洗浄装置
【課題】階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能な基板の洗浄装置の提供。
【解決手段】本発明の洗浄装置１は、載せられた基板Ｗを各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路２と、各搬送路２上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロール３を備える。前記回転洗浄ロールは、最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールとからなる。
【解決手段】本発明の洗浄装置１は、載せられた基板Ｗを各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路２と、各搬送路２上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロール３を備える。前記回転洗浄ロールは、最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールとからなる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送路上を通過する基板を洗浄する洗浄装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ、テレビ、携帯電話等の表示部として、液晶表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、主として、液晶層と、この液晶層を挟んで互いに向かい合う一対のガラス基板とからなり、種々の工程を経て製造される。
【０００３】
この種の液晶表示パネル（基板）は、その製造工程において、表面に付着している汚れ（異物）を除去する等の目的で、例えば、特許文献１に示されるような、ロールブラシを備えた洗浄装置を利用して、洗浄されている。このような洗浄装置は、液晶表示パネルの製造ラインに配置され、前記基板が搬送される搬送ラインをその上下方向から挟むような一対のロールブラシを備える。前記基板上には、適宜、洗浄液が供給され、その洗浄液が供給された前記基板の上下面を、前記ロールブラシが挟んで、回転しながら洗浄する。
【０００４】
ところで、液晶表示パネルは、並列に配置された複数の製造ラインをそれぞれ利用して製造されることがある。また、１つの製造ラインにおいて、一部の工程（例えば、洗浄工程）のライン部分が並列に配置されて、液晶表示パネルが製造されることがある。つまり、洗浄工程部分の製造ラインが並列に配置されて、液晶表示パネルが製造されることがある。このような場合、従来は、製造ライン毎に、それぞれ別個の洗浄装置が用意され、各々が独立して使用されている。
【０００５】
なお、本願発明に関連する技術を開示する文献としては、例えば、特許文献２が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２９６０８８号公報
【特許文献２】特開２００１−１３７７９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のように、複数の製造ライン毎に、それぞれ別個の洗浄装置を配置すると、複数の製造ラインからなる製造装置が、全体として大きくなり、問題となっている。また、製造ライン毎にそれぞれ別個の洗浄装置を用意する必要があり、洗浄装置のコストがかかり、問題となっている。また、前記洗浄装置のロールブラシは、定期的に新しい物に取り替えられながら、使用する必要がある。その為、使用する前記洗浄装置数が増加すると、取り替えなければならないロールブラシの本数も増加し、維持コストが高くなり、問題となっている。
【０００８】
また、複数の製造ライン毎に、それぞれ別個の乾燥装置（例えば、一対のエアーナイフを備える乾燥装置）を配置する場合、又はそれぞれ別個の他の洗浄装置（一対のシャワーユニットを備える洗浄装置）を配置する場合も、同様に、各装置のコストがかかり、問題となっている。
【０００９】
本発明の目的は、階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能な基板の洗浄装置を提供することである。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、階層状に並んだ複数の乾燥ラインに設けられる、エアーナイフユニットの使用個数を低減可能な基板の乾燥装置を提供することである。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、シャワーユニットの使用個数を低減可能な基板の洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る洗浄装置は、以下の通りである。
＜１＞ 載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、各搬送路上を通過する基板をその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロールと、を備える洗浄装置であって、
前記回転洗浄ロールが、
最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、
最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、
上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールと、からなることを特徴とする洗浄装置。
【００１３】
＜２＞ 前記回転洗浄ロールは、基板の進行方向に沿うように回転する前記＜１＞に記載の洗浄装置。
【００１４】
＜３＞ 前記兼用回転洗浄ロールは、上階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合と、下階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合とで、回転方向が切り替えられる前記＜１＞又は＜２＞に記載の洗浄装置。
【００１５】
＜４＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の洗浄装置。
【００１６】
また、本発明に係る乾燥装置は、以下の通りである。
＜５＞ 互いに間隔を置いて配列した複数本の搬送ローラを各々が有し、前記搬送ローラ上に載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、
前記搬送路上を通過する基板の上面側に向けてエアーを吹き付ける上側エアーナイフユニットと、前記搬送ローラの間から前記搬送路上を通過する基板の下面側に向けてエアーを吹き付ける下側エアーナイフユニットとを有し、前記上側エアーナイフユニットと前記下側エアーナイフユニットとが前記搬送路を介して対向するように配置されるエアーナイフ手段と、を備える乾燥装置であって、
前記エアーナイフ手段が、配置される搬送路を変更するための移動手段を備える乾燥装置。
【００１７】
＜６＞ 各搬送路は、その途中に、隣り合う搬送ローラの間に形成される、前記エアーナイフ手段を通過させるための通過穴を有し、
前記移動手段は、前記エアーナイフ手段が前記通過穴を通過して、配置される搬送路を変更する前記＜５＞に記載の乾燥装置。
【００１８】
＜７＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜５＞又は＜６＞に記載の乾燥装置。
【００１９】
本発明に係る他の洗浄装置は、以下の通りである。
＜８＞ 互いに間隔を置いて配列した複数本の搬送ローラを各々が有し、前記搬送ローラ上に載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、
前記搬送路上を通過する基板の上面に向けて水流を吹き下ろして前記基板を洗浄する上側シャワーユニットと、
前記搬送ローラの間から前記搬送路上を通過する基板の下面に向けて水流を吹き上げて前記基板を洗浄する、前記上側シャワーユニットと向かい合うように配置される下側シャワーユニットと、を備え、
前記搬送路上を通過する基板の上面及び下面に対して同時に水流が当てられる洗浄装置であって、
前記下側シャワーユニットが吹き上げた水流を通過させる、各搬送路における前記搬送ローラの間が、階層方向に沿って一列に並び、
前記上側シャワーユニットは、最上階の搬送路の上方に配置され、かつ前記基板が通過する搬送路の階に応じて、吹き下ろす水流量が切り替えられ、
前記下側シャワーユニットは、最下階の搬送路の下方に配置され、かつ前記基板が通過する搬送路の階に応じて、吹き上げる水流量が切り替えられる洗浄装置。
【００２０】
＜９＞ 前記上側シャワーユニットは、基板が通過する搬送路が下側の階になるにつれて、前記基板の上面に当てられる水流量が多くなり、前記下側シャワーユニットは、基板が通過する搬送路が上側の階になるにつれて、前記基板の下面に当てられる水流量が多くなる前記＜８＞に記載の洗浄装置。
【００２１】
＜１０＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜８＞又は＜９＞に記載の洗浄装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる洗浄装置は、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能である。
【００２３】
本発明の階層状に並んだ複数の乾燥ラインに設けられる乾燥装置は、エアーナイフユニットの使用個数を低減可能である。
【００２４】
また、本発明の他の階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる洗浄装置は、シャワーユニットの使用個数を低減可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】一実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図２】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図３】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図４】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図５】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図６】他の実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図７】一実施形態に係る乾燥装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図８】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図９】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１０】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１１】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１２】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１３】一実施形態に係るシャワー洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図１４】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１５】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１６】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１７】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る洗浄装置等の実施形態を説明する。なお、本発明は、本明細書に例示する実施形態に限定されるものではない。また、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する場合がある。
【００２７】
図１は、一実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置１の構成を模式的に表した説明図である。この洗浄装置１は、液晶表示パネル（以下、基板Ｗ）の上面（表面）及び下面（裏面）を主として洗浄する装置である。洗浄装置１は、上下方向に並列に並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、３本の回転洗浄ロール３（３Ａ，３Ｂ及び３Ｃ）を備える。また、洗浄装置１は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。
【００２８】
なお、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。
【００２９】
洗浄装置１の搬送路２Ａ及び２Ｂは、上下方向において互いに間隔を置いて階層状に配置されている。各搬送路２Ａ及び２Ｂは、図示されない支持手段を用いて、略水平に固定されている。各搬送路２Ａ及び２Ｂは、それぞれ複数本の搬送ローラ２１を有し、これらの搬送ローラ２１が各搬送路２Ａ及び２Ｂにおいて、それぞれ所定の間隔を置いて配列するように設けられている。なお、図１において、左側が、搬送路２の上流側であり、右側が、搬送路２の下流側に対応する。各搬送ローラ２１は、搬送路２が備える平行に配置された枠部材２４の間に掛け渡されている。
【００３０】
