【課題】金属帯表面の微小異物が金属帯へ圧入されることを防止し表面品質に優れた金属帯が圧延できる連続冷間圧延設備とその運転方法を提供する。
【解決手段】圧延機入側に連続圧延のための溶接機１と入側ルーパー３を配置し、この入側ルーパー３と圧延機４の間に金属帯の洗浄装置５を設置した連続冷間圧延設備。また、金属帯１０を圧延機入側にある連続圧延のための溶接機１を通過させた後、入側ルーパー３へ導き、次いで、入側ルーパー３と圧延機４の間に設置した金属帯の洗浄装置５により高圧水、高圧エアー、圧延液の高圧吹付け、ブラシのいずれかにより、又は２種以上により金属帯を洗浄して、金属帯表面に付着した微小異物を除去するようにした連続冷間圧延設備の運転方法。 （もっと読む）

【課題】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に付着している汚れを効果的に除去する。
【解決手段】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に 100度Ｃ以下の湿り飽和蒸気を接触させて汚れを膨潤させているが、このとき、タイヤ加硫モールド12が、カーボンブラックのみからなる充填材、または、少なくともシリカからなる充填材が配合されているゴム組成物を用いた未加硫タイヤを加硫するモールドであると、前者では汚れが比較的膨潤し易いため、型付け面13に湿り飽和蒸気を 100秒以上接触させ、後者では比較的膨潤し難いため、 240秒以上接触させる。 （もっと読む）

【課題】基板上の処理液の温度をより適正に保ちながら処理を進めることができ、しかも、装置構成を簡単、かつ安価とする。
【解決手段】エッチング装置１０は基板Ｓを水平姿勢で搬送しながらその上面にエッチング液を供給するものである。このエッチング装置１０は、基板Ｓのうちその幅方向両端部分であって、かつ所定のパターン形成領域よりも外側の領域をローラ２６により支持した状態で基板Ｓを搬送するローラコンベア１６と、前記ローラ２６による基板Ｓの支持位置よりも幅方向内側の位置でエッチング液と同温度の流体（エッチング液）を噴出することによりその流体圧により基板Ｓをその下側から支持する流体圧支持装置１７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】天板に上部開口及びエア抜き口を有するコンテナ容器の洗浄乾燥装置及び方法において、エア抜き口のノズル部周辺を含めた自動洗浄を可能とすると共に、装置自体の配置スペースを抑え、かつコンテナ容器の洗浄及び乾燥を効率良く行う。
【解決手段】洗浄乾燥装置１０は、コンテナ容器１内に進入して温水又はスチームを多方向に噴射しつつ回転するメインノズル１７と、エア抜き口７の上方からそのノズル部７ａに温水を噴射する複数のサブノズル３４とを備え、各ノズル１７，３４から温水を噴射してコンテナ容器１内及びエア抜き口７を洗浄した後、前記メインノズル１７からスチームを噴射して前記コンテナ容器１内を昇温させると共に、前記メインノズル１７からのスチーム噴射により昇温した前記コンテナ容器１内に除菌エアを送入して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】吐出むらを防止し易く、しかも組立性やメンテナンス性に優れたノズルを提供する。
【解決手段】スリットノズル２０は、第１，第２の一対のパーツ３２ａ，３２ｂを、これらの対向面３４ａ，３４ｂの間に隙間を形成した状態で重ね合わせ、この隙間によりスリット状の吐出口Ｄとこれに通じる扁平は流路Ｆを形成した構成となっている。このノズル２０の前記隙間は、第２パーツ３２ｂの対向面３４ｂに複数の突起３３が設けられ、当該突起３３が第１パーツ３２ａの対向面３４ａに当接する状態で両パーツ３２ａ，３２ｂが締結されることにより形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の生産性をより高める。
【解決手段】基板Ｓを搬送しながら処理を施す第１〜第３の３つの処理部１２〜１４が「コ」字形に連結されてなる基板処理装置１０である。第１処理部１２は、基板Ｓを水平姿勢で搬送しながら薬液によるパドル処理を実施する。第２処理部１３は、第１処理部１２から水平姿勢で基板を受け入れ、この基板Ｓを第１処理部１２における搬送方向と直交する方向に傾斜させる姿勢変換機構３４と、これにより変換された基板Ｓの姿勢を維持しつつ当該基板Ｓを勾配に沿って搬送する搬送ローラ３３等を備える。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の清浄度を低下させることなく、仕上げ精密洗浄工程をインラインで行えるトンネル型洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】中空通路26と、この中空通路を貫通する状態で設けられ、中空通路を通じて洗浄対象物を搬送する搬送装置8と、中空通路内の入口部側に配置され、搬送装置によって搬送される洗浄対象物に付着している付着物を洗浄除去する洗浄装置3，4と、洗浄装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、洗浄された洗浄対象物の水切りを行う水切装置5と、水切装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、水切りされた洗浄対象物を加熱乾燥する乾燥装置6と、乾燥装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、乾燥された洗浄対象物を冷却する冷却装置7とを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に対して良好に洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】薬液ユニット１０は、基板Ｗの薬液処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット６０は、薬液ユニット１０により薬液が供給された基板Ｗにマイクロバブル水を供給して、マイクロバブル水による洗浄処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット６０は、主として、複数の上側ノズル６１と、複数の下側ノズル６２と、液ナイフ６６と、貯留槽２０と、マイクロバブル発生部２１と、を備えている。これにより、薬液処理後の基板Ｗにマイクロバブル水を供給することができる。そのため、薬液処理において基板に付着した薬液をマイクロバブル水により迅速に置換することができ、洗浄処理に使用される処理液の量を低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】氷の微粒子を含む処理液を用いて基板の洗浄処理を行う場合において、処理むらを生じることなく均一な基板処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。
【解決手段】マイクロバブルを多量に含有し氷の微粒子を含む処理液を貯留する貯留槽１４と、処理液中で氷の微粒子を生成する製氷ユニット１６と、処理液中でマイクロバブルを発生させるバブル発生ユニット１８と、マイクロバブルを含有し氷の微粒子を含む処理液を基板Ｗの主面へ供給して基板の主面を洗浄する基板洗浄部１０と、貯液槽１４から基板洗浄部１０へマイクロバブルを含有し氷の微粒子を含む処理液を供給する手段とを備えて装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】筐体間の隙間からの処理液流出を防止することができる処理液供給装置を提供する。
【解決手段】処理液供給ノズル１は、所定間隔の隙間２を隔てて上下に対向配置された上部筐体１０および下部筐体２０を備える。上部筐体１０および下部筐体２０のそれぞれの側壁面には処理液供給部１２，２２および処理液排出部１５，２５が付設されている。処理液供給部１２，２２が隙間２の一方側から処理液を供給して処理液排出部１５，２５が他方側から吸引することによって隙間２に処理液流が形成され、ガラス基板ＧＳはその隙間２中を搬送される。下部筐体２０の上面２１には、ガラス基板ＧＳの先端部が支持コロ５０に接触して跳ね上がりが生じた場合であっても、隙間２の基板入口側に形成された処理液のメニスカスを維持できるようなピッチにて複数の支持コロ５０が配列されている。 （もっと読む）

