【課題】廃液処理の問題がなく設備費などを抑えながら、清浄効率や効果に優れた表面清浄化方法及び装置を提供する。
【解決手段】水中燃焼による表面清浄化方法であり、被洗浄物を保持しかつ被洗浄物表面を冠水ないしは水中に浸すとともに、燃焼炎を被洗浄物表面に該表面上の水を排除しながら照射し、該燃焼炎及び該燃焼炎にて発生する活性種に被洗浄物表面を曝すことにより該被洗浄物表面の汚染物を除去するようにした。また、前記燃焼炎は、保炎器を介して前記被洗浄物側へ照射されるとともに、前記被洗浄物が所定温度となるよう制御されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電池缶表面の錆の発生を確実かつ容易に抑制することが可能な電池缶の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の電池缶の製造方法は、鋼板を製缶加工して、筒状側部と底部と開口部とを有する電池缶を得る工程（１）と、電池缶を市水または工業用水で洗浄する工程（２）と、工程（２）の後、電池缶を導電率８０μＳ／ｃｍ以下の水で洗浄する工程（３）と、工程（３）の後、電池缶を乾燥させる工程（４）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】照射効率の高い超音波照射装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子３４から発生させた超音波を音響レンズ３２でライン状に集束させて、供給される洗浄液に照射することで被洗浄基板を洗浄する超音波洗浄装置１０において、音響レンズ３２は、表裏面のうち一方面が円弧状、他方面が平面状の凹型レンズに形成され、他方面に超音波振動子３４が設けられるとともに、複数の部材３２ａ、３２ｂ、３２ｃを音響レンズ３２の平面方向で組み合わせて形成されており、複数の部材３２ａ、３２ｂ、３２ｃは各々、前記表裏面の間の厚さが前記超音波の波長の１／２の整数倍で形成される。 （もっと読む）

【課題】洗浄液のランニングコストを低減する洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を循環させながら基板を洗浄する洗浄槽と、洗浄槽の排気中に含まれる気化している洗浄液を液化する凝縮器と、凝縮器により液化された洗浄液を洗浄槽に還流する還流手段とを備える。前記洗浄液は炭酸エチレンを含み、凝縮器は空気を冷媒としてもよく、気化している洗浄液の液化に伴って熱気として排出する。前記洗浄装置は、さらに、前記凝縮器から排出される熱気を、洗浄液の固化防止用熱源として洗浄装置の所定箇所に供給する。 （もっと読む）

【課題】処理流体ナイフの垂れを防止しうる処理流体供給装置を提供する。
【解決手段】処理流体ナイフは、前記基板の表面に対して平行する方向に延長し、前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有する。ロッドは、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフを通じて延長して前記ナイフの延長方向に張力が印加される。よって、前記ナイフの垂れによって発生しうる基板の損傷を防止することができ、前記基板上に前記処理流体を均一に供給することができる。 （もっと読む）

【課題】実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。
【解決手段】本発明によるフォトレジスト剥離組成物は、スルホン系化合物８０〜９８．５質量％、ラクトン系化合物１〜１０質量％、及びアルキルスルホン酸０．１〜５質量％を含む。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程において、ガラス基板を保持する基板ホルダ自体から、或いは基板ホルダとガラス基板の接触による発塵を防止し、低フライングハイト化の阻害やサーマルアスペリティの要因となるガラス基板上の微小異物の付着を低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程、例えば洗浄処理工程において、少なくとも表面部が、ガラス基板よりも硬度が低く、かつ、強度の高い樹脂からなる基板ホルダ２０でガラス基板１０を保持して上記液処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。
【解決手段】蒸着を終わったマスク２１０はクリーニング準備室２０１に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室２０２に移動する。クリーニング室２０２において、マスクにレーザを照射し、これによって生じた衝撃波によってマスク２１０に付着した堆積物を剥離する。剥離した堆積物はクリーナ２０８によって除去される。その後、マスク２１０はフラッシング室２０３に移動し、クリーニング室２０２で除去しきれなかった剥離物をマスク２１０から除去する。その後マスク２１０はマスク排出室２０４に移動し、次の蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】 高圧水噴射洗浄装置において、製造ラインで要求されるクリーン度への対応が容易であること、均一な洗浄を可能にすること、構造を簡単にし、コストダウンを図れること、ならびに洗浄時の装置の振動を低減することである。
【解決手段】 洗浄対象物を洗浄装置本体に対し一定速度で移動させながら、高圧水噴射ノズルから一斉に高圧水を前記洗浄対象物に噴射させて洗浄する装置で、洗浄対象物を横切る長さ以上の長さを有する支持フレーム６の一面に、複数の高圧水噴射ノズル７ａを洗浄対象物に向けかつ間隔をあけて配列し、支持フレーム６の両端延長部１１をその延長面に直交する駆動軸１５を介して偏心回転可能に支持するとともに、駆動軸１５を駆動装置１７にて回転させることにより支持フレーム６が偏心回転するように構成し、回転円運動する各高圧水噴射ノズル７ａから高圧水を一斉に噴射させるようにしている。 （もっと読む）

