【課題】 高い払拭性能を安定して維持することができるワイピングクロスを提供する。
【解決手段】 製織または編成したパイル布帛を、エアフロー処理などによって分散させて、ナノファイバによって５００μｍ^２以下のバンドル状の立毛を有するパイルを形成することによって、摩擦帯電性を低下させ、吸着性の高いワイピングクロスを実現する。 （もっと読む）

【課題】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法で、付着異物の除去が効果的な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法であって、高い圧力をかけてノズルから、純水を微粒径の状態状態で噴射させて、前記遮光膜付き基板の遮光膜にあてる、純水ジェット洗浄処理を施す。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置のステージの表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。
【解決手段】ステージ２０を、ステージ本体２１とその上側の表面板２２とに分割する。ステージ２０を挟んで両側には、処理ヘッド１０の移動に用いる一対のレール６１が設けられている。このレール６１上にステージ保守用クレーン３０を設置する。クレーン３０のフレーム３１の一対の支え部３２の下端部にスライダ３４をそれぞれ設け、これをレール６１にスライド可能に嵌合する。フレーム３１の天井部３３に吊具５１を昇降可能に垂下し、これに連結部５２を設ける。好ましくは、連結部５２をボルト５５にて表面板２２の端面に連結する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波の損失を極力低減し、高密度プラズマを効率良く生成できるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１００は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置２１と、マイクロ波発生装置２１に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の矩形導波管２２と、矩形導波管２２に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置２３と、矩形導波管２２の一部分であって、内部で生成したプラズマを外部で放出するアンテナ部４０とを備えている。アンテナ部４０は、その断面において短辺をなす壁４０ａに１又は複数のスロット孔４１を有しており、大気圧状態の矩形導波管２２内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔４１から外部の被処理体へ向けて放出する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽１２の内側において、壁部２１の周方向に複数の第一案内翼２４を設ける。この第一案内翼２４は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク１９の洗浄時に供給され、フォトマスク１９の回転により壁部２１方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼２４により下方に導く。また、第一案内翼２４の下方において、壁部２１の周方向に複数の第二案内翼２５を設ける。第二案内翼２５は、第一案内翼２４により導かれたクリーンエアを、処理槽１２の底部２２に接続さている排出管部１５に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽１２から排出する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性と吸液性を有するロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状の被洗浄面に付着した水分、油分、あるいは薬品成分等の液体を除去、搾取、洗浄する為のロール１において、前記ロール１はロール部２及び台座３を有し、前記台座３は前記ロール部２が外周に形成される本体部７、及び前記本体部７の両端に連接される継ぎ手部８及び継ぎ手部９を有し、前記ロール部２は不織布からなる複数の概円環状のロール片４ａ、４ｂが積層されて形成されてあると共に、前記不織布は多数の極細繊維が束状に形成された繊維束が立体的に絡み合った繊維集合体からなるものである。 （もっと読む）

【課題】基板にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板を洗浄することができる、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄板１と、洗浄板１を振動させる振動部２と、基板に非接触な状態で基板上を吸引し、洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する吸引部３，４と、洗浄板１を基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】基板５に対して相対移動可能に設けられ、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させ、当該処理ガスのラジカルを基板５に向って放出するためのラジカル放出器１０を備える。ラジカル放出器１０は、処理ガス供給源８から処理ガスのプラズマがそれぞれ供給され且つ互いの雰囲気が隔離された第１〜第４の拡散室１１〜４１と、第１〜第４の拡散室１１〜４１にて拡散された処理ガスのプラズマを混合するプラズマ形成室５１とを有する。プラズマ形成室５１には、基板５の相対移動方向に対し直交するスリット状のスリット５３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板１２を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板１２を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板１２の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板１２を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段９と、それに設けられる観察窓１０と、観察窓１０から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブラシマークの発生を防止しつつ、自己洗浄機能を備えたスポンジロールを提供する。
【解決手段】軸体１０と、薄板状に形成された複数のスポンジ体２０と、薄板状に形成されたスペーサ３０と、を備え、スポンジ体２０及びスペーサ３０は軸体１０を通す中心孔を有し、スペーサ３０の中心孔はスペーサ板面に垂直な第１仮想線に対して傾いた第２仮想線を中心軸として傾いて形成されており、スポンジ体２０とスペーサ３０とは軸体１０に交互に装着されていて、スペーサ３０は中心孔によって軸体１１に斜めに装着され、スポンジ体２０はスペーサ３０に支持されて軸体１０に斜めに装着されている。 （もっと読む）

【課題】階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能な基板の洗浄装置の提供。
【解決手段】本発明の洗浄装置１は、載せられた基板Ｗを各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路２と、各搬送路２上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロール３を備える。前記回転洗浄ロールは、最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールとからなる。 （もっと読む）

【課題】均一なプラズマを励起することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に被処理体を載置する真空容器１００と、２つの電極部を有し、真空容器の内部に隙間を設けて配列された複数の電極対２００と、真空容器の内部にプラズマを励起するための電磁波を供給する伝送路とを備え、複数の電極対のそれぞれは、２つの電極部間に形成され、前記伝送路に接続され、前記プラズマ空間に向けてスリット状に開口する導波路２０５と、導波路に挿入され、プラズマ空間に露出する誘電体板２１０とを有し、伝送路から供給された電磁波が、導波路を伝搬した後に誘電体板のプラズマ露出面から真空容器内に放出してプラズマを励起することを特徴とするプラズマ処理装置１０が提供される。 （もっと読む）

