【課題】基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吸収可能で弾性変形可能なスポンジ４１と、スポンジ４１に処理液を供給する貯留槽４０と、基板Ｗを保持する基板搬送ロボット２１とを含む。基板搬送ロボット２１は、スポンジ４１と基板Ｗとを相対移動させてスポンジ４１と基板Ｗの下面とを接触させることにより、スポンジ４１に吸収されている処理液を基板Ｗの下面に供給させる。 （もっと読む）

【課題】 ワーク表面に均一な濃度で処理ガスを吹き付けることができる表面処理用ノズル装置を提供する。
【解決手段】
ノズル装置のガス通路は、処理ガスが供給されるガス供給口と、上記ガス供給口からの処理ガスを分け、一直線上に間隔をおいて水平に並んだ多数の分岐下流端１２ｂへと送る通路分岐部と、これら分岐下流端１２ｂの配列方向と平行をなして直線的に連続して延びる合流部８０と、流れ方向変更部９０と、吹出スリット６１とを有している。流れ方向変更部９０は、多数の分岐下流端１２ｂから合流部８０へ送られてきた処理ガスを、下向きに送る第１通路部分９１と、上向きに送る第２通路部分９２と、下向きに送る第３通路部分９３とを有し、この第３通路部分９３からの処理ガスが吹出スリット６１からワークＷに向かって下向きに吹き付けられる。 （もっと読む）

【課題】高度な表面製が要求されるガラス板の間に挿入されるガラス用合紙に関し、特に、合紙からガラス板へ転写される汚れの低減、及びガラス板に付着した汚れの洗浄による除去効果の向上を図ることができるガラス用合紙を提供する。
【解決手段】古紙を原料として抄造された合紙本体の表面に、フッ素コーティング皮膜を形成した。また、前記ガラス用合紙を、複数枚重ね合わせた各ガラス板の間に挿入して、ガラス用合紙からガラス板へ転写される不純物の汚れを、フッ素を介在させた状態でガラス板表面に付着させ、その後、水で洗浄処理した際に前記汚れをフッ素の疎水性を利用してガラス板表面から洗い流すようにしたガラス板に付着した汚れの除去方法。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板上に存在する異物（主としてガラスカレット）の各種サイズ（例えば、１０μｍから１０００μｍの範囲）に適宜対応しうる清掃機能を有するガラス基板表面清掃装置、方法を提供。
【解決手段】 ガラス基板５０を支持し、第一の方向（図３中Ｍ）に前記ガラス基板を搬送するためのガラス基板支持搬送機構２０と、前記第一の方向に対し交差する第二の方向（図３中Ｎ）に前記ガラス基板の表面上で摺動させて、前記ガラス基板表面に付着した異物３００を除去するための清掃ベルト１１を有するガラス基板清掃機構１０とを有するガラス基板表面清掃装置１００であって、前記清掃ベルト１１が、当該表面に複数の三次元構造研磨材塗膜７０と、当該塗膜間に位置する溝６０とを有し、前記溝６０の溝幅６２が前記ガラス基板表面に付着した異物３００の外形幅寸法より広いガラス基板表面清掃装置１００。 （もっと読む）

【課題】 所期の紫外線照射処理を効率よく行うことができる光処理装置を提供すること。
【解決手段】 この光処理装置は、エキシマランプおよびエキシマランプ点灯用の昇圧トランスがケーシング内部に配置されてなる光放射ユニットと、この光放射ユニットを光処理領域に対して進入退出可能に往復移動させる光放射ユニット移動機構とを具えてなり、前記光放射ユニットにおけるケーシング内においては、前記光処理領域に対する進入方向において、前記エキシマランプが前方側に位置され、前記昇圧トランスが後方側に位置された状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、弧状の銅管３からなるコイルが、石英ブロック４の周囲に配置され、弧状の銅管３の弧が途切れた部分にプラズマ噴出口８が設けられる。筒状チャンバ内部の空間７にガスを供給しつつ、銅管３に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内部の空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）