搬送ローラ２１は、中心部に駆動軸２２を有する。この駆動軸２２は、図示されない回転駆動手段に接続されており、所定方向に等速回転するように構成されている。また、駆動軸２２の外周部２３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。本実施形態において、搬送ローラ２１は、通常、図１において時計回りに回転するように構成されている。搬送路２の各搬送ローラ２１上に基板Ｗが載せられると、基板Ｗは、上流側から下流側へ向かって搬送される。基板Ｗは、搬送路２上を水平に搬送される。なお、他の実施形態においては、搬送方向に又は搬送方向と直交する方向に基板Ｗが傾斜された状態で搬送されてもよい。
【００３１】
回転洗浄ロール３は、搬送路２の途中に設けられている。回転洗浄ロール３（３Ａ，３Ｂ及び３Ｃ）は、主として、それぞれ回転軸３１（３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃ）と、回転軸３１の周りを囲むブラシ部３２（３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃ）とから構成される。ブラシ部３２は、例えば、ナイロン毛、スポンジ等を円筒形状に構成したものからなる。ブラシ部３２は、回転軸３１の回転に伴って回転する。なお、本実施形態において、回転洗浄ロール３Ｃは、最上階専用回転洗浄ロールに相当し、回転洗浄ロール３Ａは、最下階専用回転洗浄ロールに相当する。
【００３２】
回転洗浄ロール３Ｂと、回転洗浄ロール３Ａとは、下階側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように、配置している。回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ａの上方に配置し、回転洗浄ロール３Ａは、搬送路２Ａの下方に配置している。ただし、下側の回転洗浄ロール３Ａは、搬送路２Ａの一部を成すように、搬送ローラ２１の高さと略同じ高さとなるように、設けられている。上側の回転洗浄ロール３Ｂと、下側の回転洗浄ロール３Ａとの間隔（隙間）は、基板Ｗの厚みよりも小さく設定されている。この隙間を通る際に、基板Ｗの上面及び下面は、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂによって挟まれるように擦られて、洗浄（回転洗浄）される。なお、基板Ｗがこの隙間を通過する直前に、図示されない洗浄液供給手段により洗浄液が基板Ｗと、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂに供給される。
【００３３】
また、回転洗浄ロール３Ｃと、回転洗浄ロール３Ｂとは、上階側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように、配置している。回転洗浄ロール３Ｃは、搬送路２Ｂの上方に配置し、回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ｂの下方に配置している。ただし、下側の回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ｂの一部を成すように、搬送ローラ２１の高さと略同じ高さとなるように、設けられている。上側の回転洗浄ロール３Ｃと、下側の回転洗浄ロール３Ｂとの間隔（隙間）は、基板Ｗの厚みよりも小さく設定されている。この隙間を通る際に、基板Ｗの上面及び下面は、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃによって挟まれるように擦られて、洗浄（回転洗浄）される。なお、基板Ｗがこの隙間を通過する直前に、図示されない洗浄液供給手段により洗浄液が基板Ｗと、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃに供給される。
【００３４】
上記のように、回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄する場合と共に、搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄する場合にも利用される。この回転洗浄ロール３Ｂは、兼用回転洗浄ロールに相当する。この回転洗浄ロール３Ｂは、上下方向で隣り合う搬送路２Ａ及び２Ｂの間に配置し、上階側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗをその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗをその上面側から接触して回転洗浄する。
【００３５】
各回転軸３１の一端は、それぞれ軸受（不図示）に回転可能に支持されており、他端は、駆動源であるモータ（不図示）に連結されている。このモータの駆動により、各回転洗浄ロール３は、回転される。
【００３６】
各回転洗浄ロール３の回転方向及び回転速度は、図示されない制御装置（コンピュータ）からの指令（信号）に基づいて、適宜、変更可能に構成されている。なお、本実施形態においては、最上階専用回転洗浄ロール３Ｃは、反時計回りに回転するように構成されており、最下階専用回転洗浄ロール３Ａは、時計回りに回転するように構成されている。そして、回転洗浄ロール３Ｂは、基板Ｗが搬送路２Ａを通過する際は、反時計回りに回転し、かつ基板Ｗが搬送路２Ｂを通過する際は、時計回りに回転するように構成されている。要するに、各回転洗浄ロール３は、基板Ｗの進行方向（基板Ｗを送り出す方向）に沿うように回転する。
【００３７】
回転洗浄ロール３Ｂの回転方向の切り替えは、例えば、各搬送路２の上流側にそれぞれ設けられている基板検出手段（不図示）を利用して行われる。基板検出手段は、搬送路２の搬送ローラ２１上に載せられて搬送される基板Ｗの通過を検出する手段である。この基板検出手段は、投光部及び受光部を備え、投光部から光が投射される位置に受光部が配置される。各搬送路２において、投光部又は受光部のうち何れか一方が搬送ローラ２１の上方に配置され、他方が下方に配置される。投光部と受光部との間に基板Ｗがある場合と無い場合とで、受光の態様が変化するため、これによって基板Ｗの通過を検出することができる。
【００３８】
各基板検出手段は、前記制御装置（不図示）に電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。例えば、搬送路２Ａに設けられている基板検出手段が基板Ｗの通過を検出すると、その旨の信号が制御装置に対して出力される。この場合、制御装置は、前記信号に基づいて回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が反時計回りになるように調節する。これに対し、搬送路２Ｂに設けられている基板検出手段が基板Ｗの通過を検出すると、その旨の信号が制御装置に対して出力される。この場合、制御装置は、前記信号に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が時計回りになるように調節する。なお、他の実施例においては、電気的な手段、機械的な手段等の他の手段によって、基板Ｗの通過を検出してもよい。
【００３９】
基板供給装置４は、基板Ｗを、洗浄装置１が備える複数の搬送路２のうちの何れか１つに供給する装置である。本実施形態においては、基板供給装置４は、２つの搬送路２Ａ及び２Ｂに対して、交互に、基板Ｗを供給する。また、基板供給装置４は、それよりも上流側に配置されている他の搬送路６から供給された基板Ｗを受け取る。この基板供給装置４は、主として、搬送ローラ４１と、枠部材４４と、昇降手段（不図示）を備える。搬送ローラ４１の構成は、基本的には、前記搬送ローラ２１と同様であり、中心部に駆動軸４２を有し、この駆動軸４２の周りに、外周部４３を有する。この外周部４３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。ただし、基板供給装置４の搬送ローラ４１は、基板Ｗを載せた際に、基板Ｗを載せて静止できるように、停止する。搬送ローラ４１の回転・停止の制御は、制御装置（不図示）からの指示に基づいて行われる。搬送ローラ４１は、平行に配置された枠部材４４間に掛け渡されている。
【００４０】
基板供給装置４の昇降手段は、基板供給装置４の位置（高さ）を上下方向において、往復移動（昇降移動）して変更できるように構成されている。この昇降手段は、モータ（不図示）及びボールスクリュー（不図示）を有し、ボールスクリューが前記枠部材４４に接続されている。前記モータの駆動によって、基板供給装置４は搬送路２に基板Ｗを供給するために昇降移動する。なお、他の実施形態においては、昇降手段として、リニアモータ、シリンダ、ベルト及びプーリ等の公知の直動機構が利用されてもよい。
【００４１】
基板供給装置４は、その上流側の搬送路６から基板Ｗが供給される前は、搬送路６の高さと、同じ高さで静止している。この際、基板供給装置４は、搬送路２Ａの位置（高さ）と、搬送路２Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）に配置している。
【００４２】
基板受取装置５は、複数の搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の何れか１つから基板Ｗを受け取る装置である。本実施形態においては、基板受取装置５は、搬送路２Ａ及び２Ｂから交互に搬送されてくる基板Ｗを、受け取る。基板受取装置５は、基板Ｗを受け取った後、更に下流側に配置する複数の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）のうちの何れか１つに基板Ｗを供給する。本実施形態においては、搬送路７Ａ及び７Ｂに対して、交互に基板Ｗを供給する。
【００４３】
この基板受取装置５の構成は、基本的には、基板供給装置４と同様であり、主として、搬送ローラ５１と、枠部材５４と、昇降手段（不図示）を備える。搬送ローラ５１は、中心部に駆動軸５２を有し、この駆動軸５２の周りに、外周部５３を有する。この外周部５３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。基板受取装置５の搬送ローラ５１は、基板Ｗを載せた際に、基板Ｗを載せて静止できるように、停止する。搬送ローラ５１の回転・停止の制御は、制御装置（不図示）からの指示に基づいて行われる。搬送ローラ５１は、平行に配置された枠部材５４間に掛け渡されている。
【００４４】
基板受取装置５の昇降手段は、基板受取装置５の位置（高さ）を上下方向において、往復移動（昇降移動）して変更できるように構成されている。この昇降手段は、モータ（不図示）及びボールスクリュー（不図示）を有し、ボールスクリューが前記枠部材５４に接続されている。前記モータの駆動によって、基板受取装置５は搬送路２から基板Ｗを受け取るために昇降移動する。なお、他の実施形態においては、昇降手段として、リニアモータ、シリンダ、ベルト及びプーリ等の公知の直動機構が利用されてもよい。
【００４５】
基板受取装置５は、搬送路２から基板Ｗを受け取る前は、搬送路２Ａの位置（高さ）と、搬送路２Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）で静止している。この際、基板受取装置５は、搬送路７Ａの位置（高さ）と、搬送路７Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）に配置している。
【００４６】
なお、搬送路６及び搬送路７は、それぞれ複数本の搬送ローラ１２１を有し、これらの搬送ローラ１２１が各搬送路６及び７において、それぞれ所定の間隔を置いて配列するように設けられている。搬送ローラ１２１は、搬送路６及び７がそれぞれ備える平行に配置された枠部材１２４の間に掛け渡されている。搬送ローラ１２１は、中心部に駆動軸１２２を有する。この駆動軸１２２は、図示されない回転駆動手段に接続されており、所定方向に等速回転するように構成されている。また、駆動軸１２２の外周部１２３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。本実施形態において、搬送ローラ２１は、図１において時計回りに回転するように構成されている。
【００４７】
ここで、図１〜図５を参照しつつ、洗浄装置１の動作を説明する。図２〜図５は、回転洗浄方式の洗浄装置１の動作を示した説明図である。先ず、上階側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃを利用して、基板Ｗを洗浄する動作を説明する。図１に示されるように、前段の処理工程（マザー基板を、液晶表示パネル片に分割する工程）が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。基板Ｗは、図２に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の搬送ローラ４１の回転が停止される。そして、図２に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送路ローラ４１は、回転して、基板Ｗを搬送路２Ｂの上流側へ送り出し、供給する。
【００４８】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。この際、搬送路２Ｂに備えられている基板検出手段（不図示）により、基板Ｗの通過が検出され、その検出結果に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が決定される。この場合、回転洗浄ロール３Ｂは、図３に示されるように、時計回りに回転される。なお、回転洗浄ロール３Ｃは、反時計回りに回転するように構成されている。
【００４９】
