【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 基板上にエッチング液を液膜状に供給した後に、この基板をリンス処理する場合においても、エッチング液とリンス液とを個別に回収することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、ガラス基板１００にエッチング液を供給する処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃと、ガラス基板１００にリンス液を供給する処理・洗浄ユニット１ｄと、各処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ毎に配設された回収トレー７１と、処理・洗浄ユニット１ｃと処理・洗浄ユニット１ｄとの間に配設されたエアナイフ７とを備える。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面処理量を微小にする
【解決手段】拡散室画成部３０の拡散室３３を漏出口３５を介して処理空間１０ａに連ねる。好ましくは、隔壁１５で拡散室３３を処理空間１０ａから隔て、かつ隔壁１５に漏出口３５を設ける。処理ガスの導入路２９の導入口２５を拡散室３３内に開口させる。好ましくは、漏出口３５を、ガス導入方向２５に沿ってまっすぐ下流側の位置Ｐからずらし、より好ましくは、隔壁１５と交差する内壁１７の一箇所が上記位置Ｐになるようにする。す。排気路４９の排気口４１を拡散室３３内に開口させる。好ましくは、排気口４１を拡散室３３における漏出口３５の側とは反対側に設ける。 （もっと読む）

【課題】パルスレーザを用いて有機ＥＬ用マスクを走査してレーザクリーニングを行う場合に、有機ＥＬ用マスクに過剰なエネルギーを作用させることなく高い洗浄度でクリーニングを行うことを目的とする。
【解決手段】レーザ光を走査して有機ＥＬ用マスク２に付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、有機ＥＬ用マスク２に対してレーザ光を間欠的に照射して走査を行うときに、レーザ光を照射することにより除去される蒸着物質の円形の除去領域を部分的に重ねることでクリーニングエリアの全面に除去領域が及ぶようになし、且つ１つの除去領域の中心と他の除去領域とが重ならないように走査している。 （もっと読む）

【課題】反転凸版印刷法を用いて安価に複数枚の高精細なパターニングを可能とする、除去版の除去版洗浄方法及び除去版洗浄装置を提供する。
【解決手段】反転凸版印刷法を用いて微細なパターニングを行う際に、不要な部分のインキ１２が凸部に転写した除去版３に、除去版洗浄用基板５又はロールを圧着、続いて剥離し、不要な部分のインキを除去版洗浄用基板側へ転写させ、次に該基板５表面を掻き基板より不要な部分のインキを回収する。従来は廃棄していたインキを無駄なく回収する。回収したインキ１３を再度印刷可能な状態に調整する。高精細なパターニング基板を安価に複数枚製造する事が出来る。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【解決手段】テーパ面５Ａ乃至５Ｄを有する開口部３を複数形成した有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、各開口部３に形成される４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄのうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、開口部３の対角線Ｄ１を挟んで反対側から第１のレーザＬ１を入射させて開口部３の斜め方向に走査させる第１のレーザ光学系１７Ａと、対角線Ｄ１を挟んで２つのテーパ面の反対側から第１のレーザＬ１が入射するように、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる第１のレーザ移動部２４Ａと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を高速に洗浄する。
【解決手段】基板１の側縁部の表側の第１の洗浄面と裏側の第２の洗浄面とを、洗浄テープによって洗浄する基板洗浄装置であって、洗浄テープを第１の洗浄面に押し付ける第１の押圧部材１１ａと、洗浄テープを第２の洗浄面に押し付ける第２の押圧部材１１ｂと、洗浄テープを供給する供給リール１６と、洗浄テープを回収する回収リール２０と、供給リールから第１および第２の洗浄面上を通過して回収リールに至るテープ経路に沿って洗浄テープを送るテープ送り機構１５とを含む洗浄ユニット２１と、着脱可能に装着した洗浄ユニットを基板の側縁部の長手方向に移動させる洗浄ユニット移動装置５０とを有する。洗浄ユニットにおいて供給リールと回収リールとが並列に配置され、供給リールからテープ経路に洗浄テープを供給する駆動装置のテープ供給動作と回収リールによる洗浄テープ回収動作とを連動させる連動装置を洗浄ユニットが備える。 （もっと読む）

【課題】被処理物の処理箇所のみに対して、安定して効率的にかつ簡単な構成及び制御にて生産性良く、低コストにて処理を行う。
【解決手段】プラズマヘッド１０に設けた反応空間１１に第１の不活性ガス１５を供給するとともに高周波電界を印加して反応空間１１から一次プラズマ１６を吹き出させ、第２の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス領域２０をプラズマヘッド１０内又はその近傍に形成するとともにこの混合ガス領域２０に一次プラズマ１６を衝突させて二次プラズマ２１を発生させ、発生した二次プラズマ２１を被処理物５の処理箇所に吹き付けて処理するプラズマ処理方法であって、プラズマヘッド１０と被処理物５を相対移動させて処理箇所を処理するに際して、一次プラズマ１６は連続して発生させ、処理箇所でのみ混合ガス領域２０を形成して二次プラズマ２１を発生させるようにした。 （もっと読む）