【課題】押さえローラが一方の面に接触する薄板状の被クリーニング材の他方の面を、部品などが設けられていても、安定して支持する。
【解決手段】プリント基板Ｓの、クリーニングローラ４が設けられている側とは反対側に、基板Ｓを支持する単数若しくは複数の、円板状の下支えローラ１１が、基板搬送方向に直交する回転軸１４回りに回転可能に設けられている。下支えローラ１１は、外周面に基板Ｓに接触する弾性リング１３を有する。下支えローラ１１は、支持台１６に上下方向に変位可能に、かつ基板Ｓ側にコイルスプリング２１によって弾性的に付勢されるように支持されている。 （もっと読む）

【課題】化学強化により所望の耐衝撃性能を有するディスプレイ装置用カバーガラスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程と、ガラス板を洗浄する洗浄工程と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程と、を備えるディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法であって、洗浄工程は、洗浄工程後、化学強化工程前におけるガラス板のＢＯＲ強度が４００Ｎ以上となるように、ガラス板の少なくとも一方の主表面にロールブラシの先端を当接させることでガラス板を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】表面保護フィルムが剥がされた金属体表面からの糊残りの除去を比較的簡単に又は低コストで達成することができる糊残り除去方法並びに、金属体表面の清浄化方法、塗装前処理方法及び塗装方法に係る技術を提供すること。
【解決手段】コロナ放電処理装置１を用いて、表面保護フィルムを剥離した金属体２の表面を、コロナ放電が発生している環境に晒すことにより、表面保護フィルムに由来する糊残りを金属体表面から除去する。 （もっと読む）

【課題】表面保護フィルムが剥がされた金属体表面からの糊残りの除去を比較的簡単に又は低コストで達成することができる糊残り除去方法並びに、金属体表面の清浄化方法、塗装前処理方法及び塗装方法に係る技術を提供すること。
【解決手段】紫外線照射処理装置１を用いて、表面保護フィルムを剥離した金属体２の表面を、紫外線が発生している環境に晒すことにより、表面保護フィルムに由来する糊残りを金属体２の表面から除去する。 （もっと読む）

【課題】内部に希ガスが封入された長尺な発光管と、その外表面の電極と、前記発光管の光出射部を除いた内壁面上に形成された紫外線反射膜とを備えるエキシマランプにおいて、紫外線による変形による該エキシマランプの反り返りを規制する移動規制体を備えたエキシマ光照射装置に搭載した際に、紫外線歪と該反り規制歪の蓄積によって早期に発光管が損傷することを防止する。
【解決手段】エキシマランプ３の発光管３１の軸方向の中央部が、該発光管の光出射部の方向に突出するように湾曲していることを特徴とし、該エキシマランプを搭載するエキシマ光照射装置は、その筐体には該エキシマランプの中央部において紫外線反射膜形成部側から当接する移動規制体を設けるとともに、光出射部側から当接する矯正維持部材を設け、前記エキシマランプは該矯正維持部材によって管軸方向において直線状に矯正されて保持される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、太陽光追従型発電システムにおいて、太陽光に追従する太陽電池パネル表面を動力なしで、自動的に研磨・洗浄することができる太陽電池パネル自動研磨および／または洗浄装置に関するものである。
【解決手段】太陽電池パネル自動研磨および／または洗浄装置は、太陽電池パネル用支持部材と、太陽電池パネルを回動可能に固定する太陽電池パネル保持枠と、前記太陽電池パネル保持枠に設けられた溝と、太陽電池パネルの表面を研磨・洗浄するロールブラシまたはチャンネルブラシと、前記ロールブラシまたはチャンネルブラシを固定するほぼコ字型保持部材とから少なくとも構成されている。前記太陽電池パネル用支持部材は、太陽電池パネルが太陽光を追従できるように支持されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄ムラや洗浄媒体の漏出等の問題を来たすことなく大面積同時クリーニング化に対応でき、クリーニングの自由度も維持できる乾式クリーニング筐体を提供する。
【解決手段】筐体５０の開口部１８が洗浄対象物に当てられて塞がれると、吸気手段によって筐体５０内が負圧化され、インレット２４から高速気流が流入して旋回空気流が生じ、これによって洗浄媒体５が飛翔して洗浄がなされる。筐体５０の中央部には中空円筒状の流路制限部材１６が設けられ、その両端部には多孔性の分離板１４が設けられている。流路制限部材１６が吸引流路として機能するため、開口部１８が離されたとき、筐体内の洗浄媒体５は両方の分離板１４に吸着される。これにより、洗浄時における洗浄媒体の軸心方向の分布が均一となり、洗浄ムラが抑制される。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際してプラズマ点灯後のプラズマの点灯状態やプラズマの照射状態を確認できて信頼性の高いプラズマ処理を確保することができる大気圧プラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の所定の反応空間１１に第１のガス１５を供給するとともに反応空間１１近傍のアンテナ１３又は電極に高周波電圧を印加して一次プラズマ１６を発生させ、発生した一次プラズマ１６又は前記一次プラズマ１６を第２のガス１８に衝突させて発生させた二次プラズマ２１を被処理表面６に向けて照射し、被処理表面６をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理方法において、一次プラズマ１６の点灯後の反射波の大きさを検出し、反射波の大きさを第１の所定値と比較して一次プラズマ１６が点灯しているか否かを確認するようにした。 （もっと読む）