基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ｂと、回転洗浄ロール３Ｃとの間に進入する直前に、図示されない洗浄液供給手段より洗浄液が回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃ等に供給される。そして、回転洗浄ロール３Ｂのブラシ部３２Ｂと、回転洗浄ロール３Ｃのブラシ部３２Ｃとの間で挟まれて擦られながら、洗浄（回転洗浄）される。その後、基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃを通過して、回転する搬送ローラ２１に載って更に搬送路２Ｂ上を進む。この際、図３に示されるように、基板受取装置５は、図２に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと、搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００５０】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程（液晶表示パネルの表示検査工程）に接続されおり、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、洗浄装置１は、上側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃとを利用して、基板Ｗを洗浄することができる。
【００５１】
次いで、下階側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを利用して、基板Ｗを洗浄する動作を説明する。図１に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図４に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側へ基板Ｗを送り出し、供給する。
【００５２】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。この際、搬送路２Ａに備えられている基板検出手段（不図示）により、基板Ｗの通過が検出され、その検出結果に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が決定される。この場合、回転洗浄ロール３Ｂは、図５に示されるように、反時計回りに回転される。なお。回転洗浄ロール３Ａは、時計回りに回転するように構成されている。
【００５３】
基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ａと、回転洗浄ロール３Ｂとの間に進入する直前に、図示されない洗浄液供給手段より洗浄液が回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂ等に供給される。そして、回転洗浄ロール３Ａのブラシ部３２Ａと、回転洗浄ロール３Ｂのブラシ部３２Ｂとの間で挟まれて擦られながら、洗浄（回転洗浄）される。その後、基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを通過して、回転する搬送ローラ２１に載って更に搬送路２Ａ上を進む。この際に、図５に示されるように、基板受取装置５は、図４に示される状態から下降して、搬送路２Ａと、搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路７Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００５４】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程（液晶表示パネルの表示検査工程）に接続されおり、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、洗浄装置１は、上側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを利用して、基板Ｗを洗浄することができる。
【００５５】
本実施形態の洗浄装置１は、搬送路２毎に、一対の回転洗浄ロール３を設ける必要がない。つまり、一部の回転洗浄ロール３Ｂを、互いに隣接する異なった搬送路２上を通過する基板Ｗを洗浄する際に兼用するため、洗浄装置１全体として、回転洗浄ロール３の使用本数を低減でき、コストを抑えることができる。また、回転洗浄ロール３の使用本数を低減できることによって、上下方向において、装置１の小型化を図れる。
【００５６】
図６は、他の実施形態に係る洗浄装置１Ａの構成を模式的に表した説明図である。図６には、上下方向に並列に（階層状に）並んだ３つの搬送路２（２Ａ，２Ｂ及び２Ｃ）と、４本の回転洗浄ロール（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ及び３Ｄ）を備える。このように、他の実施形態においては、搬送路２が、３つであってもよい。なお、この洗浄装置１Ａの場合、最も下階側の回転洗浄ロール３Ａが、最下階専用回転洗浄ロールであり、最も上階側の回転洗浄ロール３Ｄが、最上階専用回転洗浄ロールであり、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃが、兼用回転洗浄ロールである。これらの回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃは、共に、基板Ｗが通過する搬送路２に対応して、回転方向を切り替えられるように構成されている。
【００５７】
次いで、図７を参照しつつ、一実施形態に係る乾燥装置１０について、説明する。図７は、一実施形態に係る乾燥装置１０の構成を模式的に表した説明図である。この乾燥装置１０は、基板Ｗに付着している水滴等の液体を、エアーで吹き飛ばして（液切りして）基板Ｗを乾燥させる装置である。図７に示されるように、乾燥装置１０は、上下方向に並列に（階層状に）並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、エアーナイフ手段８を備える。
【００５８】
各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の基本的な構成は、図１に示される洗浄装置１におけるものと同様である。但し、本実施形態の乾燥装置１０で利用される各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）は、それぞれ途中に、通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）を備える。この通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）は、エアーナイフ手段８が上下方向に移動する際に、エアーナイフ手段８が通過可能なように構成されており、例えば、平行に配置した一対の枠部材２４と、これらの間に掛け渡されている搬送ローラ２１とによって囲まれた空間からなる。基板Ｗは、各搬送ローラ２１の回転によって、搬送路２上を上流側から下流側へ向けて移動する。
【００５９】
エアーナイフ手段８は、一対のエアーナイフユニット８１，８２を備える。これらの内の一方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの上面側に向けてエアーを吹き付ける上側エアーナイフユニット８１であり、他方は、搬送路上２を通過する基板Ｗの下面側に向けてエアーを吹き付ける下側エアーナイフユニット８２である。図７に示されるように、上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２とは、搬送路２を介して対向するように配置される。
【００６０】
各エアーナイフユニット８１，８２は、それぞれナイフ状の細長いノズル（不図示）を含み、このノズルから気体をナイフ状（カーテン状）に吹き出す。上側エアーナイフユニット８１のノズルは、基板Ｗの上面に向けられ、下側エアーナイフユニット８２のノズルは、基板Ｗの下面に向けられるように設定される。各エアーナイフユニット８１，８２の各ノズルの向きは、基板Ｗの上面又は下面に対して、傾斜するように設けられている。
【００６１】
エアーナイフ手段８は、各搬送路２を通過する基板Ｗをそれぞれ乾燥できるように、配置される搬送路２を変更するための移動手段（不図示）を備える。この移動手段は、エアーナイフ手段８の各エアーナイフユニット８１，８２を上下方向（鉛直方向）に沿って昇降移動させるものである。移動手段は、各搬送路２の通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）を貫くように上下方向に設けられたガイドレール（不図示）を備える。なお、ガイドレールは、搬送路２上を通過する基板Ｗと衝突しない個所に設けられている。各エアーナイフユニット８１，８２にはそれぞれ移動子が取り付けられており、各移動子がガイドレールに沿って上下方向にそれぞれ移動できるように構成されている。各移動子には、チェーンが連動連結されており、このチェーンが駆動モータの正逆駆動によって巻き上げ、及び巻き下ろし操作されることによって、各エアーナイフユニット８１，８２が上下方向に昇降移動する。なお、エアーナイフ手段８を上下方向に移動させる距離、タイミング等の制御は、制御装置（コンピュータ）からの指令に基づいて行われる。なお、他の実施形態においては、エアーナイフ手段８の移動手段として、リニアモータ、シリンダ等の他の公知の直動機構を用いてもよい。また、各エアーナイフユニット８１，８２のノズルからエアーを吹き出すタイミング等も、制御装置からの指令に基づいて行われる。
【００６２】
乾燥装置１０は、図１に示される洗浄装置１と同様、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。基板供給装置４は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）に対して、交互に基板Ｗを供給し、基板受取装置５は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）から交互に搬送されてくる基板Ｗを受け取る。そして、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。これらの搬送路６及び７の基本的な構成は、図１に示されるものと同様である。
【００６３】
ここで、図７〜図１２を参照しつつ、乾燥装置１０の動作を説明する。図８〜図１２は、乾燥装置１０の動作を示した説明図である。先ず、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを乾燥する際の乾燥装置１０の動作を説明する。
【００６４】
図７に示されるように、前段の処理工程（基板Ｗの洗浄工程）が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。この基板Ｗは、図８に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の搬送ローラ４１の回転が停止される。そして、図８に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送ローラ４１は、再び回転して基板Ｗを送り出し、搬送路２Ｂの上流側に供給する。
【００６５】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。基板Ｗが、搬送路２Ｂを挟むように配置されている上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２との間に進入すると、基板Ｗの上面及び下面には、これらのエアーナイフユニット８１，８２からのエアーが吹き付けられる。基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過する際に、液切りされ、乾燥される。その後、基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過して、更に搬送路２Ｂの下流側へ進む。この際、図９に示されるように、基板受取装置５は、図８に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと、搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００６６】
乾燥後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、乾燥装置１０は、上側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置するエアーナイフ手段８を利用して、基板Ｗを乾燥（液切り）することができる。
【００６７】
次いで、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを乾燥する際の乾燥装置１０の動作を説明する。先ず、図１０に示されるように、これまで上側の搬送路２Ｂに対して配置していたエアーナイフ手段８が、移動手段（不図示）の作動により、下側の搬送路２Ａに対して配置するように移動する。この際、エアーナイフ手段８の上側エアーナイフユニット８１が、搬送路２Ｂの通過穴２５Ｂ内を通過し、下側エアーナイフユニット８２が、搬送路２Ａの通過穴２５Ａ内を通過する。移動後、上側エアーナイフユニット８１は、搬送路２Ａの上方に配置し、下側エアーナイフユニット８２は、搬送路２Ａの下方に配置する。
【００６８】
そして、図１０に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図１１に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側に向けて送り出し、基板Ｗを供給する。
