【課題】簡単かつ安価な構成で、ノズルを揺動できて、ワーク全体に対して、圧力流体を均一に噴出させることができるようにする。
【解決手段】ワークが搬送される搬送コンベア２と、該搬送コンベア２によって搬送されるワークに付着した塵埃を除去するための作業処理空間Ｓが内部に設けられた本体３と、本体３内に配置される、ワークに対して加圧された圧力流体を噴出する噴出口６０を有するノズル６と、該ノズル６に圧力流体を供給する圧力流体供給手段９と、本体３に接続されて、ノズル６から噴出される圧力流体によって除去される塵埃を吸引する集塵機１１とを備えた塵埃除去装置において、前記ノズル６を、弾性素材により湾曲して作製し、一端部を固定端６ａとするとともに、他端部を自由端６ｂとし、該他端部６ｂに前記噴出口６０を形成する。 （もっと読む）

【課題】手作業によることなく、エアブローにより短時間で確実な切粉の除去を可能とし、歩留まり性の改善が可能な切粉除去装置および切粉除去方法を提供する。
【解決手段】この切粉除去装置１は、ワークの円筒状内部に残存した切粉を除去する切粉除去装置において、駆動源１６によって回転駆動される中空のシャフト１２を備え、前記シャフト１２は、前記ワークの円筒状内部に挿入可能に形成されると共に、該シャフト１２内に供給される圧縮空気が噴出される噴出穴１２ｄが複数形成されており、回転時に径方向にフローティングが生じるように配設されている。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽１２の内側において、壁部２１の周方向に複数の第一案内翼２４を設ける。この第一案内翼２４は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク１９の洗浄時に供給され、フォトマスク１９の回転により壁部２１方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼２４により下方に導く。また、第一案内翼２４の下方において、壁部２１の周方向に複数の第二案内翼２５を設ける。第二案内翼２５は、第一案内翼２４により導かれたクリーンエアを、処理槽１２の底部２２に接続さている排出管部１５に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽１２から排出する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、洗浄液としてのＤＩＷの液膜が形成された基板Ｗの表面Ｗｆに対し、媒介液供給機構５５から媒介液としてのトルエンを供給し、ＤＩＷの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構５１によりトルエンを介してＤＩＷに超音波を付与しながら、凝固手段３１から基板表面Ｗｆに凍結用の窒素ガスを吐出し、ＤＩＷを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいＤＩＷの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するＤＩＷの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 （もっと読む）

【課題】 小型で縦長の円筒状容器の内部の内側面・底面及び底面周縁部に付着している切粉・バリ・油・汚れ等の付着物・残留物を洗浄水で確実に剥離して除去・洗浄する。
【解決手段】 縦方向３０ｍｍピッチに設けた縦６個の噴出ノズル２の列と縦５個の噴出ノズル２の列を３５ｍｍピッチで横方向に各３列設けた噴水ノズル体１を容器Ｂの送り方向に直交する縦方向に５０回／秒で１５ｍｍの振巾で往復動させ、各噴出ノズル２の先端部に容器Ｂの開口面Ｂｆの法線に対し１０°の投入角と容器Ｂの送り方向に４５°と１３５°の反対方向の位相角を有するノズル口２ｎを２つ設け、ノズル口から容器内に傾斜した方向に高圧の水流を噴射して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物（パレット）を短時間で効率的に洗浄し、クリーンルーム内での塵埃による汚染を防止するとともに、精密機器の生産効率の向上を図ることができる自動パレット洗浄装置を提供する。
【解決手段】自動パレット洗浄装置１は、パレットＰを洗浄装置本体１０内に搬送する搬送コンベア１１と、搬送コンベア１１により搬送されたパレットＰに対してエアーを噴出し、エアーによりパレットＰに付着した塵埃を除去し洗浄するエアー噴出ノズル２１と、洗浄装置本体１０内を負圧状態とし、エアー噴出ノズル２１によってパレットＰから除去された塵埃を吸引するエアー吸引装置４０とを備える。 （もっと読む）

