【課題】外径が異なるチューブバンドルであっても、十分に洗浄することができるチューブバンドル洗浄装置を提供する。
【解決手段】チューブバンドルＴの長手方向に延在するようにガイドレール１が配置されている。アーム支持体１０の盤体１１の下面から、チューブバンドルＴの一方の側面側に第１のアーム２０が延設されると共に、チューブバンドルＴの他方の側面側に第２のアーム２０Ａが延設されている。ノズル３５から高圧水を噴射させ、アーム支持体１０をガイドレール１に沿ってチューブバンドルＴの他端側まで移動させる。次に、ベース３０の位置をピッチＰの２倍（２Ｐ）分だけアーム２０，２０Ａに沿って移動させて固定した後、アーム支持体１０を上記と同様に移動させる。これを繰り返すことにより、チューブバンドルＴのすべてのチューブｔの外面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吸収可能で弾性変形可能なスポンジ４１と、スポンジ４１に処理液を供給する貯留槽４０と、基板Ｗを保持する基板搬送ロボット２１とを含む。基板搬送ロボット２１は、スポンジ４１と基板Ｗとを相対移動させてスポンジ４１と基板Ｗの下面とを接触させることにより、スポンジ４１に吸収されている処理液を基板Ｗの下面に供給させる。 （もっと読む）

【課題】自動的に清掃可能で、清掃後の表示部の状況が確認できるとともに、メインテナンスが容易な表示部清掃装置、表示装置及び清掃方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１輝度測定器２５、第２輝度測定器２７で清掃前後の同じ表示素子１６の輝度を計測する。清掃後の輝度が清掃前と比較して閾値以上向上していない場合には、その表示素子の識別情報を記憶部６８に記憶させ、１列分の表示素子１６の清掃が終了した後に２回目の清掃を行う。２回目の清掃後にも輝度が向上しないと判別された表示素子がある場合には、輝度が向上したと判別されない表示素子について、輝度比較制御部５４は、主制御部５２にアラームを通知する。輝度の測定は、ブロア３１により表示素子１６を乾燥させた後に行う。表示装置１には扉１１が設けられており、係員が出入りして清掃ユニット１７の保守点検を行う。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めることにより洗浄品質と洗浄効率とを向上させることができる洗浄媒体を提供する。
【解決手段】気流により飛翔することにより洗浄対象物に衝突して該洗浄対象物Ｗに付着している付着物ｄを除去するために用いられる洗浄媒体であって、上記洗浄媒体Ｍは、平坦面からなる基部から屈曲あるいは湾曲による立ち上がり部を有する可撓性薄片で構成され、基部Ｍの表裏各面と立ち上がり部との間の隙間に気流が進入できるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄ノズルの容器内への昇降量を容器高さに対応する等微粒子の除去率を高めるとともに、容器高さの種類が変わった場合に容器高さに対応して洗浄ノズル昇降量変更の型替えを簡単な操作で行える洗浄ノズル昇降量自動変更装置を備えた容器リンサ及びそのリンス方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る容器リンサのリンス方法は、ＰＥＴボトル等の容器３を把持する把持装置を円周等分に備えた回転円板の回転によって容器３を搬送中に、把持装置と同期して回転し、容器に対応した位置で容器に対して昇降して、容器をエア等の気体噴射によりリンスする昇降式の洗浄ノズルを備えた容器リンサのリンス方法において、洗浄ノズルの容器への昇降量を容器高さの種類に対応して変更するものである。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板の表面からパーティクル汚染物質を洗浄するための装置及び方法は、粘弾性材料の層を表面上に塗布することを含む。粘弾性材料は、薄い膜として塗布され、実質的な液体様特性を示す。粘弾性材料を塗布された表面の第１のエリアには、粘弾性材料を塗布された表面の第２のエリアがその加えられる力を実質的に受けないように、外力が加えられる。外力は、粘弾性材料の固体様特性にアクセスするために、粘弾性材料の固有時間よりも短い持続時間にわたって加えられる。固体様特性を示す粘弾性材料は、表面上に存在するパーティクル汚染物質の少なくとも一部と少なくとも部分的に相互作用する。粘弾性材料は、固体様特性を示している間、パーティクル汚染物質の少なくとも一部と併せて表面の第１のエリアの領域から除去される。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】 水源等を確保する必要が無く、太陽熱発電設備の設置場所選択の自由度が向上する、太陽熱発電設備のコレクタをクリーニングする装置を提供する。
【解決手段】 自走式の走行台車２に、給気装置４とこの給気装置４から供給される空気を噴出するエアノズル１９とが搭載されており、前記エアノズル１９からの噴出空気をコレクタ５２の太陽光反射面５２ａに吹き付けて清掃することができるように構成されており、前記エアノズル１９が昇降可能に構成され、エアノズル１９によるエアブローの前後それぞれの太陽光反射面５２ａの汚れ度を測定する汚れ度測定装置２９をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】ブラシの寿命を長くした洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構１０と、基板Ｗを洗浄可能な洗浄ブラシ２１とを備え、保持機構１０に保持された基板Ｗに洗浄ブラシ２１を当接させながら相対回転させて基板Ｗを洗浄するように構成された洗浄装置１において、洗浄ブラシ２１を洗浄するブラシ洗浄器５０を有し、このブラシ洗浄器５０は、洗浄ブラシ２１の表面電位を変化させて、洗浄ブラシ２１の表面電位および当該洗浄ブラシ２１に付着した異物の表面電位を互いに正負が同じ表面電位にすることにより、洗浄ブラシ２１から異物を分離して除去するようになっている。 （もっと読む）