【００６９】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。基板Ｗが、搬送路２Ａを挟むように配置されている上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２との間に進入すると、基板Ｗの上面及び下面には、これらのエアーナイフユニット８１，８２からのエアーが吹き付けられる。基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過する際に、液切りされ、乾燥される。その後、基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過して、更に搬送路２Ａの下流側へ進む。この際、図１２に示されるように、基板受取装置５は、図１１に示される状態から下降して、搬送路２Ａと、搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路２Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００７０】
乾燥後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、乾燥装置１０は、下側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置するエアーナイフ手段８を利用して、搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを乾燥（液切り）することができる。
【００７１】
なお、再び上側の搬送路２Ｂを利用する場合は、エアーナイフ手段８は、移動手段の作動により、上昇して図７に示される位置まで上昇して、搬送路２Ｂに対して配置される。
【００７２】
本実施形態の乾燥装置１０は、搬送路２毎に、エアーナイフ手段８を設ける必要がない。エアーナイフ手段８は、上下方向に移動可能であり、かつ所定位置で停止可能な移動手段を備えるため、各搬送路２に対応して配置することができる。つまり、乾燥装置１０全体として、エアーナイフ手段８（エアーナイフユニット８１，８２）の使用個数を低減でき、そのコストを抑えることができる。そして、搬送路２間の幅を、搬送路毎にエアーナイフ手段が設けられていた従来の乾燥装置のもの比べて、狭くすることができ、上下方向において乾燥装置１０の小型化を図れる。
【００７３】
次いで、図１３を参照しつつ、他の実施形態に係る洗浄装置１００について、説明する。この洗浄装置１００は、シャワー洗浄方式で基板Ｗを洗浄するものである。図１３に示されるように、洗浄装置１００は、上下方向に並列に（階層状に）並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、シャワー手段９を備える。各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の基本的な構成は、図１に示される洗浄装置１におけるものと同様である。但し、本実施形態の洗浄装置１００で利用される各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）は、それぞれ途中に、シャワー手段９から噴射される水流を通過させる通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）を備える。この通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）は、平行に配置した一対の枠部材２４と、これらの間に掛け渡されている搬送ローラ２１とによって囲まれた空間からなる。基板Ｗは、各搬送ローラ２１の回転によって、搬送路２上を上流側から下流側へ向けて移動する。
【００７４】
シャワー手段９は、一対のシャワーユニット９１，９２を備える。これらの内の一方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの上面側に向けて水流（洗浄液）を吹き下ろすように噴射する上側シャワーユニット９１であり、他方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの下面側に向けて水流（洗浄液）を吹き上げるように噴射する下側シャワーユニット９２である。図１３に示されるように、上側シャワーユニット９１は、上側の搬送路２Ｂの上方に配置し、下側シャワーユニット９２は、下側の搬送路２Ｂの下方に配置している。これらのシャワーユニット９１，９２は、各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）を介して、互いに向かい合うように配置されている。搬送路２Ａの通過穴２６Ａと、搬送路２Ｂの通過穴２Ｂとは、階層方向（上下方向）に沿って一列に並んでいる。
【００７５】
各シャワーユニット９１，９２は、それぞれ噴射する水流量（噴射圧、噴射量）を調節可能なノズル（不図示）を含む。各ノズルからは、洗浄液（例えば、超純水）が基板Ｗの表面（上面又は下面）に向けて噴射される。基板Ｗの表面（上面又は下面）に対して、水流は、略垂直の方向から当てられる。各ノズルには、洗浄液が供給される供給配管（不図示）がそれぞれ接続されている。そして、各供給配管には、それぞれ電磁弁が備えられている。各電磁弁は、図示されない制御装置と電気的に接続されており、制御装置からの制御信号により開閉制御される。この開閉制御によって、各シャワーユニット９１，９２の各ノズルから噴射される水流量が調節される。
【００７６】
洗浄装置１００は、図１に示される洗浄装置１と同様、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。基板供給装置４は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）に対して、交互に基板Ｗを供給し、基板受取装置５は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）から交互に搬送されてくる基板Ｗを受け取る。そして、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。これらの搬送路６及び７の基本的な構成は、図１に示されるものと同様である。
【００７７】
ここで、図１３〜図１７を参照しつつ、洗浄装置１００の動作を説明する。図１４〜図１７は、シャワー洗浄方式の洗浄装置１００の動作を示した説明図である。先ず、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄する際の洗浄装置１００の動作を説明する。
【００７８】
図１３に示されるように、前段の処理工程が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。この基板Ｗは、図１４に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の回転が停止される。そして、図１４に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送ローラ４１は、再び回転して基板を送り出し、搬送路２Ｂの上流側に供給する。
【００７９】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。搬送路２Ｂの上流側には、図１に示される洗浄装置１と同様、基板検出手段（不図示）が備えられている。この基板検出手段は、制御装置と電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。制御装置は、この検出結果に基づいて、上側シャワーユニット９１の水流量と、下側シャワーユニット９２の水流量が調節される。この場合、下側シャワーユニット９２が基板Ｗの下面側に向けて吹き上げる水流量が、上側シャワーユニット９１が基板Ｗの上面側に向けて吹き下ろす水流量よりも多く（強く）なるように、設定される。このように、下側シャワーユニット９２から噴射される水流量を多くして、上側の遠い搬送路２Ｂ上に載っている基板Ｗの下面に対して確実に水流を当てることができる。
【００８０】
基板Ｗが搬送路２Ｂ上を移動して、上側シャワーユニット９１の下方に進入すると、上側シャワーユニット９１からの水流が基板Ｗの上面に当てられ、そして、搬送路２Ａの下方に配置されている下側シャワーユニット９２から吹き上げられ、搬送路２Ａの通過穴２６Ａを通過した水流が基板Ｗの下面に当てられる。搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗの上面及び下面に対して、同時に水流が当てられる。基板Ｗは、これらのシャワーユニット９１，９２の間を通過する際に、洗浄される。その後、基板Ｗは、シャワー手段９を通過して、更に搬送路２Ｂの下流側へ進む。基板Ｗが搬送路２Ｂ上のシャワー手段９を通過すると、各シャワーユニット９１，９２からの噴射が停止される。また、この際、図１５に示されるように、基板受取装置５は、図１４に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００８１】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして洗浄装置１００は、シャワー手段９（各シャワーユニット９１，９２）を利用して、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄することができる。
【００８２】
次いで、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄する際の洗浄装置１００の動作を説明する。先ず、図１３に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図１６に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側に向けて送り出し、基板Ｗを供給する。
【００８３】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。搬送路２Ａの上流側には、図１に示される洗浄装置１と同様、基板検出手段（不図示）が備えられている。この基板検出手段は、制御装置と電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。制御装置は、この検出結果に基づいて、上側シャワーユニット９１の水流量と、下側シャワーユニット９２の水流量が調節される。この場合、上側シャワーユニット９１が基板Ｗの上面側に向けて吹き下ろす水流量が、下側シャワーユニット９２が基板Ｗの下面側に向けて吹き上げる水流量よりも多く（強く）なるように、設定される。このように、上側シャワーユニット９１から噴射される水流量を多くして、下側の遠い搬送路２Ａ上に載っている基板Ｗの上面に対して確実に水流を当てることができる。
【００８４】
基板Ｗが搬送路２Ａ上を移動して、下側シャワーユニット９２の上方に進入すると、下側シャワーユニット９２からの水流が基板Ｗの下面に当てられ、そして、搬送路２Ｂの上方に配置されている上側シャワーユニット９１から吹き下ろされ、搬送路２Ｂの通過穴２６Ｂを通過した水流が基板Ｗの上面に当てられる。搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗの上面及び下面に対して、同時に水流が当てられる。基板Ｗは、これらのシャワーユニット９１，９２の間を通過する際に、洗浄される。その後、基板Ｗは、シャワー手段９を通過して、更に搬送路２Ａの下流側へ進む。基板Ｗが搬送路２Ａ上のシャワー手段９を通過すると、各シャワーユニット９１，９２からの噴射が停止される。また、この際、図１７に示されるように、基板受取装置５は、図１６に示される状態から下降して、搬送路２Ａと搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路７Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００８５】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして洗浄装置１００は、シャワー手段９（各シャワーユニット９１，９２）を利用して、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄することができる。
【００８６】
上側シャワーユニット９１の噴射量（水流量）と、下側シャワーユニット９２の噴射量（水流量）とは、上記のように、基板Ｗが通過する搬送路２に応じて、切り替えられる。このように、各シャワーユニット９１，９２を、基板Ｗが通過する搬送路２に応じて、それらの噴射量（水流量）を切り替えて使用することによって、使用するシャワーユニットの個数を低減でき、コストを抑えることができる。また、使用するシャワーユニットの個数を低減できることによって、階層状に並べる搬送路の間隔を狭くすること等が可能となり、上下方向において、装置の小型化を図れる。
【符号の説明】
【００８７】
１ 洗浄装置
２ 搬送路
３ 回転洗浄ロール
３Ａ 最下階専用回転洗浄ロール
３Ｂ 兼用回転洗浄ロール
３Ｃ 最上階専用回転洗浄ロール
４ 基板供給装置
５ 基板受取装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送路上を通過する基板を洗浄する洗浄装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ、テレビ、携帯電話等の表示部として、液晶表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、主として、液晶層と、この液晶層を挟んで互いに向かい合う一対のガラス基板とからなり、種々の工程を経て製造される。
【０００３】
この種の液晶表示パネル（基板）は、その製造工程において、表面に付着している汚れ（異物）を除去する等の目的で、例えば、特許文献１に示されるような、ロールブラシを備えた洗浄装置を利用して、洗浄されている。このような洗浄装置は、液晶表示パネルの製造ラインに配置され、前記基板が搬送される搬送ラインをその上下方向から挟むような一対のロールブラシを備える。前記基板上には、適宜、洗浄液が供給され、その洗浄液が供給された前記基板の上下面を、前記ロールブラシが挟んで、回転しながら洗浄する。
【０００４】