【課題】汚れを完全に除去できると共に、箸が変質することなく確実に滅菌でき、さらには箸の握り部分を揃えて包装することができる、箸の再生方法を提供する。
【解決手段】使用済みの箸を洗浄する洗浄工程と、箸の頭を揃える箸揃え工程と、箸を消毒する滅菌工程と、箸を乾燥させる乾燥工程と、箸を１膳毎に個別に包装する包装工程とを含み、箸揃え工程では、箸の頭部と先端部とで異なる重量を利用して揃え、滅菌工程にはオゾン水を適用する。乾燥工程にはエアで水滴を拭き落とした後に温風で乾燥する。 （もっと読む）

【課題】基板の乾燥時間の短縮化を図り、基板乾燥装置のチャンバに与える影響を回避することを目的とする。
【解決手段】基板Ｗを水平又は所定角度傾斜した状態で搬送する搬送手段１０と、表面に液が形成された状態で搬送手段１０により搬送される基板Ｗに対してエアＡを吹き付けて、基板上の液を除去するエアナイフノズル２３と、搬送手段１０のエアナイフノズル２３よりも上流側に配置され、基板Ｗに対して所定温度に加熱されたスチームＳを供給するスチーム供給手段２２と、を有している。基板Ｗの加熱にスチームＳを用いていることにより、基板Ｗを短時間で加熱することが可能になり、処理効率が向上する。同時に、スチームＳが基板Ｗに熱エネルギーを与えた後に、急激に温度が低下するため、チャンバに与える影響を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】 食品運搬薄型容器の洗浄にかかるコストや時間の削減を図るとともに、除菌効果の高い洗浄技術を提供する。
【解決手段】 薄型容器Ｐを搬送するコンベア１の途中に、上流から下流に向けて、高圧水洗浄手段Ａ_１と、加速手段Ｄと、加振手段Ｅと、必要に応じてエアブロー手段Ａ_２と、除菌液散布手段Ｂを順に設け、高圧水洗浄手段Ａ_１では、高圧水により運搬容器Ｐに付着する異物を除去し、加速手段Ｄで薄型容器Ｐの搬送速度を高めて加振手段Ｅに投入し、振動で付着する水を払い落とす。そして、エアブロー手段Ａ_２で更に綺麗に水を除去した後、除菌液散布手段Ｂでは、複数の散布ガン１８から運搬容器Ｐに向けて、除菌効果のある植物性洗剤を希釈した希釈液を霧状にして散布する。 （もっと読む）

【課題】隣接する処理室への処理液（ミスト）の侵入をより確実に防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。各処理部１，２のチャンバ１０，２０は開口部１１ａを介して連通しており、この開口部１１ａは、前処理部１側に設けられるシャッタ装置１４と、ウエット処理部２側に設けられるシャッタ本体２５とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部１のチャンバ１０内には、開口部１１ａの開放中、ウエット処理部２側に向かって開口部１１ａにエアを吐出するエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板に対し、洗浄液の増加を抑え、超音波による洗浄効果の低下を生じない超音波洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】超音波洗浄のための超音波ノズル１０と、被洗浄物５０を搬送する搬送ローラ４０と、洗浄液６０を供給する洗浄液供給ノズル３０と、洗浄液６０を一旦蓄える洗浄液槽２０とを有し、超音波ノズル１０と洗浄液供給ノズル３０とは、搬送ローラ４０で搬送される被洗浄物５０の上方に位置し、洗浄液槽２０は被洗浄物５０の下方に位置している。 （もっと読む）