【課題】対面する建設用軽量仮設機材の一つであるパイプ製建枠における構成パイプの表側又は裏側の片面側外周面の湾曲面全体に対し常時連続して高圧水を噴出照射してその洗浄効率を高揚する回転ノズルヘッドの提供と、この回転ノズルヘッドを用いて建枠の効率的洗浄をなす建枠洗浄システムを提供する。
【解決手段】高圧水の供給を受けて軸を介し水平回転する回転ノズルヘッドの本体内に、対面する建枠構成パイプの片面側外周面における頂面とその周辺部分の湾曲面の範囲に対し直角方向に高圧水を照射する複数の垂直ノズルと，更にその外側側面部分の湾曲面の範囲に対し高圧水を照射する複数の内向き傾斜ノズルとを夫々適宜角度を配し同心円状に配設せしめる。この回転ノズルヘッドを備えた回転ガンを産業用ロボットに保持させ、それを設定プログラムに従って建枠の表裏いずれか片面側外面に沿って移動させつつ高圧水噴射で狙い撃ち洗浄させる。 （もっと読む）

【課題】マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を使用する基板処理装置および基板処理方法において、基板に対してマイクロバブルまたはナノバブルを効果的に作用させることができる技術を提供する。
【解決手段】マイクロバブル洗浄処理部４０は、圧送される洗浄液中に注入する窒素ガスの流量を調節することにより、洗浄液中に含まれるマイクロバブルのサイズを調節することができる。このため、除去対象となるパーティクルのサイズに応じて最適なサイズのマイクロバブルを多量に供給することができ、基板に対してマイクロバブルを効果的に作用させることができる。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を避け、レジストの分離・回収を効率的に行なうことができるレジスト剥離・回収システム、該レジスト剥離・回収システムに用いられるレジスト分離器およびレジスト回収槽を提供する。
【解決手段】レジストの分離・回収システムの構成として、搬送中の帯状の製品からレジストを分離するために剥離液が注入され、かつ製品が剥離液に浸漬されるように構成された剥離液槽、または搬送中の個々の製品からレジストを分離するために剥離液が注入され、個々の製品を搬送する外部駆動のローラコンベアを内部に配置され、かつ製品が剥離液に浸漬されるように構成された剥離液槽と、剥離液槽で製品から分離されたレジストおよび剥離液の混合体が流入され、流入したレジストおよび剥離液を分離するレジスト分離器と、レジスト分離器から分離された、多少の剥離液を伴ったレジストが流入され、流入したレジストから剥離液を分離してレジストを回収するレジスト回収槽と、を設ける。 （もっと読む）