ところで、液晶表示パネルは、並列に配置された複数の製造ラインをそれぞれ利用して製造されることがある。また、１つの製造ラインにおいて、一部の工程（例えば、洗浄工程）のライン部分が並列に配置されて、液晶表示パネルが製造されることがある。つまり、洗浄工程部分の製造ラインが並列に配置されて、液晶表示パネルが製造されることがある。このような場合、従来は、製造ライン毎に、それぞれ別個の洗浄装置が用意され、各々が独立して使用されている。
【０００５】
なお、本願発明に関連する技術を開示する文献としては、例えば、特許文献２が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２９６０８８号公報
【特許文献２】特開２００１−１３７７９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のように、複数の製造ライン毎に、それぞれ別個の洗浄装置を配置すると、複数の製造ラインからなる製造装置が、全体として大きくなり、問題となっている。また、製造ライン毎にそれぞれ別個の洗浄装置を用意する必要があり、洗浄装置のコストがかかり、問題となっている。また、前記洗浄装置のロールブラシは、定期的に新しい物に取り替えられながら、使用する必要がある。その為、使用する前記洗浄装置数が増加すると、取り替えなければならないロールブラシの本数も増加し、維持コストが高くなり、問題となっている。
【０００８】
また、複数の製造ライン毎に、それぞれ別個の乾燥装置（例えば、一対のエアーナイフを備える乾燥装置）を配置する場合、又はそれぞれ別個の他の洗浄装置（一対のシャワーユニットを備える洗浄装置）を配置する場合も、同様に、各装置のコストがかかり、問題となっている。
【０００９】
本発明の目的は、階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能な基板の洗浄装置を提供することである。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、階層状に並んだ複数の乾燥ラインに設けられる、エアーナイフユニットの使用個数を低減可能な基板の乾燥装置を提供することである。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、シャワーユニットの使用個数を低減可能な基板の洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る洗浄装置は、以下の通りである。
＜１＞ 載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、各搬送路上を通過する基板をその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロールと、を備える洗浄装置であって、
前記回転洗浄ロールが、
最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、
最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、
上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールと、からなることを特徴とする洗浄装置。
【００１３】
＜２＞ 前記回転洗浄ロールは、基板の進行方向に沿うように回転する前記＜１＞に記載の洗浄装置。
【００１４】
＜３＞ 前記兼用回転洗浄ロールは、上階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合と、下階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合とで、回転方向が切り替えられる前記＜１＞又は＜２＞に記載の洗浄装置。
【００１５】
＜４＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の洗浄装置。
【００１６】
また、本発明に係る乾燥装置は、以下の通りである。
＜５＞ 互いに間隔を置いて配列した複数本の搬送ローラを各々が有し、前記搬送ローラ上に載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、
前記搬送路上を通過する基板の上面側に向けてエアーを吹き付ける上側エアーナイフユニットと、前記搬送ローラの間から前記搬送路上を通過する基板の下面側に向けてエアーを吹き付ける下側エアーナイフユニットとを有し、前記上側エアーナイフユニットと前記下側エアーナイフユニットとが前記搬送路を介して対向するように配置されるエアーナイフ手段と、を備える乾燥装置であって、
前記エアーナイフ手段が、配置される搬送路を変更するための移動手段を備える乾燥装置。
【００１７】
＜６＞ 各搬送路は、その途中に、隣り合う搬送ローラの間に形成される、前記エアーナイフ手段を通過させるための通過穴を有し、
前記移動手段は、前記エアーナイフ手段が前記通過穴を通過して、配置される搬送路を変更する前記＜５＞に記載の乾燥装置。
【００１８】
＜７＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜５＞又は＜６＞に記載の乾燥装置。
【００１９】
本発明に係る他の洗浄装置は、以下の通りである。
＜８＞ 互いに間隔を置いて配列した複数本の搬送ローラを各々が有し、前記搬送ローラ上に載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、
前記搬送路上を通過する基板の上面に向けて水流を吹き下ろして前記基板を洗浄する上側シャワーユニットと、
前記搬送ローラの間から前記搬送路上を通過する基板の下面に向けて水流を吹き上げて前記基板を洗浄する、前記上側シャワーユニットと向かい合うように配置される下側シャワーユニットと、を備え、
前記搬送路上を通過する基板の上面及び下面に対して同時に水流が当てられる洗浄装置であって、
前記下側シャワーユニットが吹き上げた水流を通過させる、各搬送路における前記搬送ローラの間が、階層方向に沿って一列に並び、
前記上側シャワーユニットは、最上階の搬送路の上方に配置され、かつ前記基板が通過する搬送路の階に応じて、吹き下ろす水流量が切り替えられ、
前記下側シャワーユニットは、最下階の搬送路の下方に配置され、かつ前記基板が通過する搬送路の階に応じて、吹き上げる水流量が切り替えられる洗浄装置。
【００２０】
＜９＞ 前記上側シャワーユニットは、基板が通過する搬送路が下側の階になるにつれて、前記基板の上面に当てられる水流量が多くなり、前記下側シャワーユニットは、基板が通過する搬送路が上側の階になるにつれて、前記基板の下面に当てられる水流量が多くなる前記＜８＞に記載の洗浄装置。
【００２１】
＜１０＞ 前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える前記＜８＞又は＜９＞に記載の洗浄装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる洗浄装置は、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能である。
【００２３】
本発明の階層状に並んだ複数の乾燥ラインに設けられる乾燥装置は、エアーナイフユニットの使用個数を低減可能である。
【００２４】
また、本発明の他の階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる洗浄装置は、シャワーユニットの使用個数を低減可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】一実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図２】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図３】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図４】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図５】回転洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図６】他の実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図７】一実施形態に係る乾燥装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図８】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図９】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１０】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１１】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１２】乾燥装置の動作を示した説明図である。
【図１３】一実施形態に係るシャワー洗浄方式の洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。
【図１４】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１５】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１６】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【図１７】シャワー洗浄方式の洗浄装置の動作を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る洗浄装置等の実施形態を説明する。なお、本発明は、本明細書に例示する実施形態に限定されるものではない。また、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する場合がある。
【００２７】
図１は、一実施形態に係る回転洗浄方式の洗浄装置１の構成を模式的に表した説明図である。この洗浄装置１は、液晶表示パネル（以下、基板Ｗ）の上面（表面）及び下面（裏面）を主として洗浄する装置である。洗浄装置１は、上下方向に並列に並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、３本の回転洗浄ロール３（３Ａ，３Ｂ及び３Ｃ）を備える。また、洗浄装置１は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。
【００２８】
なお、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。
【００２９】
洗浄装置１の搬送路２Ａ及び２Ｂは、上下方向において互いに間隔を置いて階層状に配置されている。各搬送路２Ａ及び２Ｂは、図示されない支持手段を用いて、略水平に固定されている。各搬送路２Ａ及び２Ｂは、それぞれ複数本の搬送ローラ２１を有し、これらの搬送ローラ２１が各搬送路２Ａ及び２Ｂにおいて、それぞれ所定の間隔を置いて配列するように設けられている。なお、図１において、左側が、搬送路２の上流側であり、右側が、搬送路２の下流側に対応する。各搬送ローラ２１は、搬送路２が備える平行に配置された枠部材２４の間に掛け渡されている。
【００３０】
搬送ローラ２１は、中心部に駆動軸２２を有する。この駆動軸２２は、図示されない回転駆動手段に接続されており、所定方向に等速回転するように構成されている。また、駆動軸２２の外周部２３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。本実施形態において、搬送ローラ２１は、通常、図１において時計回りに回転するように構成されている。搬送路２の各搬送ローラ２１上に基板Ｗが載せられると、基板Ｗは、上流側から下流側へ向かって搬送される。基板Ｗは、搬送路２上を水平に搬送される。なお、他の実施形態においては、搬送方向に又は搬送方向と直交する方向に基板Ｗが傾斜された状態で搬送されてもよい。
【００３１】
回転洗浄ロール３は、搬送路２の途中に設けられている。回転洗浄ロール３（３Ａ，３Ｂ及び３Ｃ）は、主として、それぞれ回転軸３１（３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃ）と、回転軸３１の周りを囲むブラシ部３２（３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃ）とから構成される。ブラシ部３２は、例えば、ナイロン毛、スポンジ等を円筒形状に構成したものからなる。ブラシ部３２は、回転軸３１の回転に伴って回転する。なお、本実施形態において、回転洗浄ロール３Ｃは、最上階専用回転洗浄ロールに相当し、回転洗浄ロール３Ａは、最下階専用回転洗浄ロールに相当する。
【００３２】
回転洗浄ロール３Ｂと、回転洗浄ロール３Ａとは、下階側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように、配置している。回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ａの上方に配置し、回転洗浄ロール３Ａは、搬送路２Ａの下方に配置している。ただし、下側の回転洗浄ロール３Ａは、搬送路２Ａの一部を成すように、搬送ローラ２１の高さと略同じ高さとなるように、設けられている。上側の回転洗浄ロール３Ｂと、下側の回転洗浄ロール３Ａとの間隔（隙間）は、基板Ｗの厚みよりも小さく設定されている。この隙間を通る際に、基板Ｗの上面及び下面は、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂによって挟まれるように擦られて、洗浄（回転洗浄）される。なお、基板Ｗがこの隙間を通過する直前に、図示されない洗浄液供給手段により洗浄液が基板Ｗと、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂに供給される。
【００３３】