【課題】装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを水平姿勢で保持する基板保持部１と、基板Ｗに接触して基板Ｗを洗浄する洗浄ブラシ７と、洗浄ブラシ７の側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズル９と、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを保持する保持アーム５と、この保持アーム５に連結して設けられ、基板Ｗ面に沿って洗浄ブラシ７と二流体ノズル９とを移動させる単一のアーム移動機構と、を備えている。このように構成される基板処理装置によれば、洗浄ブラシ７と二流体ノズル９を移動させる単一のアーム移動機構を備えているので、装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能が一層向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】排水管（特に横管）内周壁に固着した堆積物を簡単に除去することの出来る排水管の洗浄方法及び装置を提供する。
【解決手段】排水管２内の所定位置から第１の洗浄水噴射手段２０を介し排水管２内の上流へ向けて洗浄水を噴射させる第１の洗浄水噴射工程と、該第１の洗浄水噴射工程終了後、排水管２内の所定位置よりも上流の位置から第２の洗浄水噴射手段３０を介し排水管２内の下流へ向けて洗浄水ＣとエァーＤを噴射する第２の洗浄水噴射工程とにより、排水管２内の洗浄を行うようにしたものである。
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【課題】 効率的に広範囲に流体を噴出することができる、流体噴出装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、流体を噴出可能な流体噴出手段１１と、前記流体噴出手段１１を支持する第一支持部１３とを備え、前記流体噴出手段１１が前記第一支持部１３を移動可能に構成されており、前記流体噴出手段１１から噴出される流体として第一流体が供給され、前記第一支持部１３にて前記流体噴出手段を移動させる駆動源として第二流体が供給されることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】高層マンション等の共用立管の内部洗浄を容易かつ短時間に行える立管洗浄装置および立管洗浄方法を提供する。
【解決手段】先端に洗浄ノズル１５を設けた高圧ホース１４を共用立管２０の上部から管内に挿入し、洗浄ノズル１５を最下部まで到達させる。そして、高圧流体の供給源１１から接続ホース１６を介して高圧水を高圧ホース１４に供給し、高圧ホース１４をその中心軸回りに回転させるとともに、洗浄ノズル１５から高圧水を噴射しながら、ホース進退装置１３とホースガイド１９により垂直上方に螺旋状に洗浄ノズル１５を共用立管２０の最上部まで移動させて、立管内壁の付着物、堆積物、錆等を粉砕あるいは剥離する。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めて洗浄品質と洗浄効率とを向上させるとともに複雑な形状の部品であっても傷や洗浄残しが発生することを抑制する。
【解決手段】筒状に形成され可撓性を有する洗浄媒体１を、洗浄槽１２内で気流により飛翔させ洗浄対象物３に衝突させて洗浄対象物３に付着している付着物を除去する。洗浄媒体１が洗浄対象物３に衝突するとき、洗浄媒体１が洗浄対象物３に非弾性衝突するため一度の衝突における接触面積が大きく、かつ洗浄対象物３に衝突したときの接触力が大きくなると洗浄媒体１が撓んで洗浄対象物３の形状に倣うから、複雑な形状の洗浄対象物３を確実に洗浄して洗浄品質を高めて洗浄効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】ベベル部の汚染に起因する基板の処理不良の発生を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。ベベル研磨部５０では、ベベル研磨ユニットにより基板Ｗのベベル部に研磨処理が施される。それにより、基板のベベル部に付着する汚染物が確実に取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの構成部材の洗浄を可能とする。
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄方法であって、上記付着物と上記構成部材との密着力を低減させるプラズマエッチング処理と、上記プラズマエッチング処理によって上記構成部材との密着力が低減した上記付着物を水にて洗い流す水洗処理とを有する。 （もっと読む）

【課題】排水管内の洗浄効率を向上させると共に、作業者の負担を軽減し、ホースとの摩擦により管内の曲がり部にダメージを与える度合いを少なくすることができる管内洗浄用ノズルおよびこれを用いた排水管洗浄方法を提供すること。
【解決手段】立管２の上端部からノズルＮを挿入し、ノズルを横引き管３に至るまで引き下ろす。続いて送水ホースＨに高圧水を送ることでノズルに形成された斜め後方への噴射口より高圧水を噴射し、その推進力によりノズルＮを横引き管３内に進行させることで、横引き管内を洗浄する。高圧水の送水を停止し、再び送水を開始させることで前記ノズルに形成された斜め前方への噴射口より高圧水を噴射させつつ、前記ノズルを横引き管内から立管内に沿って引き上げ、噴射水により横引き管内および前記立管内を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めることにより洗浄品質と洗浄効率とを向上させることができる洗浄媒体を提供する。
【解決手段】気流により飛翔することにより洗浄対象物に衝突して該洗浄対象物Ｗに付着している付着物ｄを除去するために用いられる洗浄媒体であって、上記洗浄媒体Ｍは、平坦面からなる基部から屈曲あるいは湾曲による立ち上がり部を有する可撓性薄片で構成され、基部Ｍの表裏各面と立ち上がり部との間の隙間に気流が進入できるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環状対象物から除去した異物が環状対象物に再付着することを防止することができる異物除去装置を提供すること。また、環状対象物から除去した異物を吸引する場合に、吸引能力を向上させることができる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】異物除去装置１において、ワークＷの内側にて半径方向に対して斜め外向きにエアを噴出する中央ノズル４１と、ワークＷの外側にて半径方向に対して斜め内向きにエアを噴出する周辺ノズル４２と、ワークＷを覆うとともに退避可能なエンクローズケース３０と、中央ノズル４１および周辺ノズル４２から噴射されたエアによってエンクローズケース３０に形成されたエア流れの向きを下向きに変えるためにエンクローズケース３０の内壁に取り付けられた羽根３５，３６と、吸引口２６を外周部に制限する円錐コーン２５が備わり、エンクローズケース３０内の異物を吸引する吸引部１２とを設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）