【課題】ブラシの回転により残渣を除去する方法において、柔らかい材質で構成されたブラシ用いて残渣を十分に除去できる残渣除去装置及び残渣除去方法を提供する。
【解決手段】基板に残存した異方性導電膜の残渣を除去する残渣除去装置であって、残渣に当接して所定の駆動力を受けて回転し、残渣に当接する部分が植物樹脂で構成されるブラシと、残渣を除去するための圧力を、ブラシと残渣との当接部分に加える加圧手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】携帯通信機器が水没などして使用不能になった場合でも、メモリに保存されているデータを復帰させるために、コストが高くなるとともに、ある程度長い時間が必要であった。
【解決手段】加圧された液化炭酸ガスを噴出するノズル部と、該ノズル部の噴出口を囲包して前方に配され、ノズル部から噴出された液化炭酸ガスをドライアイスパウダーに生成して携帯通信機器の電子基板１７に噴射する方向安定管部と、を有し、該方向安定管部から噴射されたドライアイスパウダーにより電子基板１７に付着した錆を除去し、電子基板１７のメモリに保存されたデータを復帰させるものである。 （もっと読む）

【課題】クリーニングのために専用の駆動装置を搭載することなく、低コストでクリーニング機能を付与する。
【解決手段】ソーラーパネル１において、回転ブラシ２８とフレーム６の受けロッド４５との間に、パネル７，７の間で回転ブラシ２８，２８をフレーム６側へ連結する連結手段を設ける一方、支柱２と回転ブラシ２８，２８との間に、パネル７，７の水平姿勢で連結手段による回転ブラシ２８，２８とフレーム６との連結を解除する解除手段と、パネル７，７の水平姿勢で回転ブラシ２８，２８を支柱２側へ連結する第二の連結手段とを設けて、解除手段によって回転ブラシ２８，２８とフレーム６との連結を解除し、第二の連結手段によって回転ブラシ２８，２８を支柱２側へ連結した状態で、水平姿勢のパネル７，７を水平回転させることで、回転ブラシ２８，２８をパネル７，７上で相対的に旋回させて受光面を清掃可能とした。 （もっと読む）

【課題】携帯通信機器が水没などして使用不能になった場合でも、メモリに保存されているデータを復帰させるために、コストが高くなるとともに、ある程度長い時間が必要であった。
【解決手段】加圧された液化炭酸ガスを噴出するノズル部と、該ノズル部の噴出口を囲包して前方に配され、ノズル部から噴出された液化炭酸ガスをドライアイスパウダーに生成して携帯通信機器の電子基板１７に噴射する方向安定管部と、を有し、該方向安定管部から噴射されたドライアイスパウダーにより電子基板１７に付着した錆を除去し、電子基板１７のメモリに保存されたデータを復帰させるものである。 （もっと読む）

【課題】低い負圧にて効率よく確実に液体を吸引するロール、及びそのロールと液体の吸引装置を有する洗浄装置を安価にて提供する。
【解決手段】ロール１はロール部２、台座３、及び止め金具５を有し、台座３は開口部１０が形成された本体部７、及び本体部７の両端に連接される継ぎ手部Ａ８及び継ぎ手部Ｂ９を有し、継ぎ手部Ａ８及び／又は継ぎ手部Ｂ９は中空部１１が形成され、中空部１１は開口部１０と連通されてあり、本体部７の外周には開口部１０に連通する孔部１４が開設されてあると共に、ロール部２が形成され、ロール部２は不織布からなる概円環状の複数のロール片４が積層されると共に、少なくとも一方の端部は止め金具５にて固定され、ロール片４の内径は本体部７の外径より小にて形成されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象面内の清浄度およびその均一性を高めさらにメンテナンスも容易なＵＶオゾン洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ＵＶ照射室（１０）内に２つのＵＶユニット（２０Ａ、２０Ｂ）を備えており、これらＵＶユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物（３０）が基板搬送部（４０）により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第１および第２のガス供給部（５０Ａ、５０Ｂ）から、ＵＶ照射室（１０）内に搬送された基板（３０）の表面に向けて供給される。ガス排出部（６０）は、装置（１００）の底部に設けられており、ＵＶ照射室（１０）内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット（７０Ａ、７０Ｂ）の作用により、ガス排気経路部（８０Ａ、８０Ｂ）を通ってガス排出部（６０）から外部へと排出される。 （もっと読む）

【課題】基板の縁部を対象とする縁部洗浄において、表裏均一で良好な洗浄効果を確保することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板の縁部を挟み込む２つの押圧部材のそれぞれの押圧面に洗浄液を供給する第１洗浄剤供給機構、第２洗浄剤供給機構の第１開閉バルブ２９，第２開閉バルブ３０を制御して、表裏それぞれの押圧面に対して２つのノズルによって洗浄剤を供給する個別の塗布動作を、予め定められたインターバル時間Ｔ３で規定される所定のタイムラグによって時間的に隔てられた異なるタイミングにて行う。これにより、供給タンクから洗浄剤の供給対象となる縁部の表裏両面に至る液送配管が異なる場合にあっても、表裏均一で良好な洗浄効果を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）