また、回転洗浄ロール３Ｃと、回転洗浄ロール３Ｂとは、上階側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように、配置している。回転洗浄ロール３Ｃは、搬送路２Ｂの上方に配置し、回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ｂの下方に配置している。ただし、下側の回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ｂの一部を成すように、搬送ローラ２１の高さと略同じ高さとなるように、設けられている。上側の回転洗浄ロール３Ｃと、下側の回転洗浄ロール３Ｂとの間隔（隙間）は、基板Ｗの厚みよりも小さく設定されている。この隙間を通る際に、基板Ｗの上面及び下面は、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃによって挟まれるように擦られて、洗浄（回転洗浄）される。なお、基板Ｗがこの隙間を通過する直前に、図示されない洗浄液供給手段により洗浄液が基板Ｗと、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃに供給される。
【００３４】
上記のように、回転洗浄ロール３Ｂは、搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄する場合と共に、搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄する場合にも利用される。この回転洗浄ロール３Ｂは、兼用回転洗浄ロールに相当する。この回転洗浄ロール３Ｂは、上下方向で隣り合う搬送路２Ａ及び２Ｂの間に配置し、上階側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗをその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗをその上面側から接触して回転洗浄する。
【００３５】
各回転軸３１の一端は、それぞれ軸受（不図示）に回転可能に支持されており、他端は、駆動源であるモータ（不図示）に連結されている。このモータの駆動により、各回転洗浄ロール３は、回転される。
【００３６】
各回転洗浄ロール３の回転方向及び回転速度は、図示されない制御装置（コンピュータ）からの指令（信号）に基づいて、適宜、変更可能に構成されている。なお、本実施形態においては、最上階専用回転洗浄ロール３Ｃは、反時計回りに回転するように構成されており、最下階専用回転洗浄ロール３Ａは、時計回りに回転するように構成されている。そして、回転洗浄ロール３Ｂは、基板Ｗが搬送路２Ａを通過する際は、反時計回りに回転し、かつ基板Ｗが搬送路２Ｂを通過する際は、時計回りに回転するように構成されている。要するに、各回転洗浄ロール３は、基板Ｗの進行方向（基板Ｗを送り出す方向）に沿うように回転する。
【００３７】
回転洗浄ロール３Ｂの回転方向の切り替えは、例えば、各搬送路２の上流側にそれぞれ設けられている基板検出手段（不図示）を利用して行われる。基板検出手段は、搬送路２の搬送ローラ２１上に載せられて搬送される基板Ｗの通過を検出する手段である。この基板検出手段は、投光部及び受光部を備え、投光部から光が投射される位置に受光部が配置される。各搬送路２において、投光部又は受光部のうち何れか一方が搬送ローラ２１の上方に配置され、他方が下方に配置される。投光部と受光部との間に基板Ｗがある場合と無い場合とで、受光の態様が変化するため、これによって基板Ｗの通過を検出することができる。
【００３８】
各基板検出手段は、前記制御装置（不図示）に電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。例えば、搬送路２Ａに設けられている基板検出手段が基板Ｗの通過を検出すると、その旨の信号が制御装置に対して出力される。この場合、制御装置は、前記信号に基づいて回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が反時計回りになるように調節する。これに対し、搬送路２Ｂに設けられている基板検出手段が基板Ｗの通過を検出すると、その旨の信号が制御装置に対して出力される。この場合、制御装置は、前記信号に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が時計回りになるように調節する。なお、他の実施例においては、電気的な手段、機械的な手段等の他の手段によって、基板Ｗの通過を検出してもよい。
【００３９】
基板供給装置４は、基板Ｗを、洗浄装置１が備える複数の搬送路２のうちの何れか１つに供給する装置である。本実施形態においては、基板供給装置４は、２つの搬送路２Ａ及び２Ｂに対して、交互に、基板Ｗを供給する。また、基板供給装置４は、それよりも上流側に配置されている他の搬送路６から供給された基板Ｗを受け取る。この基板供給装置４は、主として、搬送ローラ４１と、枠部材４４と、昇降手段（不図示）を備える。搬送ローラ４１の構成は、基本的には、前記搬送ローラ２１と同様であり、中心部に駆動軸４２を有し、この駆動軸４２の周りに、外周部４３を有する。この外周部４３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。ただし、基板供給装置４の搬送ローラ４１は、基板Ｗを載せた際に、基板Ｗを載せて静止できるように、停止する。搬送ローラ４１の回転・停止の制御は、制御装置（不図示）からの指示に基づいて行われる。搬送ローラ４１は、平行に配置された枠部材４４間に掛け渡されている。
【００４０】
基板供給装置４の昇降手段は、基板供給装置４の位置（高さ）を上下方向において、往復移動（昇降移動）して変更できるように構成されている。この昇降手段は、モータ（不図示）及びボールスクリュー（不図示）を有し、ボールスクリューが前記枠部材４４に接続されている。前記モータの駆動によって、基板供給装置４は搬送路２に基板Ｗを供給するために昇降移動する。なお、他の実施形態においては、昇降手段として、リニアモータ、シリンダ、ベルト及びプーリ等の公知の直動機構が利用されてもよい。
【００４１】
基板供給装置４は、その上流側の搬送路６から基板Ｗが供給される前は、搬送路６の高さと、同じ高さで静止している。この際、基板供給装置４は、搬送路２Ａの位置（高さ）と、搬送路２Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）に配置している。
【００４２】
基板受取装置５は、複数の搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の何れか１つから基板Ｗを受け取る装置である。本実施形態においては、基板受取装置５は、搬送路２Ａ及び２Ｂから交互に搬送されてくる基板Ｗを、受け取る。基板受取装置５は、基板Ｗを受け取った後、更に下流側に配置する複数の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）のうちの何れか１つに基板Ｗを供給する。本実施形態においては、搬送路７Ａ及び７Ｂに対して、交互に基板Ｗを供給する。
【００４３】
この基板受取装置５の構成は、基本的には、基板供給装置４と同様であり、主として、搬送ローラ５１と、枠部材５４と、昇降手段（不図示）を備える。搬送ローラ５１は、中心部に駆動軸５２を有し、この駆動軸５２の周りに、外周部５３を有する。この外周部５３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。基板受取装置５の搬送ローラ５１は、基板Ｗを載せた際に、基板Ｗを載せて静止できるように、停止する。搬送ローラ５１の回転・停止の制御は、制御装置（不図示）からの指示に基づいて行われる。搬送ローラ５１は、平行に配置された枠部材５４間に掛け渡されている。
【００４４】
基板受取装置５の昇降手段は、基板受取装置５の位置（高さ）を上下方向において、往復移動（昇降移動）して変更できるように構成されている。この昇降手段は、モータ（不図示）及びボールスクリュー（不図示）を有し、ボールスクリューが前記枠部材５４に接続されている。前記モータの駆動によって、基板受取装置５は搬送路２から基板Ｗを受け取るために昇降移動する。なお、他の実施形態においては、昇降手段として、リニアモータ、シリンダ、ベルト及びプーリ等の公知の直動機構が利用されてもよい。
【００４５】
基板受取装置５は、搬送路２から基板Ｗを受け取る前は、搬送路２Ａの位置（高さ）と、搬送路２Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）で静止している。この際、基板受取装置５は、搬送路７Ａの位置（高さ）と、搬送路７Ｂの位置（高さ）との中間の位置（高さ）に配置している。
【００４６】
なお、搬送路６及び搬送路７は、それぞれ複数本の搬送ローラ１２１を有し、これらの搬送ローラ１２１が各搬送路６及び７において、それぞれ所定の間隔を置いて配列するように設けられている。搬送ローラ１２１は、搬送路６及び７がそれぞれ備える平行に配置された枠部材１２４の間に掛け渡されている。搬送ローラ１２１は、中心部に駆動軸１２２を有する。この駆動軸１２２は、図示されない回転駆動手段に接続されており、所定方向に等速回転するように構成されている。また、駆動軸１２２の外周部１２３は、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂、シリコン等の摩擦力の高い樹脂材料で形成されている。本実施形態において、搬送ローラ２１は、図１において時計回りに回転するように構成されている。
【００４７】
ここで、図１〜図５を参照しつつ、洗浄装置１の動作を説明する。図２〜図５は、回転洗浄方式の洗浄装置１の動作を示した説明図である。先ず、上階側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃを利用して、基板Ｗを洗浄する動作を説明する。図１に示されるように、前段の処理工程（マザー基板を、液晶表示パネル片に分割する工程）が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。基板Ｗは、図２に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の搬送ローラ４１の回転が停止される。そして、図２に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送路ローラ４１は、回転して、基板Ｗを搬送路２Ｂの上流側へ送り出し、供給する。
【００４８】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。この際、搬送路２Ｂに備えられている基板検出手段（不図示）により、基板Ｗの通過が検出され、その検出結果に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が決定される。この場合、回転洗浄ロール３Ｂは、図３に示されるように、時計回りに回転される。なお、回転洗浄ロール３Ｃは、反時計回りに回転するように構成されている。
【００４９】
基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ｂと、回転洗浄ロール３Ｃとの間に進入する直前に、図示されない洗浄液供給手段より洗浄液が回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃ等に供給される。そして、回転洗浄ロール３Ｂのブラシ部３２Ｂと、回転洗浄ロール３Ｃのブラシ部３２Ｃとの間で挟まれて擦られながら、洗浄（回転洗浄）される。その後、基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃを通過して、回転する搬送ローラ２１に載って更に搬送路２Ｂ上を進む。この際、図３に示されるように、基板受取装置５は、図２に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと、搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００５０】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程（液晶表示パネルの表示検査工程）に接続されおり、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、洗浄装置１は、上側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃとを利用して、基板Ｗを洗浄することができる。
【００５１】
次いで、下階側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを利用して、基板Ｗを洗浄する動作を説明する。図１に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図４に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側へ基板Ｗを送り出し、供給する。
【００５２】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。この際、搬送路２Ａに備えられている基板検出手段（不図示）により、基板Ｗの通過が検出され、その検出結果に基づいて、回転洗浄ロール３Ｂの回転方向が決定される。この場合、回転洗浄ロール３Ｂは、図５に示されるように、反時計回りに回転される。なお。回転洗浄ロール３Ａは、時計回りに回転するように構成されている。
【００５３】
