【課題】基板の表面から除去した異物を周囲に飛散させることがなく、確実に異物を捕捉することができ、基板表面から異物を除去した後の清浄な状態を維持して次の工程に進めることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板１００を搬送する搬送手段２０と、搬送された基板１００の表面に対して供給するエアの吹き付け角度が調整可能なエア吹き出し口３６を有するエアブロー部３０と、エアブロー部３０にエアを供給するエア供給部４０と、エアブロー部３０から吹きつけられたエアにより基板表面から除去された異物をエアと共に収集し、異物のみを捕捉する集塵部５０と、を具備し、エアブロー部３０の外表面の一部には、エア吹き出し口３６からのエアと異物とを集塵部５０へ誘導するための誘導溝が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保持ローラから異物が移って基板が汚染されることを抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、ほぼ円形の基板Ｗの周端面にその外周面を当接させることにより当該基板Ｗを挟持して保持する複数の保持ローラ２と、複数の保持ローラ２を回転させることによって、当該保持ローラ２に保持された基板Ｗを回転させる基板回転機構１５と、保持ローラ２を洗浄するためのローラ洗浄ブラシ４９と、複数の保持ローラ６に保持された基板Ｗの周縁部に複数の保持ローラ６とは異なる位置で当接し、当該基板Ｗの周縁部を洗浄するための周縁洗浄ブラシ３９とを含む。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板等のスクラブ洗浄に用いられるロールブラシが使用時間の増加に伴って経時劣化し、その洗浄能力が低下する問題がある。しかし、洗浄能力の低下の要因として従来考えられていたものとは異なる要因が見出された。
【解決手段】 ストッパーがブラシの両端をブラシ軸に押圧することによって、ブラシとブラシ軸との密着度が高まり、これらが空転し難くなって、スクラブ洗浄装置が高い洗浄能力を長期間維持することができる。また、ブラシの寿命を延ばすこともできる。 （もっと読む）

【課題】被処理物を表面処理する処理槽から処理ガスが漏れるのを防止し、かつ処理空間での処理ガスの流れを安定化する。
【解決手段】被処理物９を搬送手段２０によって搬入開口１３から処理槽１０の内部に搬入し、処理空間１９に配置する。供給系３０から処理ガスを処理空間１９に供給し、被処理物９を表面処理する。その後、被処理物９を搬出開口１４から搬出する。排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。このガス排出によって外部のガスが開口１３，１４を通して処理槽１０の内部に流入する。この流入ガスの平均流速が、０．１ｍ／ｓｅｃ以上、かつ流入ガスが処理空間１９に達する大きさ未満になるよう設定する。 （もっと読む）

【課題】生産性を向上させることが可能な表面処理装置を提供すること。
【解決手段】放電用ガスを流通させる放電管と、前記放電管を流通する前記放電用ガスを励起させる電圧を印加可能な電源電極及び接地電極と、前記放電管の端部に接続され、前記電圧を印加されて励起した前記放電用ガスを対象物の処理領域に向けて噴射するノズルとを有し、前記ノズルは、前記処理領域の配置に応じたスポット状の複数の噴射口及びスリット状の噴射口のうち少なくとも一方を有している。 （もっと読む）

【課題】表面処理用の処理槽に設けた、被処理物の出し入れ用の開口でのガスの流れを安定させる。
【解決手段】被処理物９を搬送方向に沿って搬入開口１３から処理槽１０の内部に搬入し、処理空間１９に配置する。供給系３０から処理ガスを処理空間１９に供給し、被処理物９を表面処理する。その後、被処理物９を搬出開口１４から搬出する。排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。開口１３，１４を、互いに上記搬送方向と直交する対向方向に対向距離Ｄを隔てて対向する一対の整流面１７，１８によって画成する。開口１３，１４の上記搬送方向に沿う奥行きＬを、対向距離Ｄの２倍以上とし、好ましくは６倍以上とする。 （もっと読む）

【課題】表面処理用ノズル装置から処理ガスが漏洩するのを防止する。
【解決手段】ノズル装置３の板状の供給溝形成部材１１の主面１１ｆに処理ガス供給溝４０を形成し、主面１１ｆを被覆部材１２で覆い、処理ガス供給溝４０に処理ガスの供給手段４を接続する。開口溝部４２を供給溝形成部材１１の主面１１ｆと交差する先端面に開口させる。更に主面１１ｆ又は被覆部材１２の被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側の部分に外側溝８０を形成し、外側溝８０をガス吸引手段５に接続する。 （もっと読む）

