側辺部の上下面を清掃する清掃装置であって、
上面に上記基板が供給載置されこの基板を位置決め駆動する載置テーブルと、供給リールから繰り出されて巻き取りリールに巻き取られることで載置テーブルによって位置決めされた基板の側辺部に沿って走行するテープ状の清掃部材１５と、清掃部材に対向して配置された押付けローラ２２ａ，２２ｂと、押付けローラを駆動して上記清掃部材を上記基板の側辺部に押付ける上下シリンダ２３ａ，２３ｂと、上下シリンダによって押付けローラが清掃部材を基板に押付けたときに清掃部材に加えられた加圧力を検出するロードセル４３ａ，４３ｂと、ロードセルの検出に基いて上下シリンダが押付けローラに加える加圧力が一定となるよう制御する電空レギュレータ４４ａ，４４ｂ及び制御装置４５を具備する。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板の端面を確実に洗浄することができるようにした洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を基板の板面と直交させて配置され基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第１のブラシ毛２３ｂを有する上部洗浄ブラシ２３と、回転軸線を上部洗浄ブラシと同じにして配置され第１のブラシ毛と同じ位置で第１のブラシ毛間に入り込んで基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第２のブラシ毛２４ｂを有する下部洗浄ブラシ２４と、上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて第１のブラシ毛と第２のブラシ毛とで基板の端面を洗浄させる差動歯車機構３４を具備する。 （もっと読む）

【課題】装置内に付着した処理剤の付着物を除去することで表面処理精度を向上させることが可能な表面処理装置および表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面処理装置１は、基板Ｗを配置する成膜室３と、気化したシランカップリング剤Ｙ２を成膜室３に供給する処理剤供給装置１と、成膜室３内を減圧するポンプ５と、を有し、気化したシランカップリング剤Ｙ２の流動経路４４上に、流動経路４４に対する付着物を除去する付着物除去装置４０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理時に外方に飛散する洗浄液によるミストの発生を抑制し、基板への再付着の防止を図れるようにした基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハＷを水平に保持し、鉛直軸回りに回転するスピンチャック２０と、鉛直軸回りに回転可能な洗浄部材３０と、洗浄部材を鉛直軸回りに回転するサーボモータ３９と、洗浄部材をウエハの被洗浄面に沿って移動させる移動機構６３と、を具備する基板洗浄装置において、洗浄部材は、ベース部３２にスポンジ状の洗浄基部３１を接合してなり、ベース部及び洗浄基部の中心部に、洗浄液供給源に接続する吐出口３３を設け、洗浄基部の表面に、基端が洗浄液吐出口に連通すると共に、先端が洗浄部材の外周縁部手前まで延びる複数の連通溝３５を設け、ベース部における連通溝が位置する部位に、連通溝と連通する排出孔３６を設ける。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面処理に際し、被処理物上の異物等を確実に、かつ被処理物等を損傷することなく検知する。
【解決手段】表面処理装置１の処理部３を被処理物９と対向させ、被処理物９に対し平面ＰＬと平行な移動方向に相対移動させる。処理部３に表面状態検知手段１０の回転体１２を設ける。表面状態検知手段１０の回転体１２は、好ましくは円筒体であり、その回転軸１２ａが、平面ＰＬと平行で上記移動方向と交差している。支持部１３によって、回転体１２を回転軸１２ａのまわりに回転可能に支持し、かつ回転軸１２ａを平面ＰＬと交差する方向に変位可能にする。回転体１２の回転を回転センサ２１で検知する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも基板端面に付着した付着物をスポンジ状ブラシにより効果的に除去することができる基板洗浄装置を提供すること。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｗを回転可能に保持するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持されている基板Ｗを回転するモーター４と、スピンチャック３に保持されている基板Ｗに洗浄液を供給する洗浄液供給機構１０と、洗浄時に基板Ｗの少なくとも端面に当接される、スポンジ状樹脂からなるブラシ２１と、ブラシ２１を圧縮するブラシ圧縮機構２３ａ，２３ｂ，２４と、ブラシ圧縮機構２３ａ，２３ｂ，２４によるブラシ２１の圧縮力を変化させてブラシ２１による洗浄を制御する制御部３０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、電装部を密閉しつつ、その密閉された電装部の内部を冷却する紫外線照射装置を提供することである。
【解決手段】
第１の発明に係る紫外線照射装置は、放電容器と該放電容器の放電空間を介して対向配置された電極とからなるエキシマランプと、複数の該エキシマランプにそれぞれ電気的に接続されたトランスと、該複数のエキシマランプと該複数のトランスとを保持すると共に、該複数のエキシマランプと該複数のトランスとの間に設けられた隔壁を具備する筐体と、該筐体内で該隔壁を介して該複数のトランスを取り囲む電装部と、からなる紫外線照射装置において、該電装部には、冷却液の流路を具備する冷却手段が設けられ、該各トランスの外方には、該各トランスを個別に囲うと共に、該トランスを介して対向された一対の開口部を具備した風洞体が設けられ、該電装部の内部には、該風洞体の一方の開口部から他方の開口部に送風する送風手段が設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ安価な構成で、長期的に安定した液除去（液切り）性能を享受する。
【解決手段】基板処理装置は剥離処理室１を有する。剥離処理室１には、剥離処理後の基板表面にエアを吐出し、剥離液を除去する第１エアナイフ１４が配置される。このエアナイフ１４は、送経路を横切るように支持される円筒状の本体１５と、この本体１５に所定間隔で配列されてエアを吐出するノズル部１６とを備えている。各ノズル部１６は、本体１５の軸方向と平行な方向に所定の噴角を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状でエアを吐出し、そのエアの吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、本体１５に対して設けられ、かつ隣接するノズル部１６のエア吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように、ノズル部１６同士の間隔および各ノズル部１６から搬送基板Ｓまでの距離が設定されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に行うことができる基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供する。また、本発明は擦動部材の高密度なセルフクリーニングが可能な基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板搬送手段により搬送される基板面を洗浄するために、前記基板面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材の洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受皿と、前記洗浄液受皿を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受皿駆動部を有する。 （もっと読む）