基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ａと、回転洗浄ロール３Ｂとの間に進入する直前に、図示されない洗浄液供給手段より洗浄液が回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂ等に供給される。そして、回転洗浄ロール３Ａのブラシ部３２Ａと、回転洗浄ロール３Ｂのブラシ部３２Ｂとの間で挟まれて擦られながら、洗浄（回転洗浄）される。その後、基板Ｗは、回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを通過して、回転する搬送ローラ２１に載って更に搬送路２Ａ上を進む。この際に、図５に示されるように、基板受取装置５は、図４に示される状態から下降して、搬送路２Ａと、搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路７Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００５４】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程（液晶表示パネルの表示検査工程）に接続されおり、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、洗浄装置１は、上側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置する回転洗浄ロール３Ａ及び３Ｂを利用して、基板Ｗを洗浄することができる。
【００５５】
本実施形態の洗浄装置１は、搬送路２毎に、一対の回転洗浄ロール３を設ける必要がない。つまり、一部の回転洗浄ロール３Ｂを、互いに隣接する異なった搬送路２上を通過する基板Ｗを洗浄する際に兼用するため、洗浄装置１全体として、回転洗浄ロール３の使用本数を低減でき、コストを抑えることができる。また、回転洗浄ロール３の使用本数を低減できることによって、上下方向において、装置１の小型化を図れる。
【００５６】
図６は、他の実施形態に係る洗浄装置１Ａの構成を模式的に表した説明図である。図６には、上下方向に並列に（階層状に）並んだ３つの搬送路２（２Ａ，２Ｂ及び２Ｃ）と、４本の回転洗浄ロール（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ及び３Ｄ）を備える。このように、他の実施形態においては、搬送路２が、３つであってもよい。なお、この洗浄装置１Ａの場合、最も下階側の回転洗浄ロール３Ａが、最下階専用回転洗浄ロールであり、最も上階側の回転洗浄ロール３Ｄが、最上階専用回転洗浄ロールであり、回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃが、兼用回転洗浄ロールである。これらの回転洗浄ロール３Ｂ及び３Ｃは、共に、基板Ｗが通過する搬送路２に対応して、回転方向を切り替えられるように構成されている。
【００５７】
次いで、図７を参照しつつ、一実施形態に係る乾燥装置１０について、説明する。図７は、一実施形態に係る乾燥装置１０の構成を模式的に表した説明図である。この乾燥装置１０は、基板Ｗに付着している水滴等の液体を、エアーで吹き飛ばして（液切りして）基板Ｗを乾燥させる装置である。図７に示されるように、乾燥装置１０は、上下方向に並列に（階層状に）並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、エアーナイフ手段８を備える。
【００５８】
各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の基本的な構成は、図１に示される洗浄装置１におけるものと同様である。但し、本実施形態の乾燥装置１０で利用される各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）は、それぞれ途中に、通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）を備える。この通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）は、エアーナイフ手段８が上下方向に移動する際に、エアーナイフ手段８が通過可能なように構成されており、例えば、平行に配置した一対の枠部材２４と、これらの間に掛け渡されている搬送ローラ２１とによって囲まれた空間からなる。基板Ｗは、各搬送ローラ２１の回転によって、搬送路２上を上流側から下流側へ向けて移動する。
【００５９】
エアーナイフ手段８は、一対のエアーナイフユニット８１，８２を備える。これらの内の一方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの上面側に向けてエアーを吹き付ける上側エアーナイフユニット８１であり、他方は、搬送路上２を通過する基板Ｗの下面側に向けてエアーを吹き付ける下側エアーナイフユニット８２である。図７に示されるように、上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２とは、搬送路２を介して対向するように配置される。
【００６０】
各エアーナイフユニット８１，８２は、それぞれナイフ状の細長いノズル（不図示）を含み、このノズルから気体をナイフ状（カーテン状）に吹き出す。上側エアーナイフユニット８１のノズルは、基板Ｗの上面に向けられ、下側エアーナイフユニット８２のノズルは、基板Ｗの下面に向けられるように設定される。各エアーナイフユニット８１，８２の各ノズルの向きは、基板Ｗの上面又は下面に対して、傾斜するように設けられている。
【００６１】
エアーナイフ手段８は、各搬送路２を通過する基板Ｗをそれぞれ乾燥できるように、配置される搬送路２を変更するための移動手段（不図示）を備える。この移動手段は、エアーナイフ手段８の各エアーナイフユニット８１，８２を上下方向（鉛直方向）に沿って昇降移動させるものである。移動手段は、各搬送路２の通過穴２５（２５Ａ及び２５Ｂ）を貫くように上下方向に設けられたガイドレール（不図示）を備える。なお、ガイドレールは、搬送路２上を通過する基板Ｗと衝突しない個所に設けられている。各エアーナイフユニット８１，８２にはそれぞれ移動子が取り付けられており、各移動子がガイドレールに沿って上下方向にそれぞれ移動できるように構成されている。各移動子には、チェーンが連動連結されており、このチェーンが駆動モータの正逆駆動によって巻き上げ、及び巻き下ろし操作されることによって、各エアーナイフユニット８１，８２が上下方向に昇降移動する。なお、エアーナイフ手段８を上下方向に移動させる距離、タイミング等の制御は、制御装置（コンピュータ）からの指令に基づいて行われる。なお、他の実施形態においては、エアーナイフ手段８の移動手段として、リニアモータ、シリンダ等の他の公知の直動機構を用いてもよい。また、各エアーナイフユニット８１，８２のノズルからエアーを吹き出すタイミング等も、制御装置からの指令に基づいて行われる。
【００６２】
乾燥装置１０は、図１に示される洗浄装置１と同様、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。基板供給装置４は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）に対して、交互に基板Ｗを供給し、基板受取装置５は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）から交互に搬送されてくる基板Ｗを受け取る。そして、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。これらの搬送路６及び７の基本的な構成は、図１に示されるものと同様である。
【００６３】
ここで、図７〜図１２を参照しつつ、乾燥装置１０の動作を説明する。図８〜図１２は、乾燥装置１０の動作を示した説明図である。先ず、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを乾燥する際の乾燥装置１０の動作を説明する。
【００６４】
図７に示されるように、前段の処理工程（基板Ｗの洗浄工程）が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。この基板Ｗは、図８に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の搬送ローラ４１の回転が停止される。そして、図８に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送ローラ４１は、再び回転して基板Ｗを送り出し、搬送路２Ｂの上流側に供給する。
【００６５】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。基板Ｗが、搬送路２Ｂを挟むように配置されている上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２との間に進入すると、基板Ｗの上面及び下面には、これらのエアーナイフユニット８１，８２からのエアーが吹き付けられる。基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過する際に、液切りされ、乾燥される。その後、基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過して、更に搬送路２Ｂの下流側へ進む。この際、図９に示されるように、基板受取装置５は、図８に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと、搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００６６】
乾燥後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、乾燥装置１０は、上側の搬送路２Ｂと、この搬送路２Ｂを挟むように配置するエアーナイフ手段８を利用して、基板Ｗを乾燥（液切り）することができる。
【００６７】
次いで、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを乾燥する際の乾燥装置１０の動作を説明する。先ず、図１０に示されるように、これまで上側の搬送路２Ｂに対して配置していたエアーナイフ手段８が、移動手段（不図示）の作動により、下側の搬送路２Ａに対して配置するように移動する。この際、エアーナイフ手段８の上側エアーナイフユニット８１が、搬送路２Ｂの通過穴２５Ｂ内を通過し、下側エアーナイフユニット８２が、搬送路２Ａの通過穴２５Ａ内を通過する。移動後、上側エアーナイフユニット８１は、搬送路２Ａの上方に配置し、下側エアーナイフユニット８２は、搬送路２Ａの下方に配置する。
【００６８】
そして、図１０に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図１１に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側に向けて送り出し、基板Ｗを供給する。
【００６９】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。基板Ｗが、搬送路２Ａを挟むように配置されている上側エアーナイフユニット８１と、下側エアーナイフユニット８２との間に進入すると、基板Ｗの上面及び下面には、これらのエアーナイフユニット８１，８２からのエアーが吹き付けられる。基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過する際に、液切りされ、乾燥される。その後、基板Ｗは、エアーナイフ手段８を通過して、更に搬送路２Ａの下流側へ進む。この際、図１２に示されるように、基板受取装置５は、図１１に示される状態から下降して、搬送路２Ａと、搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路２Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００７０】
乾燥後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして、乾燥装置１０は、下側の搬送路２Ａと、この搬送路２Ａを挟むように配置するエアーナイフ手段８を利用して、搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを乾燥（液切り）することができる。
【００７１】
なお、再び上側の搬送路２Ｂを利用する場合は、エアーナイフ手段８は、移動手段の作動により、上昇して図７に示される位置まで上昇して、搬送路２Ｂに対して配置される。
【００７２】
本実施形態の乾燥装置１０は、搬送路２毎に、エアーナイフ手段８を設ける必要がない。エアーナイフ手段８は、上下方向に移動可能であり、かつ所定位置で停止可能な移動手段を備えるため、各搬送路２に対応して配置することができる。つまり、乾燥装置１０全体として、エアーナイフ手段８（エアーナイフユニット８１，８２）の使用個数を低減でき、そのコストを抑えることができる。そして、搬送路２間の幅を、搬送路毎にエアーナイフ手段が設けられていた従来の乾燥装置のもの比べて、狭くすることができ、上下方向において乾燥装置１０の小型化を図れる。
【００７３】
次いで、図１３を参照しつつ、他の実施形態に係る洗浄装置１００について、説明する。この洗浄装置１００は、シャワー洗浄方式で基板Ｗを洗浄するものである。図１３に示されるように、洗浄装置１００は、上下方向に並列に（階層状に）並んだ２つの搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）と、シャワー手段９を備える。各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の基本的な構成は、図１に示される洗浄装置１におけるものと同様である。但し、本実施形態の洗浄装置１００で利用される各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）は、それぞれ途中に、シャワー手段９から噴射される水流を通過させる通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）を備える。この通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）は、平行に配置した一対の枠部材２４と、これらの間に掛け渡されている搬送ローラ２１とによって囲まれた空間からなる。基板Ｗは、各搬送ローラ２１の回転によって、搬送路２上を上流側から下流側へ向けて移動する。