【課題】異方性導電フィルムを使用した基板の接続、特にアクリル樹脂を基材とした異方性導電フィルムを使用したガラスエポキシ基板の接続を改善する。
【解決手段】少なくとも一方の基板を洗浄する洗浄ステップと、洗浄された基板に異方性導電性フィルムを配置する異方性導電性フィルム配置ステップと、洗浄された基板の上に配置された異方性導電性フィルムの上に他方の基板を配置して加熱圧着する加熱圧着ステップと、をおこなうが、洗浄ステップでは、少なくとも一方の基板の異方性導電性フィルムが配置される予定の部分について、先ず有機溶媒拭き洗浄を実施し、次いでプラズマ洗浄を実施する。その結果、有機溶媒拭き洗浄で付着した不純物がプラズマで焼失し、信頼性のある接続を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】マスクに付着した異物の除去に有利な異物除去装置を提供する。
【解決手段】本発明の異物除去装置８ａは、マスク１のパターン面に付着した異物２ａ、２ｂを除去する異物除去装置であって、マスク１のパターン面に対向配置される電極５、６と、マスク１のパターン面と電極５、６との間に正及び負の電圧を交互に印加する電源３を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、温度状態の管理をより正確に行うことができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、前記処理容器の内部に設けられた被処理物を載置する載置部と、内部にプラズマを発生させる領域を有し、前記処理容器から離隔された位置に設けられた放電管と、マイクロ波発生部から放射されたマイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域にマイクロ波を導入する導入導波管と、前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、前記放電管と、前記処理容器と、を連通させる輸送管と、前記放電管の温度を検出する第１の温度検出部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 高い洗浄処理能力を得ることができ、しかも、結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても確実に除去することができる照射装置を提供する。
【解決手段】 放電容器および一対の電極を有するエキシマランプと、エキシマランプにおける一方の電極に誘電体を介して対向するよう配置されたプラズマ放電用電極とを備え、エキシマランプにおける一方の電極およびプラズマ放電用電極を介してプラズマ発生回路が形成されてなり、エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、エキシマランプとプラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、エキシマランプにおける一方の電極とプラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【課題】基板の被洗浄面の洗浄に当たって洗浄クロスをその幅方向に有効利用することで、洗浄クロスの使用量を低減してコスト低下を図るとともに、洗浄クロスの交換間隔を長くして生産効率を向上する。
【解決手段】基板１の被洗浄面１ａ、１ｂに押圧される押圧子と、基板１の被洗浄面１ａ、１ｂに対する押圧子の対向面１５にテープ状の洗浄クロス１２を送る洗浄クロス送給手段と、洗浄クロス１２に洗浄剤を吐出する洗浄剤供給手段と、押圧子を基板１の被洗浄面１ａ、１ｂの長手方向に相対移動させる移動手段とを備えた基板洗浄装置において、洗浄クロス１２の幅方向に複数の押圧子１１ａ１、１１ａ２と１１ｂ１、１１ｂ２とを並列配置するとともに、各押圧子１１ａ１、１１ａ２と１１ｂ１、１１ｂ２とを被洗浄面１ａ、１ｂに対する押圧可能位置と非押圧位置との間で位置切替可能に構成した。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】表示面とタッチパネルとの間に設けられた隙間に入り込んだ塵埃を容易かつ迅速に除去することが可能な表示装置を提供すること。
【解決手段】表示部１１１を有するＬＣＤ表示パネル１１と、このＬＣＤ表示パネル１１の周縁部に設けられたフロントベゼル１２と、ＬＣＤ表示パネル１１の表示部１１１と隙間を形成して対向配置するようにフロントベゼル１２に設けられたタッチパネル１３とを備えた表示装置において、フロントベゼル１２の側壁に表示部１１１に付着した塵埃を除去する清掃シートを挿脱自在な開口部を設ける。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を使用することなく、目視不可能な程度に薄い液膜や微小な液滴を含めて、濡れた基板表面から液体を残留させることなく迅速かつ完全に除去して、ウォーターマークの生成を最小限に抑えることができるようにする。
【解決手段】液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理方法であって、基板表面に対向させて配置した気液吸引ノズル２８と基板Ｗとを互いに平行に相対移動させながら、基板表面の液体４０を該表面から剥離させつつ近傍の気体と共に気液吸引ノズル２８で吸引し、基板表面に対向させて配置した乾燥ガス供給ノズル４４と基板Ｗとを互いに平行に相対移動させながら、基板表面の液体４０を剥離させた領域に向けて乾燥ガス供給ノズル４４から乾燥ガスを吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、材料、粒子、または化学物質を基板から除去するためのブラシまたはパッドを作製する方法および材料を提供する。
【解決手段】ブラシまたはパッドは、多孔性パッド材料を支持するための回転可能ベースを含む。ベースは、内表面および外表面を含み、かつ多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせるための複数のチャネルをベースに含む。多孔性パッド材料は、ベースの外表面の少なくとも一部を覆い、材料を様々な基板から除去するために使用される。多孔性パッド材料は、ベースのチャネルの１つまたは複数を充填し、多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせる。チャネルは、ベースの前記内表面を外表面と流体接続し、多孔性パッド内における多孔性パッドノードの位置合わせおよび流体の分布を補助することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】この発明は上下一対のエアーナイフの下方への撓みを矯正することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板の上面に気体を所定の傾斜角度で噴射するとともに、長手方向中途部に上部フックが設けられた上部エアーナイフ７と、基板の下面に気体を所定の傾斜角度で噴射するとともに、長手方向中途部に下部フックが設けられた下部エアーナイフ８と、上部エアーナイフの上方と下部エアーナイフの下方に平行に設けられた上部支持部材２５及び下部支持部材２６と、上部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ下端に上部フック３１が揺動可能に係合する上部係止部２９を有する吊り下げ部材２７と、下部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ上端に下部フック３５が揺動可能に係合する下部係止部３４を有する押し上げ部材３２を具備する。 （もっと読む）