【課題】グリップ力が高く、且つ被洗浄面からの液体の除去性能に優れたロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状の被洗浄面に付着した水分、油分、あるいは薬品成分等の液体を除去、搾取、洗浄する為のロール１において、前記ロール１はロール部２及び台座３を有し、前記台座３は前記ロール部２が外周に形成される本体部４、及び前記本体部４の両端に連接される継ぎ手部Ａ５及び継ぎ手部Ｂ６を有し、前記ロール部２は不織布からなる複数の概円環状のロール片７Ａ、７Ｂが積層されてあると共に、長手方向における両方の端部の近傍に溝部８が形成されてあり、前記端部の近傍は前記略中央部の近傍より表面の硬度が大となるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】自体は異物の付着が問題にならない組付け部品であっても、その組付け部品を組付ける直前に異物を効率よく除去し、異物の付着が問題になる他の部品に異物が移るのを解消する。
【解決手段】異物除去装置であって、機器組立て用の作業台１０に、異物除去の対象となる組付け部品３０を取付けることが可能な弾性バー１４が設けられている。同じく作業台１０に対し、弾性バー１４の周辺の空気を吸引することが可能であるとともに、その吸引力によって弾性バー１４を繰り返し撓ませて組付け部品３０に振動を与えることが可能な吸引手段２０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】導電体ワークが損傷しにくく、導電体ワークの両面が同時にプラズマ処理されるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０２は、上部電極１０４と、下部電極１１４と、第１の出力端１２６と第２の出力端１２８との間に電気パルスを出力するパルス電源１２４と、第１の出力端１２６と上部電極１０４とを接続する第１の配線１３０と、第２の出力端１２８と下部電極１１４とを接続する第２の配線１３２と、プラズマ領域１９０２をワークＷに通過させワークＷを接地する搬送接地機構１３４とを備える。パルス電源１２４は、第１の出力端１２６及び第２の出力端１２８がグランドから絶縁されたフローティング電源であり、第１の電極１０４、第２の電極１１４、第１の配線１３０及び第２の配線１３２もグランドから絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】加工点で発生した蒸発物やプラズマ、粉塵等の、基板内のデバイスを構成する部分に対する付着をより確実に防止し、デバイスとしての品質を低下させることなく薄膜積層ガラス基板の周辺部の不要な薄膜をレーザにより除去する。
【解決手段】薄膜除去装置(A)は、薄膜(51)を下側にして薄膜積層ガラス基板(5)を保持する受ピン(11)と、薄膜積層ガラス基板(5)のガラス板(50)側からガラス板(50)を通し加工部にレーザを当てて薄膜(51)の不要部分を除去するレーザ走査部(4)と、薄膜積層ガラス基板(5)の下方において非加工領域側から薄膜(51)の膜面と平行に気体を供給する気体供給部(2)と、気体供給部(2)で供給された気体と、加工部で生じた蒸発物やプラズマ、粉塵等を含む雰囲気を薄膜(51)の膜面と平行に各辺方向へ流れるように吸引する気体吸引部(3)を備えている。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着した塵埃等の異物を効率的に除去する基板異物除去装置を構成する。
【解決手段】ケースＡｃの下部のシュラウド１４の底部に開口１４ａを形成し、ケース内部のロールブラシ１２を開口１４ａから下方に露出させた。ケースＡｃの内部には回転軸芯Ｘの方向に移動自在に仕切壁２５を備え、ケースＡｃの上部には回転軸芯Ｘの方向に移動自在に排出筒１３を備えた。基板Ｐの端部の位置に基づいて排出筒１３を基板Ｐの幅方向の中央位置にセットする位置調節手段Ｄを備え、仕切壁２５を基板Ｐの端部位置にセットする連係作動機構Ｅを備えた。 （もっと読む）

