【課題】ワークに対して異常放電が生じるのを防止しつつ、効率よくプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、ワーク１０の上方に設けられた電極ユニット２と、通電手段３と、処理ガス供給手段４と、冷却手段５とを有している。電極ユニット２は、長手形状の柱状体で構成された電極本体２１１と、この電極本体２１１の内部に、長手方向に沿って設けられた貫通孔２１２とを備えるアース電極２１と、貫通孔２１２に挿通された電極棒２２１を備える印加電極２２とを有する。貫通孔２１２と電極棒２２１との間には隙間が形成されており、この隙間がプラズマ生成空間２７として機能する。また、アース電極２１には、プラズマ生成空間２７を外部に開放するスリット２８が形成されている。このスリット２８からプラズマＰを噴出することにより、ワーク１０にプラズマ処理が施される。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ的確に大気圧プラズマの良否検査を行うことができるプラズマ検査方法、プラズマ処理方法、プラズマ検査装置及びプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】測定試料４２の表面に大気圧プラズマＰＺを照射するプラズマ照射工程（ステップＳＴ８）と、大気圧プラズマＰＺが照射された測定試料４２の表面の状態を検出する表面状態検出工程（ステップＳＴ９）と、検出した測定試料４２の表面の状態に基づいて大気圧プラズマＰＺの状態の良否判定を行う判定工程（ステップＳＴ１０及びステップＳＴ１１）を実行する。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際して所望の処理状態を高い信頼性をもって確保することができるプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の空間２に不活性ガスと反応性ガスの混合ガス８を供給するとともに電界を印加してプラズマ１１を発生させ、発生したプラズマ１１を被処理物Ｗに照射して被処理物Ｗをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、空間２に供給される混合ガス８の反応性ガス濃度をガス濃度検出手段１５にて検出し、その検出結果に基づいて制御部１４にて被処理物Ｗに照射されるプラズマ１１の性能の良否を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】２本の粘着ロール体に対して、１本の粘着テープが接触するタイプのクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】クリーンローラ装置１０は、ワーク表面の塵埃を吸着する第１の粘着ロール体４２Ａと、同じく第２の粘着ロール体４２Ｂと、第１の粘着ロール体４２Ａ、第２の粘着ロール体４２Ｂのスライドをガイドする第１のガイド機構９０Ａ、第２のガイド機構９０Ｂと、第１の粘着ロール体４２ＡをワークＷに接離する方向にスライドさせる第１のロール用アクチュエータ７１Ａと、粘着ロール体４２Ａ，４２Ｂに接触可能であり、それら粘着ロール体４２Ａ，４２Ｂに付着した塵埃を転写する粘着テープロール５３０を保持する第１のテープ保持部５３１と、第１のテープ保持部５３１および粘着テープロール５３０をワークＷに接離する方向にスライドさせる第１のテープ用アクチュエータ７０Ａと、モータ３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面が清浄な状態となされたマスクブランクス、または、転写マスクを製造することができるマスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法を提供し、また、ＡｒＦエキシマレーザ光以上の量子エネルギを有する露光光を用いる場合において好適なマスクブランクス、または、転写マスクを製造することができるマスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法を提供する。さらに、化学増幅型レジスト膜が成膜されたマスクブランクスの好適な製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上の薄膜２，３をスパッタリング法により成膜した後、この薄膜２，３の表面に電磁波を照射することによりこの薄膜２，３の表面に付着した有機物質を分解し、薄膜２，３の表面に純水を供給して湿式洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の処理品質を向上させつつ基板の処理コストを十分に低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽４から引き上げられる基板Ｗに気体供給ダクト６２から気体が供給され、基板Ｗの乾燥処理が行われる。気体供給ダクト６２は、主管１４１および２つの分岐配管１４２ａ，１４２ｂからなる配管１４０を介してドライエア発生装置１１０およびファンユニット１２０と接続されている。ドライエア発生装置１１０は分岐配管１４２ａを通して気体供給ダクト６２にドライエアを供給し、ファンユニット１２０は分岐配管１４２ｂを通して気体供給ダクト６２に大気を供給する。各分岐配管１４２ａ，１４２ｂには、制御バルブ１３０ａ，１３０ｂが介挿されている。制御バルブ１３０ａ，１３０ｂの開閉状態に応じてドライエアおよび大気のいずれか一方が気体供給ダクト６２に供給され、基板Ｗの乾燥処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】粘着ロールと粘着テープロールとの間に発生する回転抵抗を低減し、ワークをスムーズに搬送することが可能な除塵装置を提供すること。
【解決手段】ワーク２を搬送しながらワーク２の表面に付着した塵埃を除去する除塵装置１において、本体４と、本体４に対して、搬送されるワーク２の表面と水平方向となる横方向に沿って引き出し可能なロールユニット５と、を備え、ロールユニット５は、ワーク２の表面に付着している塵埃を吸着する粘着ロール７と、粘着ロール７に付着した塵埃を転写させるための粘着テープロール１５側に向かって、粘着ロール７を押し動かす押動部材８と、を有し、本体４は、粘着ロール７を回転駆動させる駆動モータ３２と、粘着テープロール１５を保持するためのテープ保持部１８と、押動部材８を駆動させる押動機構２８と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含んだ二酸化炭素を超臨界状態の洗浄剤として、この洗浄剤を洗浄チャンバー内に配された被洗浄物に接触させることにより、前記被洗浄物の洗浄を行う洗浄方法及び洗浄装置において、洗浄時間の短縮化を図ること。
【解決手段】界面活性剤と有機溶剤と超臨界状態の二酸化炭素を混合し、混合流体を被洗浄物に接触させて洗浄する洗浄方法において、前記混合を管内混合手段で行い、該管内混合手段の直後に被洗浄物を配置するとともに、前記混合流体においての重量割合は、二酸化炭素に占める有機溶剤の重量割合を２０％以下とし、かつ界面活性剤の重量比率を有機溶剤と略同重量としたことを特徴とする洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に付着した研磨剤や不純物を除去する洗浄工程において、ガラス基板の表面にキズをつけてしまうのを防止可能な洗浄用ブラシを提供すること。
【解決手段】この洗浄用ブラシ１は、被洗浄体を洗浄するための洗浄用ブラシであり、回転軸４を中心に回転する円筒形状のブラシ本体２と、ブラシ本体２の外周面上に配列された複数のブラシ片３とを具備する。各ブラシ片３は、短辺３ａと長辺３ｂとからなる長方形の先端面３ｄを有し、短辺３ａは、回転軸４に対して垂直な辺であり、長辺３ｂは、回転軸４に対して平行な辺であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＡベーパー乾燥を用いて乾燥工程を行う場合に、洗浄水を吸着して液体化したＩＰＡ溶液が、ガラス基板に接触したまま滞留するのを防止可能とする基板ホルダーを提供すること。
【解決手段】この基板ホルダー１０は、第１の斜面１２ａと第２の斜面１２ｂとから形成され第１の斜面１２ａと第２の斜面１２ｂとの間隔が徐々に狭くなるＶ溝１３によって、所定の厚みを有し面取り加工された基板２の下端部２１を支持する。基板２の下端部２１の下端面２２の両端部２４を第１の斜面１２ａ及び第２の斜面１２ｂによって支持したと共に、第１の斜面１２ａ及び第２の斜面１２ｂと、対向する基板２の各面取り加工面２３との間に隙間を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ロール部に吸収された液体を、迅速、且つ均一に吸引してロールの外部に排出すると共に、ロールの回転バランスが保持され、長期間に亘って、被洗浄面から均一に液体を除去、搾取、洗浄することができる耐久性に優れたロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロールはロール部及び台座を有し、台座は開口部が形成された本体部、及び本体部の両端に連接される継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂを有し、継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂは中空部が形成され、中空部は開口部と連通されてあり、本体部と継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂの接合部の近傍は、開口部の開口面積が、本体部の略中央部の開口面積より小となるよう徐変部が形成され、本体部の外周には流体導入溝部が形成されてあり、流体導入溝部には開口部に連通する孔部が開設されてあると共に、ロール部が形成され、ロール部は不織布からなる概円環状の複数のロール片が積層されている。 （もっと読む）