【課題】ブラシを始動し、このブラシに対してフィルターを横移動させることでフィルターの清掃を自動的に行うものであり、常にフィルターの基点出しをもって清掃を自動的に、しかも、安全かつ確実に行うことができる。
【解決手段】フィルター９を凝縮器３に対して凝縮器３の吸入側を覆う凝縮器３の前位置から、凝縮器３の前を外れる位置まで横移動可能に設け、回転ブラシ１３をそのブラシ１３ａが該フィルター９に当接するように凝縮器３脇に立設し、フィルター９が凝縮器３の前位置にあるときに、該フィルター９の端部が接する箇所に基点検知手段１６を設け、この基点検知手段１６でのフィルター検知を基点出しとして、フィルター９の横移動の開始および停止を行う。 （もっと読む）

【課題】成膜材料等に影響を与えることなく、大型の成膜用マスクに対して均一なクリーニングを高速且つ効率良く行うことができる技術を提供する。
【解決手段】クリーニングガス供給部８から供給されたクリーニングガスを放電させ、クリーニングガスのラジカルをマスク６に向って放出するためのラジカル放出器１０を真空槽内に備える。ラジカル放出器１０は、面状のシャワープレート１５と、面状のメッシュ状部材１６を有する。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とが電気的に絶縁されるとともに、シャワープレート１５に高周波電力を印加することにより、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８においてクリーニングガスのプラズマを生成し、メッシュ状部材１６からマスク６に向ってクリーニングガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面の異物をより確実に除去できる基板クリーニング装置を提供する。
【解決手段】基板クリーニング装置１は、基板１１を往復移動可能な基板搬送部１２と、基板搬送部１２により移動される基板１１の表面の異物を除去するローラユニット１３と、基板搬送部１２及びローラユニット１３を制御するＰＬＣ１４と、を備える。ＰＬＣ１４は、基板１１を前進又は後進させるように基板搬送部１２を制御して、基板１１を、クリーニング回数に応じた移動回数分ローラユニット１３を通過させる。基板搬送部１２は、基板１１を搬送するベルト２１ａ，２１ｂと、ベルト２１ａ，２１ｂを支持するプーリー２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄと、プーリー２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄを回転させるリバーシブルモータ２３と、を有し、プーリー２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの回転方向が切り換え可能である。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。ラジカル放出器１０の処理ガス導入室１４の基板側に、導電体からなる面状のシャワープレート１５と、シャワープレート１５に対応する大きさ及び形状の導電体からなる面状のメッシュ状部材１６が設けられる。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とは電気的に絶縁されている。メッシュ状部材１６に高周波電力を印加し、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材１６から基板５に向って処理ガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）