【課題】基板の厚みにかかわらず、その少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】ブラシ１６は、略円板状の胴部２７と、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第１周端面当接部２８と、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第２周端面当接部７２とを備えている。胴部２７の先端側の端面における第１周端面当接部２８の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第１洗浄面２９Ａとなっている。第１周端面当接部２８の側面が、基板の周端面に当接する第２洗浄面２９Ｂとなっている。第１周端面当接部２８の大径側端面における第２周端面当接部７２の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第３洗浄面７４Ａとなっている。第２周端面当接部７２の側面が、基板の周端面に当接する第４洗浄面７４Ｂとなっている。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦ露光によってＭｏＳｉ遮光膜上に発生するＨＡＺＥの発生を抑制する抑制手段の提供である。
【解決手段】ＭｏＳｉからなる遮光膜を備えるフォトマスクの遮光部に発生するアンモニアまたは有機物からなるＨＡＺＥを、ＡｒＦ露光前後にＡｒＦランプからの光を照射して分解、除去することを特長とするフォトマスクのＨＡＺＥ抑制方法、及びＭｏＳｉを含む遮光膜を備えるフォトマスクの表裏に、ＡｒＦランプからの光を照射する機構を備えたことを特徴とするフォトマスクの保管庫あるいは露光装置である。 （もっと読む）

【課題】清掃対象物を押圧する押圧部材の形状を変更可能な清掃装置及び清掃方法を提供する。
【解決手段】清掃装置は、外力が加えられることにより変形可能な押圧部材１０ａと、押圧部材１０ａを挟んで保持する一対の保持部２１ａ、２２ａと、保持部２１ａ、２２ａから突出した押圧部材１０ａの突出部１１ａが変形するように、押圧部材１０ａを挟む保持部２１ａ、２２ａの挟持圧力を変更可能な変更機構と、押圧部材１０ａの突出部１１ａが清掃対象物を押圧するように保持部２１ａ、２２ａを清掃対象物に向けて押す押圧機構と、押圧部材１０ａの突出部１１ａが清掃対象物を押圧した状態で清掃対象物を擦るように保持部２１ａ、２２ａを揺動する揺動機構と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】供給管からの反応ガスを吹出方向と交差する方向に均一に分布させて吹き出す表面処理用ノズル装置を提供する。
【解決手段】ノズル本体１０の耐反応ガス材料製の部材１２内に導入流路２０を形成し、その両端に反応ガスの供給管３をそれぞれ連ねる。複数の分岐流路２１を導入通路２０から吹出方向の先端側に延ばし拡散室２２に連ねる。拡散室２２内に整流板３０を設け、拡散室２２を整流板３０より基端側の室部２３と先端側の室部２５とに仕切る。整流板３０の両側の連通路２４にて室部２３，２５を連通する。好ましくは、支持部材４０にて整流板３０を支持し、室部２３内にスペーサ５０を設ける。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に分解残渣が再付着することを防止または抑制することができ、しかも、被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の光処理装置は、一面に開口を有する筐体と、この筐体の開口に設けられた紫外線透過性を有する窓板材と、前記筐体内に配置されたエキシマランプとを具えてなり、前記筐体は、当該筐体内に不活性ガスよりなる洗浄用ガスを供給するためのガス供給口を有し、前記窓板材は、前記筐体内の洗浄用ガスを当該窓板材に対向して配置された被処理物に向かって噴出するガス噴出口を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、洗浄品質を維持しつつ短いタクトタイムで洗浄を行う。
【解決手段】第一洗浄布１２を基板に押し付ける第一押圧子１１と、第一洗浄布１２の新しい部分を第一押圧子１１に供給する第一供給手段１３と、第一押圧子１１を基板１に対して相対的に移動させることにより第一洗浄布１２を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段３とを備える基板洗浄装置３０であって、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける第一押付部２５と、第一押付部２５の前方に液体を吐出する第一吐出口１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明では、ロールブラシを用いた洗浄でも機能性膜表面に傷や剥離を発生させないロールブラシ及びそれを用いた洗浄方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に成膜された膜付きガラス板の少なくとも膜表面と４０〜６０ｋＰａの圧力で洗浄用ロールブラシのブラシ毛を接触させる。 （もっと読む）