【課題】長期間に亘って、被洗浄面に付着した液体を確実に除去、搾取、洗浄することができるロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を、コストを抑えて安価にて提供する。
【解決手段】ロール１はロール部２及び台座３を有し、前記台座３は開口部１０が形成された本体部７、及び前記本体部７の両端に連接される継ぎ手部Ａ８及び継ぎ手部Ｂ９を有し、前記継ぎ手部Ａ８及び／又は前記継ぎ手部Ｂ９は中空部１１が形成され、前記中空部１１は前記開口部１０と連通されてあり、前記本体部７の外周には不織布からなる前記ロール部２が形成されてあると共に、流体拡散溝部１３が形成されてあり、前記流体拡散溝部１３には前記開口部１０に連通する孔部１４が形成されてあるものである。 （もっと読む）

チャンバー内の均一な流体流れのための流体分配ネットワークを備えたチャンバーを提供する。チャンバーは、第１の面及び反対の内面を有する第１のチャンバー壁を含む。前記第１の面には、第１の組のチャンネルが形成され、内面はチャンバーの内部に曝され、かつ、複数の第１の組のチャンネルに接続された複数の内部ポートを含む。チャンバーは、また、第２の面及び反対の外面を有する第２のチャンバー壁を含む。第２の面は、第１の面が第２の面と合わされたときに、第１の組のチャンネルに部分的に交差する第２の組のチャンネルを有する。外面は、また、第２の組のチャンネルへの出入口を提供する、少なくとも一つの外部ポートを含む。 （もっと読む）