【目的】エアブロー装置を簡単かつ小型化し、正確に首振り運動させる。
【構成】エアブロー装置１０は本体部１１とエアノズル１２を備え、高圧エア供給装置１４から本体部１１へ供給した高圧エアをエアノズル１２から吹き出させて軸受メタル取付面５をエアブローする。エアノズル１２は柔軟なチューブ製であり、自由端１８側にリング状のウェイト２０を取付け、ウェイト２０を押しつぶすように変形させることにより、エアノズル１２の一部を長円形又は楕円形状に変形させて変形部２１とする。これにより、エアノズル１２は確実に首振り運動を行う。しかも、変形部２１の向きにより揺動方向を調整できる。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハをスポンジブラシによって所定の洗浄度合に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】回転テーブル１１に保持された半導体ウエハ２２を回転駆動されるスポンジブラシ３８によって洗浄するブラシ洗浄装置において、上記回転テーブルを回転駆動するモータ１６と、上記洗浄ブラシを回転駆動するモータ３４と、上記スポンジブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動機構３２と、上記スポンジブラシを半導体ウエハの径方向中心部から外方へ揺動させたときに上記スポンジブラシの上記半導体ウエハに接触する端面と上記半導体ウエハの上記端面が接触する部分との相対速度が所定値以上になるよう上記角モータを制御する制御装置６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】先端にノズルが取り付けられたランスを揺動させる揺動機構を遠隔操作することによって安全に洗浄作業を行うことができる高圧水洗浄装置を提供すること。
【解決手段】先端にノズル２８が取り付けられたランス２９を揺動させながら前記ノズル２８から噴射される高圧水によって縦型配管内を洗浄する高圧水洗浄装置において、前記ノズル２８を揺動させる揺動機構６と、該揺動機構６を遠隔操作する操作ユニット３６を設ける。又、前記揺動機構６は、前記ノズル２８の揺動範囲を規制するスイング調整板を有する。更に、前記ノズル２８への高圧水供給ラインにフートバルブ（高圧逃がし弁）４９を設け、該フートバルブ４９の操作によって前記ノズル２８への高圧水の供給停止を可能とする。又、前記揺動機構６を直交座標軸方向に移動可能に支持する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の搬送方向に対し斜めに１本設けられたエアナイフであっても、ガラス基板の進行方向の末端部での液残りが発生しないガラス基板洗浄機のエアナイフを提供する。
【解決手段】１）エアナイフ１は、ガラス基板２０Ｂの搬送路上方にて、その片端部ｅは円弧状の揺動が可能なように、他端部ｆが揺動機構３０に取り付けられており、２）揺動機構は、ａ）洗浄液の取り除き開始から終了までの間、エアナイフをガラス基板の搬送方向に揺動して、エアナイフの角度を開始時の角度Ａから終了時の角度Ｂまで等速度で変え、ｂ）取り除き終了後はエアナイフの角度を開始時の角度Ａまで戻す。角度Ａが２０度で、角度Ｂが６０度であること。 （もっと読む）

【課題】 牛乳等の配管系のピグ装置を，配管部品を用いて安価に形成するとともに該配管部品によって括れ部のあるピグ洗浄を有効に行えるようにする。
【解決手段】 配管系Ａに，配管部品の偏芯レデューサー３，４を介して同じく配管部品にしてピグ１の径より径大なクロス配管２を接続してランチャーとし，その交差する接続口にエアモーター５を設置し，このエアモーター５によってバルブステム２１を進退可能とする。バルブステム２１を後退し，ピグ１を製品移送方向に圧送して製品回収を行い，バルブステム２１を前進し，ランチャーにピグ１を保持する揺動洗浄スペース２２を形成して，洗浄液によってピグ１の揺動洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上の液膜を短時間で凍結させる。
【解決手段】リンス液供給部６２は温度調整部６２３を備える。温度調整部６２３は、ＤＩＷを常温より低い温度に冷却する。この温度調整部６２３は、例えば１０℃以下にＤＩＷを冷却しており、さらに５℃以下に冷却する方が好ましい。なお、温度調整部６２３は、ＤＩＷを０℃以上に保っており、これによってＤＩＷが凝固しないようにしている。そして、リンス液供給管９６に供給された冷却されているＤＩＷは、リンス液吐出ノズル９７から基板の表面に向けて吐出されて液膜を形成する。また、液供給管２５を介して液吐出ノズル２７から基板の裏面に向けて冷却されたＤＩＷが吐出されて、裏面に液膜が形成される。液膜が冷却されているため、冷却ガスが基板の表面および裏面に向けて吐出されると、短時間で凍結する。 （もっと読む）

【課題】基板表面へのダメージを防止しつつ、良好な熱エネルギー効率で基板表面に対して洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面Ｗｆに液膜１１を付着させた状態で該液膜１１を凍結させて凍結膜１３を形成する。続いて、回転駆動されている基板Ｗの表面Ｗｆに向けて加熱ガス吐出ノズル４から加熱ガスを局部的に吐出させながら、加熱ガス吐出ノズル４を基板Ｗの回転中心位置Ｐ４１から基板Ｗの端縁位置Ｐ４２に向けて移動軌跡Ｔ４に沿って揺動させる。これにより、基板表面Ｗｆの表面領域のうち凍結膜１３が融解した領域（融解領域）が基板表面Ｗｆの中央部から周縁部へと広げられ、基板表面Ｗｆに形成された凍結膜１３の全体が融解する。 （もっと読む）