【課題】放電ランプから出射される紫外線の処理対象物への到達効率を可及的に向上させる。
【解決手段】設定搬送経路に沿って搬送される処理対象物ＴＴに向けて紫外線を照射する放電ランプ４と、前記設定搬送経路における前記放電ランプ４と前記処理対象物ＴＴとの間の空間にガスを供給するガス供給手段ＧＳとが設けられ、前記ガス供給手段ＧＳは、前記ガスの流路における前記放電ランプ４及び前記設定搬送経路の下流側に前記ガスを排出する排出部ＧＥが備えられて構成された紫外線照射処理装置において、前記設定搬送経路の入口ＧＩ又は出口ＧＯから入った外部からの空気流が前記放電ランプ４の前記処理対象物ＴＴに対する紫外線照射領域へ侵入するのを妨げる部材ＳＥが備えられている。 （もっと読む）

【課題】エキシマランプの反りを抑制する移動制限部材を備え、被照射物に対して均一な紫外線照射を維持しつつ、放電容器の電極部からのパーティクルの落下を防止する。
【解決手段】金属製の筐体２と、筐体２の下方側に筐体２と離間して保持された、放電容器３１の外面に電極部３２が配設され、放電容器３１の筐体側内面に紫外線反射膜を備えたエキシマランプ３とを有し、エキシマランプ３から放射される紫外線を被処理物７に照射するエキシマランプ装置において、放電容器３１の一方の端部は筐体２に固定保持され、他方の端部は長手方向へ移動自在に筐体２に保持され、筐体２と筐体２の下方に位置するエキシマランプ３との間に、筐体２に対するエキシマランプ３の上方への移動を制限する移動制限体５を備え、移動制限体５はエキシマランプ３の長手方向に回転可能に設けられた回転コロ５１を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各種の開口部を有する洗浄対象物に付着あるいは固着した粉塵や異物を効率よく洗浄する。
【解決手段】洗浄槽７内の空気を吸引している状態で洗浄媒体加速ノズル１１から高速気流を発生し、薄片の洗浄媒体６を飛翔させて洗浄対象物５の開口部２４に飛翔した洗浄媒体６の飛翔方向を洗浄媒体飛翔方向制御手段２５で切り替えて洗浄媒体６を洗浄対象物５の開口部２４側面に衝突させて洗浄し、洗浄対象物５の開口部２４内面を確実に洗浄する。この洗浄媒体飛翔方向制御手段２５に洗浄対象物５の開口部２４内面に向かう気流を噴射する噴射口２６を設けて飛翔した洗浄媒体６を開口部２４内面方向に加速する。 （もっと読む）

【課題】 高速搬送される大型ガラス基板の搬送速度を落とさず、乾燥するエアの使用量を低減した基板乾燥装置を提供する。
【解決手段】 大型ガラス基板１０が搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなる台形状のフード２０と、大型ガラス基板１０の両面に乾燥エアを噴射するエアナイフ３０−１、３０−２と、大型ガラス基板１０の片面に位置しイオンを発生するイオナイザー４０とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置、基板搬送方法及びクリーニング方法において、ガラス基板の破損を防ぎながら、ガラス基板を確実に吸着保持する。
【解決手段】ガラス基板１０を浮上させる浮上ステージ２と、ガラス基板１０を吸着保持する吸着保持部３ａと、ガラス基板１０を吸着保持部３ａに対し押付ける吸着補助部４と、を備える基板搬送装置１において、吸着補助部４、吸着保持部３ａ、及び、ガラス基板１０、のうち少なくとも１つのクリーニングを行うクリーニング機構５を更に備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、絶縁物で特にプリント基板の表面改質に係り、主に微小領域に対する処理対象の表面に付着する微小な有機物除去による洗浄および親水性向上を目的とし、微小放電プラズマを用いた、薬品・溶剤レスのドライ処理によりパターン印刷部のみの表面改質を行ない、製作工程の低減、環境面負荷低減、製品の歩留まり向上ならびに工業的付加価値を高める放電表面処理装置及び放電表面処理方法に関する。
【解決手段】 基板を可動ステージ上に載置し、少なくとも一方が誘電体で覆われた高電圧電極と接地電極を有する微細放電電極と基板とを相対位置合せし、高電圧電極と接地電極との間に高電圧を印加するとともに、微細放電電極に放電ガスを供給することにより、微細放電電極に微細な非平衡放電プラズマを発生させ、前記プラズマのなかで生成される活性種を被処理基板に対して吹きつけながら、可動ステージにより基板をＸＹ面内でＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、活性種を基板の表面に次々に作用させて該表面を改質する。 （もっと読む）