【課題】本発明では、ブラシを用いた洗浄でも機能性膜表面に傷や剥離を発生させない洗浄方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に成膜された膜付きガラス板の少なくとも膜表面に、該膜面に対し平行方向に４００〜６００Ｈｚで往復振動する洗浄用ブラシ毛を接触させて洗浄すること。 （もっと読む）

【課題】 全長が１８００ｍｍ以上ある大型のエキシマランプ４０を光源に備えていても、中間部と端部とで一定の水準の処理効果を保つことができるランプユニット２０を提供すること。
【解決手段】 放電容器４１における上壁面４２と下壁面４３との外表面に電極４６、４７が設けられると共に放電容器内にキセノンガスが封入されてなり、当該放電容器内にエキシマ放電を発生させるエキシマランプ４０と、
エキシマランプ４０の両端をランプ保持体２６によって支持して筐体２１内にエキシマランプ４０を配置したランプユニットにおいて、
前記エキシマランプ４０の長手方向の中間部下方に中間支持体５０を配置し、エキシマランプ４０を下側から支持したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 容易な方法にて吸引ノズルの吸引孔および吸引断面積を調整できること
【解決手段】 スリット形状３１と刳り抜き穴３２をもつスリット板３０と、刳り抜き穴２１を持つパッキン板２０を重ね合わせることにより形成される各吸引孔はスリット板３０の板厚ｔとスリット幅３３で構成されるので調整が不要となり、吸引断面積は各吸引孔の合計により算出される。 （もっと読む）

【課題】検査対象基板上の異物を確実に除去することができる基板検査装置の提供。
【解決手段】基板検査装置１は、マスク１１６、複数の粘着性粒子が離脱可能に設けられた剥離シート２０、および粘着部材２２が装着されるマスクホルダ１１７と、マスクホルダ１１７に対してマニピュレータ（例えばナノピンセット１０）と検出部４１とが設けられた検出ヘッド１１３を相対移動させる移動手段である鉛直方向駆動機構１２３および水平方向駆動機構１２４と、制御装置２００を備えている。制御装置２００は、剥離シート２０に設けられた複数の微小吸着粒子のいずれか一つをマニピュレータで保持して離脱させ、微小吸着粒子を保持したマニピュレータを異物の位置へ移動し、異物を粘着性粒子に付着させてマスク１１６から除去し、異物が付着した微小吸着粒子を粘着部材２２に付着させて移送する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に存在する有機物等の汚染物を高い効率で除去することができると共に、被処理物の表面の濡れ性を向上させることができ、被処理物の表面に高い密着性を有する薄膜を形成することができるドライ洗浄方法およびドライ洗浄装置を提供する。
【解決手段】被処理物１に大気圧プラズマを作用させることにより洗浄処理する第１洗浄工程と、この第１洗浄工程によって洗浄処理された被処理物１にエキシマランプから放射されたエキシマ光を照射することにより洗浄処理する第２洗浄工程とを有し、搬送される被処理物１に対して被処理物１の搬送方向の上流位置に大気圧プラズマ装置２０を配置し、被処理物１の搬送方向の下流位置にエキシマ光照射装置３０を配置する。 （もっと読む）