【課題】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に付着している汚れを効果的に除去する。
【解決手段】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に 100度Ｃ以下の湿り飽和蒸気を接触させて汚れを膨潤させているが、このとき、タイヤ加硫モールド12が、カーボンブラックのみからなる充填材、または、少なくともシリカからなる充填材が配合されているゴム組成物を用いた未加硫タイヤを加硫するモールドであると、前者では汚れが比較的膨潤し易いため、型付け面13に湿り飽和蒸気を 100秒以上接触させ、後者では比較的膨潤し難いため、 240秒以上接触させる。 （もっと読む）

【課題】処理液の基板周辺への飛散を抑制しつつ、基板に処理液を用いた処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】回転状態にあるウエハＷにプッシュプルノズル１５の下面に保持された処理液が接液され、この状態で、プッシュプルノズル１５が揺動アーム１４の揺動によって、ウエハＷの回転中心Ｃを含む位置と、ウエハＷの周縁部の位置との間で往復移動される。ウエハＷの表面における接液位置が円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。これにより、ウエハＷの表面の全域が薬液と接液する。 （もっと読む）

【課題】基板１０を上乗せローラにより保持しつつ、基板１０の処理を基板全体に亘って可及的に均一にする。
【解決手段】基板１０を傾斜させた状態で搬送する搬送機構１３，１４と、基板１０の表側面に処理液を供給する処理液供給部とを備え、搬送機構１３，１４は、基板１０の傾斜方向に延びる第１の軸１５に回転可能に設けられて基板１０の裏側面を支持する下受けローラ１３と、第１の軸１５と平行に延びる第２の軸１６に回転可能に設けられて基板１０の表側面を支持する上乗せローラ１４とを有し、上乗せローラ１４は、第２の軸１６の方向に貫通形成された開口２２を有している。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で洗浄水の噴射方向を変向できて良好に洗浄できる。
【解決手段】ボトルＢを反転姿勢で保持可能なボトル保持部５と、ボトル保持部５により保持された反転姿勢のボトルＢの口部にノズル６を挿入して洗浄するボトル洗浄部７とを具備し、ボトル洗浄部７に、上端部にノズル６を有する昇降ロッド４３および外筒体４２に介在されてノズル６を揺動可能な揺動作動部４４を設け、揺動作動部４４に、昇降ロッド４３の上端側を揺動自在に支持する水平ピンと、ガイド部材に設けられた揺動カム孔と、昇降ロッド４３に設けられて揺動カム孔に係合される揺動受動ピンとを設け、前記昇降ロッド４３を昇降させて揺動作動部４４によりノズル６を揺動させる揺動駆動部５０を設けた。 （もっと読む）

【課題】 建造物に設置されたテレビカメラやビデオカメラ等を収容するハウジング前面の球状のクリアードーム窓を傷つけずに清掃できるようにする。
【解決手段】 ハウジングの前面に設けられた球面状のクリアードーム窓２を清掃するためのドーム用ワイパー装置であって、ワイパー両端部を前記ハウジングの前記球面状のクリアードーム窓２の中心軸近傍に回転構造を持たせた半円弧状のワイパーアーム３と、前記ワイパーアーム３の内側に前記クリアードーム窓２の曲面に沿って一定の距離を持たせた非接触状態として高圧流体を排出する吐出孔１７を備え、前記ワイパーアーム３の端部より高圧流体を注入して、前記ワイパーアーム３を往復運動作させる駆動手段とを備えて成ることを特徴とするドーム用ワイパー装置。 （もっと読む）

【課題】 細長形状の被洗浄物を、洗浄ブラシの回転軸に沿う方向に縦向きにして搬送しながら洗浄する洗浄装置であって、前記被洗浄物の太さや長さにかかわらず均一な洗浄作用を奏することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物供給口４から洗浄物取出口６へ向けて延びる回転軸１３ａ，１３ｂを有するとともに細長形状の被洗浄物２を前記回転軸１３ａ，１３ｂに沿って延びるように相互間に乗せて回転する第一の洗浄ブラシ８ａ及び第二の洗浄ブラシ８ｂと、これらの洗浄ブラシ８ａ，８ｂ上の前記被洗浄物２に回転接触して該被洗浄物２に前記洗浄物取出口６へ向かう方向への搬送作用を施す搬送ブラシ２８と、前記洗浄ブラシ８ａ，８ｂ上の前記被洗浄物２に洗浄液Ｗを接触せしめるための洗浄液供給手段１２と、を備えている。 （もっと読む）