【課題】除塵対象の片側のみ除塵する除塵装置において、除塵ヘッドに対向する簡易な構成の受け部を追加し、隣接する除塵対象間の隙間を通過する噴射室からの洗浄ガスの流れ方向を変えた後に吸引室で吸引するようにして、不要な塵埃の飛散を低減する除塵装置を提供する。
【解決手段】除塵ヘッド１００に対向するように配置され、噴射室１１１の噴射口１１１ａから噴射された洗浄ガスを受けて方向を転換させる受け部２００を備え、隣接する二個の除塵対象１０間の隙間に向けて噴射室１１１の噴射口１１１ａから洗浄ガスを噴射し、受け部２００で方向を転換させた洗浄ガスを上流側吸引室１１２の吸引口１１２ａおよび下流側吸引室１１３の吸引口１１３ａから吸引する除塵装置１とした。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板を流体によって処理する場合、流体の圧力で基板の搬送状態が不安定になるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を搬送しながら流体によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバ３と、チャンバ内に設けられ基板を所定方向に搬送する支持ローラ１４及び駆動ローラ１７と、支持ローラ１４と駆動ローラ１７によって搬送される基板の板面に流体を噴射供給するノズル体６２と、搬送される基板を挟んでノズル体から噴射される流体の噴射方向に対して傾斜して配置され基板の先端が流体の流路に到達する前にノズル体から噴射された流体の一部をその傾斜角度に応じて反射させ、残りを透過させて減衰させる減衰制御部材６５を具備する。 （もっと読む）

【課題】処理範囲を大面積化することができると共に、均一な処理を行うことができ、しかも処理対象に応じて容易に設計変更が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】一端側の開口からプラズマ生成用ガスＧが流入すると共に他端側の開口から活性化されたプラズマ生成用ガスＧが流出する複数の貫通孔２と、各貫通孔２内でそれぞれ放電を発生させるための一対の電極３，４とが設けられた平板状の絶縁基材１からなる反応器Ｒを具備する。上記一対の電極３、４は層状に形成されて上記貫通孔２におけるプラズマ生成用ガスＧの流通方向で対向して両方とも絶縁基材１に埋設される。上記貫通孔２におけるプラズマ生成用ガスＧの流通方向において下流側の電極３の周端部を上流側の電極４の周端部よりも外側に突出させる。 （もっと読む）

【課題】人手によるハンドリング作業を軽減し、ハンドリングによる汚染を減らした洗浄物の受渡し機構を提供する。
【解決手段】被洗浄物１５を保持する内カゴ１０と、サイクリックな循環過程により、セットされた内カゴ１０を搬送する循環移動台２０と、循環移動台２０により搬送された内カゴ１０を、一時仮置きする置き台３０−０〜４と、内カゴを上下に移動させる昇降台４０と、昇降台４０の内カゴ１０を受け取り搬送する搬送治具５０とを有する。 （もっと読む）

【課題】装置を複雑化、大型化させることなく、ウエハのエッジに付着した異物をていねいに洗い落とす。
【解決手段】洗浄ブラシ７と９の駆動機構は、プッシュピン５、プッシュリング６、回転アーム８などから構成され、共通化されている。プッシュリング６が下降して、最下点に位置しているときには、バランスウエイト１０は、ケーシング２の傾斜面１６に当接しているため、回転アーム８の回転が抑止されている。プッシュリング６が上昇すると、バランスウェイト１０はケーシング２の傾斜面１６から離れるようになる。すると、バランスウエイト１０に加えられる重力により、回転アーム８が紙面時計回りに回転する。この結果、洗浄ブラシ７がウエハＷの下面の周縁部に接触するとともに、洗浄ブラシ９がウエハＷの端面部に接触するようになる。 （もっと読む）

【課題】ランプの通算点灯時間に応じて、適切な初期点灯電力で点灯させることができる紫外線照射装置及び該装置の制御方法を提供すること。
【解決手段】エキシマランプ１に設けられたＩＣタグ１ａに、該ランプの点灯時間の積算値である通算点灯時間、点灯履歴情報などの情報に加え、初期電圧規定値、初期周波数規定値、定常電圧規定値、定常周波数規定値等の該ランプに固有の電気的特性値を記録しておく。装置を起動する際、制御部４は、ＩＣタグ１ａから上記情報を読み取り、ランプの通算点灯時間と該ランプに固有の電気的特性値に基づき、初期点灯時にランプに印加する電圧、周波数などを設定してランプを初期点灯させる。初期点灯後、定常点灯に移行させ、ランプ１へ印加する電力の定電力制御を行なう。 （もっと読む）

【課題】洗浄力を向上させたバキュームクリーナを得る。
【解決手段】上搬送ロール２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ及び下搬送ロール２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄはワーク２８を挟んで搬送する。支持部１６ａ，１６ｂは上搬送ロール２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ及び下搬送ロール２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄを支持する。バイブレータ３４ａ，３４ｂは、それぞれ支持部１６ａ，１６ｂに振動を与える。上搬送ロール２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ及び下搬送ロール２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄがワーク２８を挟み、かつバイブレータ３４ａ，３４ｂが支持部部１６ａ，１６ｂに振動を与えている状態で、バキュームブロック２０ａ，２０ｂ，２０ｃはワーク２８に付着したゴミを吸引除去する。 （もっと読む）