【課題】従来加工基板上の粉塵を除塵する方法として高圧エアーをスリット状のノズルから加工基板に噴射させ、ブロアーの負圧により吸い込む方法がとられていたが、このエアーのみ吹き付ける方法では基板上に付着した１ミクロン以下の微細な粒子や基板に付着した汚れを除去することができなかった。
【解決手段】加工基板上に近接するように設置された内部をブロアー等により負圧にした負圧ボックス内の負圧により発生する基板又はシート上の粉体の流れにより基板上の１ミクロン以下の微細な粉塵や基板に付着した汚れを除去することが可能となった。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いる基板の洗浄処理において、基板表面からより多くの異物を除去し、高い洗浄効果が得られる有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置であって、プロセスガスが供給されるチャンバー１と、チャンバー１内に設けられ、被処理基板Ｘを電気的に浮いた状態で保持する基板保持部２と、チャンバー１内のプロセスガスをプラズマ状態にして、被処理基板Ｘに照射する電極３Ａ，３Ｂと、被処理基板Ｘの被処理面Ｘｓに対向する位置と対向しない位置との間を移動可能に設けられた静電吸着部５と、を備え、静電吸着部５は、電圧を印加する外部電源５ａが接続され、プラズマの電荷に起因して被処理基板Ｘ上の異物Ｆが有する電荷と、自身に印加される電圧により発生するプラズマの電荷と逆の電荷と、によって生じる静電力により、異物Ｆを吸着することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化、複雑化を生ずることなく、高い処理効率を維持したまま紫外線処理を行うことが可能な紫外線処理装置を得ることができる。
【解決手段】搬送される基板１に順次紫外線３を照射する紫外線処理を行い下流側装置に搬送する紫外線処理装置において、紫外線３を照射する紫外線照射ユニット４、紫外線照射ユニット４を回転し、紫外線３が基板１に向かう方向となる第一の定位置と、反対方向となる第二の定位置の何れかに移動する回転機構５、及び発生するエラー信号の有無をモニタする検知機能と前記のエラー信号が出た時点で紫外線照射ユニット４を第二の定位置に移動し、消えた時点で第一の定位置に移動する様に回転機構５を制御する制御機能を有する退避動作制御部６を備えた。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマ発生装置の組立及び分解を、容易とする。
【解決手段】固定台座１１０と、高圧電源部品１２０と、プラズマ発生本体１３０とを備える迅速分解式大気圧プラズマ発生装置１００において、固定台座は、対向する第１の端部１１２及び第２の端部１１４を備え、高圧電源部品は、固定台座に設置されると共に、高圧外スリーブ１２２及び第１の継手１２４を備える。なお、第１の継手は第１の端部に位置する。プラズマ発生本体は、内スリーブ１３２及び第２の継手１３４を含み、これらいずれもプラズマ発生本体の外表面に突設されていると共に、第２の継手が内スリーブに設置されている。プラズマ発生本体が固定台座の第１の端部に取り付けられると、高圧外スリーブが内スリーブを覆って、第２の継手が第１の継手と接続する。 （もっと読む）

【課題】基板上に滞留した洗浄液を一定方向に流し去ることにより液切り効果を向上させることが可能となる洗浄基板の液切り装置を提供する。
【解決手段】基板３０上に滞留する洗浄液９０を排除する液切りローラー２０は、基板３０を搬送する搬送ローラー４０により洗浄工程を経て搬入されてきた基板３０を、接触して上下から挟み込んで配備され、且つ、基板３０上に滞留する洗浄液９０が一方向に流出するよう、基板３０の進行方向に対し直角を除く任意の角度で設置される。 （もっと読む）

【課題】粘着ロールの上下方向への案内をスムーズに行うことで、粘着ロールの位置決めを正確に行うこと。
【解決手段】ワークを搬送しながらワークの表面に付着した塵埃を除去する除塵装置において、ワークの表面に付着している塵埃を吸着する粘着ロール４と、粘着ロール４に付着した塵埃を転写する粘着テープロールを保持するテープ保持部と、粘着ロール４を回転駆動させる駆動モータと、駆動モータに連結される駆動側磁気部材３７と、粘着ロール４に連結され駆動側磁気部材３７と所定の間隔をあけて対向配置される従動側磁気部材３８とを有し、駆動モータの回転駆動を粘着ロール４へ非接触状態で伝達する伝達機構３０と、従動側に配置され、粘着ロール４の回転軸線方向に直交する方向に伸びるリニアシャフト４１と、リニアシャフト４１と接触しながら該リニアシャフト４１の軸方向に沿って移動することで、粘着ロール４をその回転軸線方向に直交する方向へ案内するリニアブッシュ４２とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ロールユニットの引き出しを容易に行うことが可能であると共に、ロールユニットの差し込みの際の衝撃を軽減可能なクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】ワーク２の表面に付着した塵埃を除去するクリーンローラ装置１であり、ワーク２に付着している塵埃を吸着する粘着ロール４，５と、粘着ロール４，５に付着した塵埃を転写する粘着テープロール６，７を保持するテープ保持部と、粘着ロール４，５を回転駆動させる駆動モータ２９と、駆動モータ２９に連結される駆動側磁気部材３７と、粘着ロール４，５に連結され駆動側磁気部材３７と所定の間隔をあけて対向配置される従動側磁気部材３８，３９とを有し、駆動モータ２９の回転駆動を粘着ロール４，５へ非接触状態で伝達する伝達機構３０と、駆動側磁気部材３７と従動側磁気部材３８，３９との間で作用する磁力に対して反対向きに押し込み力を与える衝撃吸収機構３３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】鉛直方向に沿ってワークが搬送されるタイプのクリーンローラ装置において、当該ワークが落下しないと共にワークからフィルムが剥がれないようにすることが可能なクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】フィルムが貼付されているワークＷを搬送しつつ、塵埃を除去するクリーンローラ装置１０であって、塵埃吸着ローラ体５１Ａとベースローラ体５１ＡとでワークＷを鉛直方向に沿って移動させ、塵埃吸着ローラ体５１Ｂをベースローラ体５１Ａに向けて押し付ける付勢力を与える第２の駆動源５２を備え、粘着テープロール７０を塵埃吸着ローラ体に向けて押し付ける付勢力を与える第３の駆動源を備え、ワークＷの検出から所定時間が経過する前には第２の駆動源５２のみを作動させ、所定時間の経過後には少なくとも第３の駆動源６３を作動させて大きな付勢力を塵埃吸着ローラ体５１Ｂに対して与えるように制御する制御手段１００を具備する。 （もっと読む）