【００７４】
シャワー手段９は、一対のシャワーユニット９１，９２を備える。これらの内の一方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの上面側に向けて水流（洗浄液）を吹き下ろすように噴射する上側シャワーユニット９１であり、他方は、搬送路２上を通過する基板Ｗの下面側に向けて水流（洗浄液）を吹き上げるように噴射する下側シャワーユニット９２である。図１３に示されるように、上側シャワーユニット９１は、上側の搬送路２Ｂの上方に配置し、下側シャワーユニット９２は、下側の搬送路２Ｂの下方に配置している。これらのシャワーユニット９１，９２は、各搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の通過穴２６（２６Ａ及び２６Ｂ）を介して、互いに向かい合うように配置されている。搬送路２Ａの通過穴２６Ａと、搬送路２Ｂの通過穴２Ｂとは、階層方向（上下方向）に沿って一列に並んでいる。
【００７５】
各シャワーユニット９１，９２は、それぞれ噴射する水流量（噴射圧、噴射量）を調節可能なノズル（不図示）を含む。各ノズルからは、洗浄液（例えば、超純水）が基板Ｗの表面（上面又は下面）に向けて噴射される。基板Ｗの表面（上面又は下面）に対して、水流は、略垂直の方向から当てられる。各ノズルには、洗浄液が供給される供給配管（不図示）がそれぞれ接続されている。そして、各供給配管には、それぞれ電磁弁が備えられている。各電磁弁は、図示されない制御装置と電気的に接続されており、制御装置からの制御信号により開閉制御される。この開閉制御によって、各シャワーユニット９１，９２の各ノズルから噴射される水流量が調節される。
【００７６】
洗浄装置１００は、図１に示される洗浄装置１と同様、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の上流側に、基板供給装置４を備え、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）の下流側に、基板受取装置５を備える。基板供給装置４は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）に対して、交互に基板Ｗを供給し、基板受取装置５は、搬送路２（２Ａ及び２Ｂ）から交互に搬送されてくる基板Ｗを受け取る。そして、基板供給装置４の上流側には、１つの他の搬送路６が配置され、基板受取装置５の下流側には、上下方向に並列に並んだ２つの他の搬送路７（７Ａ及び７Ｂ）が配置されている。これらの搬送路６及び７の基本的な構成は、図１に示されるものと同様である。
【００７７】
ここで、図１３〜図１７を参照しつつ、洗浄装置１００の動作を説明する。図１４〜図１７は、シャワー洗浄方式の洗浄装置１００の動作を示した説明図である。先ず、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄する際の洗浄装置１００の動作を説明する。
【００７８】
図１３に示されるように、前段の処理工程が施された基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されている。この基板Ｗは、図１４に示されるように、基板供給装置４に受け渡される。基板Ｗが基板供給装置４に受け渡され、基板供給装置４上に載せられると、それまで回転していた基板供給装置４の回転が停止される。そして、図１４に示されるように、基板供給装置４は、基板Ｗを載せた状態で、搬送路２Ｂの位置（高さ）まで上昇する。その後、搬送ローラ４１は、再び回転して基板を送り出し、搬送路２Ｂの上流側に供給する。
【００７９】
搬送路２Ｂの上流側に供給され、搬送路２Ｂの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。搬送路２Ｂの上流側には、図１に示される洗浄装置１と同様、基板検出手段（不図示）が備えられている。この基板検出手段は、制御装置と電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。制御装置は、この検出結果に基づいて、上側シャワーユニット９１の水流量と、下側シャワーユニット９２の水流量が調節される。この場合、下側シャワーユニット９２が基板Ｗの下面側に向けて吹き上げる水流量が、上側シャワーユニット９１が基板Ｗの上面側に向けて吹き下ろす水流量よりも多く（強く）なるように、設定される。このように、下側シャワーユニット９２から噴射される水流量を多くして、上側の遠い搬送路２Ｂ上に載っている基板Ｗの下面に対して確実に水流を当てることができる。
【００８０】
基板Ｗが搬送路２Ｂ上を移動して、上側シャワーユニット９１の下方に進入すると、上側シャワーユニット９１からの水流が基板Ｗの上面に当てられ、そして、搬送路２Ａの下方に配置されている下側シャワーユニット９２から吹き上げられ、搬送路２Ａの通過穴２６Ａを通過した水流が基板Ｗの下面に当てられる。搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗの上面及び下面に対して、同時に水流が当てられる。基板Ｗは、これらのシャワーユニット９１，９２の間を通過する際に、洗浄される。その後、基板Ｗは、シャワー手段９を通過して、更に搬送路２Ｂの下流側へ進む。基板Ｗが搬送路２Ｂ上のシャワー手段９を通過すると、各シャワーユニット９１，９２からの噴射が停止される。また、この際、図１５に示されるように、基板受取装置５は、図１４に示される状態から上昇して、搬送路２Ｂと搬送路７（７Ｂ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ｂと、搬送路７Ｂとが一本の搬送路として繋がる。
【００８１】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ｂから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ｂ上を通過する。搬送路７Ｂは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして洗浄装置１００は、シャワー手段９（各シャワーユニット９１，９２）を利用して、上側の搬送路２Ｂ上を通過する基板Ｗを洗浄することができる。
【００８２】
次いで、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄する際の洗浄装置１００の動作を説明する。先ず、図１３に示されるように、基板Ｗが搬送路６上に載せられて搬送されてくると、基板供給装置４が、その基板Ｗを受け取る。基板供給装置４が基板Ｗを受け取ると、それまで回転していた搬送ローラ４１の回転が停止され、図１６に示されるように、搬送路２Ａの位置（高さ）まで下降する。そして、基板供給装置４の搬送ローラ４１が再び回転して、搬送路２Ａの上流側に向けて送り出し、基板Ｗを供給する。
【００８３】
搬送路２Ａの上流側に供給され、搬送路２Ａの搬送ローラ２１上に載せられた基板Ｗは、搬送ローラ２１の回転によって下流側に向かって進む。搬送路２Ａの上流側には、図１に示される洗浄装置１と同様、基板検出手段（不図示）が備えられている。この基板検出手段は、制御装置と電気的に接続されており、基板Ｗの検出結果を制御装置に出力する。制御装置は、この検出結果に基づいて、上側シャワーユニット９１の水流量と、下側シャワーユニット９２の水流量が調節される。この場合、上側シャワーユニット９１が基板Ｗの上面側に向けて吹き下ろす水流量が、下側シャワーユニット９２が基板Ｗの下面側に向けて吹き上げる水流量よりも多く（強く）なるように、設定される。このように、上側シャワーユニット９１から噴射される水流量を多くして、下側の遠い搬送路２Ａ上に載っている基板Ｗの上面に対して確実に水流を当てることができる。
【００８４】
基板Ｗが搬送路２Ａ上を移動して、下側シャワーユニット９２の上方に進入すると、下側シャワーユニット９２からの水流が基板Ｗの下面に当てられ、そして、搬送路２Ｂの上方に配置されている上側シャワーユニット９１から吹き下ろされ、搬送路２Ｂの通過穴２６Ｂを通過した水流が基板Ｗの上面に当てられる。搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗの上面及び下面に対して、同時に水流が当てられる。基板Ｗは、これらのシャワーユニット９１，９２の間を通過する際に、洗浄される。その後、基板Ｗは、シャワー手段９を通過して、更に搬送路２Ａの下流側へ進む。基板Ｗが搬送路２Ａ上のシャワー手段９を通過すると、各シャワーユニット９１，９２からの噴射が停止される。また、この際、図１７に示されるように、基板受取装置５は、図１６に示される状態から下降して、搬送路２Ａと搬送路７（７Ａ）との間を連絡するように配置する。基板受取装置５がこのように配置することによって、搬送路２Ａと、搬送路７Ａとが一本の搬送路として繋がる。
【００８５】
洗浄後の基板Ｗは、搬送路２Ａから、基板受取装置５上を通過し、更に、搬送路７Ａ上を通過する。搬送路７Ａは、後段の処理工程に接続されており、基板Ｗを後段の処理工程まで搬送する。このようにして洗浄装置１００は、シャワー手段９（各シャワーユニット９１，９２）を利用して、下側の搬送路２Ａ上を通過する基板Ｗを洗浄することができる。
【００８６】
上側シャワーユニット９１の噴射量（水流量）と、下側シャワーユニット９２の噴射量（水流量）とは、上記のように、基板Ｗが通過する搬送路２に応じて、切り替えられる。このように、各シャワーユニット９１，９２を、基板Ｗが通過する搬送路２に応じて、それらの噴射量（水流量）を切り替えて使用することによって、使用するシャワーユニットの個数を低減でき、コストを抑えることができる。また、使用するシャワーユニットの個数を低減できることによって、階層状に並べる搬送路の間隔を狭くすること等が可能となり、上下方向において、装置の小型化を図れる。
【符号の説明】
【００８７】
１ 洗浄装置
２ 搬送路
３ 回転洗浄ロール
３Ａ 最下階専用回転洗浄ロール
３Ｂ 兼用回転洗浄ロール
３Ｃ 最上階専用回転洗浄ロール
４ 基板供給装置
５ 基板受取装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、各搬送路上を通過する基板をその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロールと、を備える洗浄装置であって、
前記回転洗浄ロールが、
最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、
最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、
上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールと、からなることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記回転洗浄ロールは、基板の進行方向に沿うように回転する請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記兼用回転洗浄ロールは、上階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合と、下階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合とで、回転方向が切り替えられる請求項１又は２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える請求項１〜３の何れか１項に記載の洗浄装置。
【請求項１】
載せられた基板を各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路と、各搬送路上を通過する基板をその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロールと、を備える洗浄装置であって、
前記回転洗浄ロールが、
最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、
最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、
上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールと、からなることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記回転洗浄ロールは、基板の進行方向に沿うように回転する請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記兼用回転洗浄ロールは、上階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合と、下階側の搬送路上を通過する基板を回転洗浄する場合とで、回転方向が切り替えられる請求項１又は２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記複数の搬送路の何れかに、その上流側から基板を供給する基板供給装置を備える請求項１〜３の何れか１項に記載の洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１２−２０２１０（Ｐ２０１２−２０２１０Ａ）
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５８０４１（Ｐ２０１０−１５８０４１）
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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