【課題】 外装体と洗浄治具本体の間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを防止すると共に、洗浄治具自体の反りや破損を防止することができる洗浄治具を提供することを課題とする。
【解決手段】 薄板を洗浄する際に用いられる洗浄治具であって、薄板が挿入可能とするように、第１の基部と第１の枠部により設けられる第１の収容部を有し、第１の収容部底面に第１の貫通孔が設けられている第１の外装体と、第２の基部と第２の枠部により設けられる第２の収容部を有し、第２の収容部底面に第２の貫通孔が設けられ、第２の収容部底面の４隅に第２の注入排出孔が設けられている第２の外装体と、を備え、第１の枠部が第２の収容部内に嵌め込めるようになっており、第１の枠部の４隅に第１の注入排出孔が第２の注入排出孔と向かい合う位置に設けられ、第１の注入排出孔が第１の収容部と連通していることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの大型化に伴う撓みによる洗浄ムラを解消した、とくにフォトマスクの中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる洗浄ブラシを用いた回転式フォトマスク洗浄装置の提供。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する装置であって、少なくともフォトマスク保持部と、フォトマスクを保持しつつ回転させる回転機構と、回転機構制御部と、アームに取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ位置制御部を具備していることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】製造工程で基板表面に付着した有機異物を、屑を残存させることなく、かつ、基板表面を損傷させることなく良好に除去できる基板用異物除去装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板ＢＳ表面の観察によって有機異物αを特定し、基板用異物除去装置と基板ＢＳ上の有機異物αとを位置合わせする。次いで、光触媒テープＰＨＴを降下させて有機異物αに対して光触媒テープＰＨＴの光触媒層を圧着させる。次いで、光照射手段４００を動作させて、光触媒テープＰＨＴの有機異物αに圧着されている面の反対側から光を照射する。光触媒が光を吸収することで、有機異物αを光酸化し、有機異物αが分解・除去され、異物除去を完了する。 （もっと読む）

【課題】ワークを搭載しワーク加工装置に搬入されるパレットの底面に付着するゴミを確実に取り除く。
【解決手段】パレット清掃装置４０１では、加工対象のワーク１０３を搭載したパレットが水平搬送されて、加工用テーブル２０３の上方に位置付けられる。ブラシ体４０２は、加工用テーブル２０３から上下に延びる空間領域２０４よりも外側で、かつ、パレット１０２の底面１０４よりも下方に設けられる。ブラシ体４０２は、回転軸４０３を有し、この回転軸４０３の軸回りに回転自在となっている。回転軸４０３は、パレット１０２の底面１０４に平行かつパレット１０２の搬送方向に直角になる向きに向いている。ブラシ体４０２は、パレット１０２の底面１０４に接触する部分がパレット１０２の移動方向とは反対の方向に移動するよう回転する。 （もっと読む）

【課題】 基板の周端部の傾斜部を含めて確実に洗浄や研磨の処理を実施することができるばかりか支持手段も複雑でなく自身の耐久性にも優れた処理手段を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を支持する基板支持手段と、所定の径を有するとともに先端に形成した中心に凹部を形成する平面を処理部としたＰＶＡスポンジからなる処理手段と、基板支持手段に支持させた基板の軸線に対してその処理手段をその軸線が直角になるように処理部を基板の周縁部に向けて所定位置に支持する処理手段の支持手段と、処理手段の支持手段に付設されて処理手段の回転手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】被処理物をステージ兼接地電極の固体誘電体層として代用するプラズマ処理装置において、空気の処理空間への微量混入を防止する。
【解決手段】第１ステージ部２１の第１金属表面２１ａを被処理物９にて覆う。第２ステージ部２２の固体誘電体層２５の内側誘電部２６を被処理物９の外周部９ｅにて覆う。処理ヘッド１０をステージ２０に対し相対移動させながら、吹き出しノズル１５から処理ガスを吹き出し、電極１１とステージ２０との間に電界を印加する。ステージ２０には、内側誘電部２６の表面から延びてステージ２０の処理ヘッド１０と対向する側以外の面へ抜ける通気孔２９を設ける。好ましくは、第１ステージ部２１と第２ステージ部２２との対向面どうし間に間隙を形成し、これを通気孔２９とする。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）