【課題】ロール部に吸収された液体を、迅速、且つ均一に吸引してロールの外部に排出すると共に、ロールの回転バランスが保持され、長期間に亘って、被洗浄面から均一に液体を除去、搾取、洗浄することができる耐久性に優れたロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロールはロール部及び台座を有し、台座は開口部が形成された本体部、及び本体部の両端に連接される継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂを有し、継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂは中空部が形成され、中空部は開口部と連通されてあり、本体部の外周には開口部に連通する孔部が開設されてあると共に、ロール部が形成され、ロール部は不織布からなる概円環状の複数のロール片が積層されると共に、内周に切欠き部が設けられたロール片を有し、切欠き部が本体部の長手方向に連なることにより複数の流体導入溝部が形成され、孔部のロール部側に流体導入溝部が位置するものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、センサで受光される真空紫外線の強度と、被照射物へ照射される真空紫外線の強度とを近似させる紫外線照射装置を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係る紫外線照射装置は、被照射物に対して真空紫外光を出射するエキシマランプと、この真空紫外光を受光すると共に光取込部を備えた光センサと、エキシマランプを取り囲む筐体と、からなる紫外線照射装置において、前記光取込部と前記エキシマランプとの間に、不活性ガスと酸素との混合ガスを吹き出すブロー管を有し、前記光取込部と前記エキシマランプとの距離をＹ１、その間の酸素濃度をＰ１とし、前記エキシマランプと前記被照射物との距離をＹ２、その間の酸素濃度をＰ２とするとき、以下の関係を満たすことを特徴とする。
０．８≦Ｙ２×Ｐ２／Ｙ１×Ｐ１≦１．２ （もっと読む）