【課題】光透過窓と被処理物との間へ不活性ガスを充分に導入することができ、且つ、不活性ガスの使用量を低減させる紫外線照射方法及び紫外線照射装置を提供すること。
【解決手段】エキシマランプ１３を備えたランプハウス１１Ｂ内の不活性ガスを、紫外線を被処理物３０へ照射する光透過窓１４の周縁部から流出させ、光透過窓と被処理物との間での紫外線の減衰を抑える紫外線照射方法。ランプハウス内への不活性ガス流入口１５、エキシマランプ、エキシマランプからの紫外線を被処理物へ照射する光透過窓１４を少なくとも具備し、光透過窓の周縁部にランプハウス内の不活性ガス４０を光透過窓と被処理物との間に流出させる不活性ガス流出口１７が設けられていること。不活性ガス流出口が複数の孔からなるスリットＳ２である。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に到達する紫外光の強度の低下を抑制しつつ、被処理物の表面における静電気の発生を抑制することのできる紫外光照射処理装置を提供する。
【解決手段】搬送される被処理物Ｗに紫外線ランプ３２を備えたランプハウス３０からの紫外光を照射することで被処理物Ｗの表面の洗浄を行う紫外光照射処理装置２０であって、被処理物Ｗの周囲に不活性ガス及び電子親和性分子を混合した混合ガスを供給するガス供給ダクト３７を備えることを特徴とする。前記混合ガス中における前記電子親和性分子の濃度は、１．０％以上６．０％以下であることが好ましい。前記不活性ガスは、窒素ガスであることが好ましい。前記電子親和性分子は、酸素分子であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塵又は埃の粒子が積もるとすぐにカーペット又は床板から集める集塵装置を提供する。
【解決手段】受口を備える集塵器、マットレスカバーを備える集塵マットレス、マットレス作用面、及び排塵器を含み、前記受口はダストパイプを介して排塵器につながり、マットレス作用面が排塵器につながる複数個の小孔をもって形成され、複数個の補強用肋材がマットレスカバーとマットレス作用面の間に配置され、及び空きスペースが補強用肋材の間に形成され、前記補強用肋材が凹型をしており、及び中空レイズドリングが集塵マットレスの外側縁部に沿って形成される、集塵装置。 （もっと読む）

【課題】
長尺梁構造物において、梁の自重たわみを補正できる手法を提供する事である。
【解決手段】
梁自身の両端近傍にたわみ修正用の反力梁をピンなどで両端支持の状態で取り付け、反力梁より梁の自重に相当する反力荷重：Fを梁に与えてたわみを自己補正できる機構を採用している。
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【課題】簡便な構造で不所望な負荷によるエキシマランプの破損を防止すると共に、酸素濃度の変動した大気の対流による測定値変動を抑制した光センサおよびこれを備えたランプユニットを提供すること。
【解決手段】紫外線を放射するエキシマランプ５と、紫外線を受光する光センサ６と、少なくとも光センサ６を収納保持する筐体４と、からなるランプユニットにおいて、光センサ６は、可視光を検知する光検知体６１と、光検知体６１に付設された筒状の保持体６３と、保持体６３内に移動可能に保持されると共に、エキシマランプ５に当接可能に設けられた筒状または柱状の可動体６４とを備え、エキシマランプ５からの紫外線を透過する透過部材６４５と、透過部材６４５を透過した紫外線を可視光に変換する変換部材６４６とは、該光検知体と該保持体と該可動体とに取り囲まれるように設けられたことを特徴とするランプユニットである。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理容器のアルマイト処理に要する作業時間とコストを極力軽減する。
【解決手段】 プラズマ処理容器において、ライナー１０２は、側壁１ｂと天板１ｃとの接合部位に挿入されており、その先端は、内側Ｏリング１１１に達している。プラズマや腐食性ガスは内側Ｏリング１１１の位置で遮断されるので、側壁１ｂと天板１ｃとが直接当接する位置までプラズマや腐食性ガスが到達することがなく、天板１ｃのアルマイト処理が不要になる。 （もっと読む）

【課題】撥水性を有する基板を搬送しながら良好に洗浄、乾燥処理を施す。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄室１Ｃ及び乾燥室１Ｄを有し、撥水性を有する基板Ｓをその表面が傾斜した姿勢で搬送しながらその表面に洗浄、乾燥処理を施す。洗浄室１Ｃには、搬送方向に沿って連続する状態で、基板Ｓの上位側端部に対して洗浄水を供給する第１供給手段２０と、その下流側端部に近接され、かつ基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に沿って設けられ、同方向に沿って連続する状態で洗浄水を基板Ｓに供給する第２供給手段２４とが設けられる。乾燥室１Ｄには、第２供給手段２４に近接し、かつ搬送基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に設けられ、同方向に沿って連続する状態で搬送基板Ｓに対してエアを吹き付けるエアナイフ３０が設けられる。 （もっと読む）