本発明の主題は、容器（１）の処理、特に、瓶（１）の内部洗浄のための方法及び装置である。その際、少なくとも、スプレー装置（２）は、容器内部を、殺菌剤/洗浄剤（３、３′）を噴出させる。本発明によれば、スプレー装置（２）は、主として、容器内部で、容器底（１a）の近傍にまで進入する。
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【課題】大型の基板を高い洗浄力で均一に洗浄する。
【解決手段】上ブラシ２０は、回転軸２１を有し、モータ２２の駆動により回転する。軸受ブロック２３ａ，２３ｂは、上ブラシ２０の回転軸２１を回転可能に支持する。ガイド２４ａ，２４ｂは、軸受ブロック２３ａ，２３ｂを回転軸２１の軸方向へ案内する。上ブラシ２０を回転軸２１の軸方向へ移動可能に保持しながら回転するので、回転前に上ブラシ２０にたわみが発生していても、回転中に上ブラシ２０が回転軸２１の軸方向へ変位して、上ブラシ２０のたわみが解消される。従って、回転軸２１の軸振れが防止され、上ブラシ２０が基板１に接触する圧力が一定になる。 （もっと読む）

【課題】所定の角度で傾斜して搬送される基板が背面を支持した支持ローラから浮き上がるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバ３と、チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラ１４と、背面が支持ローラによって支持された基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて基板を所定方向に搬送する駆動ローラ１７と、基板の傾斜方向上側の前面に処理液を噴射するノズル体６２と、搬送される基板の背面に対向するチャンバの後壁内面に設けられノズル体から噴射されてチャンバの後壁内面に衝突して反射した処理液が基板の背面に当たるのを防止する液戻り防止部材６５を具備する。 （もっと読む）

簡単に構築され、かつその溢水室が迅速に充填および再び排出できる、清掃すべき工作物（１９４）を収容するための溢水室（１１８）と、溢水室を液状の清掃手段で溢水させるための溢水装置とを有する清掃装置（１００）を提供するために、溢水室が清掃手段リザーバ（１０４）と接続可能であり、かつ溢水装置が、溢水室内の圧力を減少させるための送風機（１４２）を有するので、溢水室内の減少された圧力に基づいて、清掃手段が清掃手段リザーバから溢水室内へ吸い込まれることが、提案される。
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【課題】所定の角度で傾斜して搬送される基板を乾燥処理する際、基板が背面を支持した支持ローラから浮き上がるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバと、チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラと、背面が支持ローラによって支持された基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、基板の傾斜方向上側の前面と下側の背面との高さ方向ほぼ全長にわたって対向して配置され基板の搬送方向上流側に向かって気体を噴射するエアーナイフ６１と、基板の前面のエアーナイフよりも基板の搬送方向上流側に前面と対向して設けられエアーナイフから噴射される気体が基板の前面に沿って流れるようガイドする前面整流板６４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
人体への影響、環境への影響等を与え得る薬剤を用いることなく洗浄対象物を十分に洗浄でき、洗浄対象物を洗浄した際の使用後水を再利用出来る洗浄処理システム等を提供する。
【解決手段】
洗浄対象物を洗浄処理するための洗浄処理システムであって、洗浄対象物を純水中で超音波により洗浄する洗浄装置と、洗浄装置で使用した使用後水を遠心力を用いて濾過材及び吸着材により濾過する第一濾過装置と、第一濾過装置で濾過した処理後水を廃水と純水に分離する第二濾過装置と、第二濾過装置により分離した純水を洗浄装置に供給する構造に構成し、第一濾過装置は、筐体と、この筐体の内部に配置し、使用後水が供給され、側壁が透水性を有する回転子と、回転子の側壁の内壁面上又は内部に配置した濾過材と、回転子の側壁の内壁面上又は内部かつ濾過材の外側に配置した吸着材とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の角度で傾斜して搬送される基板の搬送方向後方の下端部が湾曲しすぎて損傷するのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバ３と、チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラ１４と、背面が支持ローラによって支持された基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて基板を所定方向に搬送する駆動ローラ１７と、基板の傾斜方向上側の前面に処理液を噴射するノズル体６２と、駆動ローラの近傍に配置され基板の搬送方向後方の下端部がノズル体から噴射される処理液の圧力を受けたときにその下端部が基板の背面側に湾曲するのを阻止する湾曲防止ローラ６４を具備する。 （もっと読む）