【課題】稼動中に装置が使用する電力、エア、純水の消費量を、待機中のとき大幅削減し、且つ、再稼動において、直ちに洗浄を開始することができる液晶枚葉洗浄装置を提供する。
【解決手段】搬送手段１５を具備するロードバッファ部１０とアンロードバッファ部５０と、ブラシ洗浄手段２５を具備するロールブラシ部２０と、バブルジェット手段３５を具備するバブルジェットアクアナイフ部３０と、エア噴射手段４５を具備するエアナイフ部４０と、純水供給制御手段６４を具備する純水供給部６０と、装置コントロール手段７５を具備する装置制御部７０とを有し、装置コントロール手段７５は、待機のとき、待機信号により純水供給機能以外の全ての機能を停止させ、純水供給制御手段６４は、待機信号を受けて純水供給手段６２の純水の供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を洗浄ブラシで洗浄する際、洗浄効果を向上させることができるようにした洗浄ブラシを提供することにある。
【解決手段】基板の板面を洗浄するための洗浄ブラシであって、
ブラシ軸１５と、ブラシ軸に設けられた太さの異なる複数種の毛材１６ａ，１６ｂとを具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄効果を犠牲にすることなく、洗浄中の基板の振動を抑えることができる基板洗浄用ラックを提供する。
【解決手段】基板洗浄用ラック１０は、ラック本体１２内に複数の基板１４を立てた状態で収容し、その流通路１２ａを通じて上から下方向へ洗浄液等の流体を流通させて基板１４の洗浄作業を行うものである。ラック本体１２内には両端保持部材１６及び下部保持部材１８が設けられており、基板１４の両側の縁辺部及び下側の縁辺部は、それぞれ両端保持部材１６及び下部保持部材１８により保持されている。また基板１４を収容した状態で、ラック本体１２内には上部保持部材２０が取り付けられ、この上部保持部材２０によって基板１４の上側の縁辺部が保持される。 （もっと読む）

【課題】基板を良好に洗浄することができる基板洗浄ブラシ及び同基板洗浄ブラシを用いた基板処理装置並びに基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板洗浄ブラシ（３２）を用いて基板（２）の洗浄を行う基板処理装置（１）において、基板洗浄ブラシ（３２）は、弾性を有するブラシベース部（３３）と、ブラシベース部（３３）の表面に形成した疎水性を有するベース表層部（３４）と、ベース表層部（３４）に間隔をあけて植毛した洗浄刷毛部（３５）とを有することにした。また、前記ブラシベース部（３３）を吸水素材で形成するとともに、前記ブラシベース部（３３）に洗浄液を供給する洗浄液供給手段（３９）を設けることにした。 （もっと読む）

【課題】基板の表面から除去した異物を周囲に飛散させることがなく、確実に異物を捕捉することができ、基板表面から異物を除去した後の清浄な状態を維持して次の工程に進めることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板１００を搬送する搬送手段２０と、搬送された基板１００の表面に対して供給するエアの吹き付け角度が調整可能なエア吹き出し口３６を有するエアブロー部３０と、エアブロー部３０にエアを供給するエア供給部４０と、エアブロー部３０から吹きつけられたエアにより基板表面から除去された異物をエアと共に収集し、異物のみを捕捉する集塵部５０と、を具備し、エアブロー部３０の外表面の一部には、エア吹き出し口３６からのエアと異物とを集塵部５０へ誘導するための誘導溝が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルカリ洗浄液を使用することなく、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。または、少量のアルカリ洗浄液の使用であっても、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。
【解決手段】鋼板７に水蒸気と、空気および／または液滴とを吹き付けて洗浄することを特徴とする鋼板の洗浄方法を用いる。液滴が水であることが好ましい。このために、水蒸気を高速で噴出させることが出来る蒸気ノズル２と、蒸気ノズル２内に空気および／または液体を供給する供給管とを備え、該供給管の供給口５から供給された空気および／または液体と前記水蒸気とを蒸気ノズル２内で混合し蒸気ノズル２の噴出口６から噴出することを特徴とする鋼板の洗浄装置を用いる。供給管が、空気を供給する供給管３と、液体を供給する供給管４とからなることが好ましい。 （もっと読む）