【課題】 電子機器の基板製造における紫外線洗浄では紫外線照射時間の経過とともに被処理基板が加熱され電子部品の耐熱温度を超えてしまう問題がある。
【解決手段】 設定した洗浄処理時間と被処理基板に搭載される複数の部品の温度を測定し、各々の部品に対し上限温度、下限温度を設定することにより、複数部品の中で最も早く上限温度に到達した信号に対し低圧水銀ランプへの電力供給をオフにし、全ての部品温度が下限温度以下になった場合、低圧水銀ランプへの電力供給をオンにし、部品の耐熱温度を超えないよう所定の洗浄処理時間を満たすまで上記処理を自動で繰り返すことで、熱容量や光エネルギーの吸収率の違いにより各部品の温度上昇傾向が不明であっても、紫外線照射条件を設定することなく電子部品等の故障を起こさず最小の洗浄回数で自動処理が可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置構成で実施可能であり、微細パターンが形成されている基板をその微細パターンに悪影響を与えることなく短時間で洗浄するための基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】微細パターンが表面に形成された基板としてのウエハＷの洗浄処理を、ウエハＷの表面に所定の加工を施す処理チャンバからウエハＷの洗浄を行う洗浄チャンバへ搬送する搬送ステップと、洗浄チャンバ内においてウエハＷを所定温度に冷却する冷却ステップと、超流動体としての超流動ヘリウムをウエハＷの表面に供給し、ウエハＷの表面から超流動ヘリウムを流し出すことによって微細パターン内の汚染成分を押し流す超流動洗浄ステップにより行う。 （もっと読む）

ブラシローラ（５）をストリップ（２）の表面に押し付ける実押付け力が測定されることを特徴とする、通過するストリップ（２）上を転動するブラシローラ（５）によってストリップ鋳造装置で製造したストリップ（２）の表面をクリーニングするための方法。
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【課題】無電極ランプ１灯に対する負荷を減少させることができ、ランプの長寿命化や省電力化を実現する。
【解決手段】マグネトロン１３からマイクロ波を発生させ、このマイクロ波を筐体１４から同軸ケーブル１８を介して分配器２０に伝送する。分配器２０から同軸ケーブル２２ａ〜２２ｄを介してマイクロ波を分配し、整合器２４ａ〜２４ｄでインピーダンスの整合をそれぞれ行い、バルブ内に紫外線を放射させる放電媒体が封入された無電極ランプ２６が配置されたランプハウス２５からなる複数の紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄ内に放射する。無電極ランプ２６は、マイクロ波が放電媒体を励起させて紫外線を放射し、反射板２８１，２８２によりはランプハウス２５から、被照射体に照射させるようにした。共通のマグネトロン１３で紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄの無電極ランプ２６を励起させたことにより、ランプの長寿命化や省電力化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波給電式の複数の無電極ランプの中心軸が同一線上となるように配置する構成で紫外線を照射した場合でも、均一な配光分布を保持したまま照射エリアの拡大を実現する。
【解決手段】電磁シールド機能を有するランプハウス１１に、マグネトロン１３が発生するマイクロ波により紫外線を発光させる放電媒体が封入されている無電極ランプ１２を収納し、ランプハウス１１の下方から外部に紫外線を照射させるスクリーン２１を配置して紫外線照射部１０Ａを構成する。紫外線照射部１０Ａと同構成の紫外線照射部１０Ｂ〜１０Ｅの各無電極ランプ１２を、中心軸が同一線上となるように配置させることで照射エリアの拡大を図る。被照射体の照射エリアの配光が均一となるように、被照射体と紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｅの位置関係を調整する。 （もっと読む）

【課題】十分な水切り性能が得られると共に、鋼板の安定搬送ができ、しかも省スペース化が図れる鋼板の水切り装置を提供する。
【解決手段】鋼板１１の搬送方向に背面を向けて交差配置され、鋼板１１の上面１２の水１３を除去する平板状の水切り用ゴム１４を有する鋼板の水切り装置１０であり、水切り用ゴム１４は、その上側が上下方向に昇降可能に設けた吊持部材２１に垂下固定され、その下端が鋼板１１の搬送方向下流側に背面角部２５ａを有し、吊持部材２１を下降して水切り用ゴム１４を鋼板１１の上面１２に押付けた際に、その下部２６が湾曲してその最下角部２７が鋼板１１に接触するように、吊持部材２１の水切り用ゴム取付け基端位置Ｈ_Ｔから下端位置Ｈ_Ｂまでの水切り用ゴム１４の自由長さＨと、鋼板１１の上面高さ位置から下端位置Ｈ_Ｂまでの水切り用ゴム１４の突出長さＤとの比Ｄ／Ｈを、０．１以上０．３８以下とした。 （もっと読む）

【課題】表面処理装置において、被処理物の表面上での処理ガスの流れを調節する。
【解決手段】被処理物９を支持部２１にて処理領域に配置して支持する。第１処理ガス供給系６０Ａにて、処理ガスを被処理物９の相対的に内側の部分に供給する。第２処理ガス供給系６０Ｂにて、処理ガスを被処理物９の相対的に外周側の部分に供給する。第１処理ガス供給系６０Ａの処理ガスの供給流量と第２処理ガス供給系６０Ｂの処理ガスの供給流量を互いに連関させて調節する。好ましくは、第１処理ガス供給系６０Ａの供給流量を第２処理ガス供給系６０Ｂの供給流量より大きくする。 （もっと読む）