【課題】気泡を被洗浄物に衝突させて洗浄する洗浄工程および洗浄液に超音波を印加して前記被洗浄物を洗浄する超音波印加工程を交互に繰り返すことによって、効率的な洗浄を行える洗浄方法およびこの洗浄方法により効率的に洗浄される被洗浄物を得る。
【解決手段】洗浄槽１の洗浄液中に部品２などの被洗浄物を浸漬させる工程と、添加剤注入部１０から前記洗浄液に添加剤を注入する添加剤注入工程と、気泡発生部５により前記洗浄液中に気泡を生成する気泡発生工程とを含む洗浄方法であって、前記気泡を前記被洗浄物に衝突させて洗浄する洗浄工程および超音波印加部６により前記洗浄液に超音波を印加して前記被洗浄物を洗浄する超音波印加工程を交互に繰り返すようにした。 （もっと読む）

【課題】スプレーした処理液が外部へ漏れ出したり、次槽へ持ち出されたり、前槽から持ち込まれたりすることなく、液切り及び処理液の回収を効率良くできる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送機構（４５１，４５２，４５３）により処理槽（４１ａ）内に搬送された被処理基板（Ｋ）に処理液（Ｗ）をスプレーすることで被処理基板（Ｋ）の表面に所定の処理を行うスプレー処理装置であって、処理槽（４１ａ）内を主処理室（Ｒ３）と下流液止め室（Ｒ２）とに区分けすると共に被処理基板（Ｋ）の表面との間に下流微少間隙（Ｄ２）を形成するように立設した下流邪魔板（４６２）と、主処理室（Ｒ３）に配設され被処理基板（Ｋ）の表面に向けて処理液をスプレーする主スプレー機構（４７３）と、下流液止め室（Ｒ２）に配設され下流微少間隙（Ｄ２）の斜め上方から下流微少間隙（Ｄ２）に向けて処理液をスプレーする下流スプレー機構（４７２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で確実に洗浄液の供給を検知することができるとともに、搬送面幅方向の全域に均一に洗浄液を拡散し散布して遊技媒体の洗浄を確実に行うことができる遊技媒体洗浄装置を提供する。
【解決手段】ベルトコンベア５のベルト２の搬送面上にノズル８から洗浄液を供給し洗浄研磨する遊技媒体洗浄装置のノズル８直下方に、ノズル８により供給される洗浄液を受けることによって洗浄液供給状態を検知するとともに、洗浄液をベルト２の搬送面上に該搬送面の幅方向略全域に拡散して散布する板状部材９を配設し、ノズル８から供給された洗浄液を板状部材９で受けて拡散して散布するとともに、板状部材９の傾動をセンサで検知して洗浄液の供給状態を検知できるようにする。 （もっと読む）

ショッピングカート洗浄装置に関するもので、より詳細には、カートの投入から洗浄、乾燥、及び積載までの過程を自動で行うことができるショッピングカート洗浄装置に関する。このショッピングカート洗浄装置は、カートを前方に向けて連続して移動させるカート搬送手段と、カート表面に高圧の洗浄水を噴射して洗浄する高圧洗浄水噴射手段と、カートの取っ手の上部表面及び下部表面をブラッシングして洗浄する取っ手洗浄手段と、カートの積載箱の両側面をブラッシングして洗浄するカート外部洗浄手段と、カートの積載箱の内部に挿入されて上下振動により積載箱内部の汚染物を除去するカート内部洗浄手段と、高圧の洗浄水を再び噴射し、洗浄されたカート表面に残存する汚染物を除去するすすぎ手段と、洗浄済みのカートの表面に残存する水気を熱風吐出により除去する乾燥手段と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板に対する液処理を行うに当って、回転軸に着脱可能に装着され、複数の分割ブラシ体を構成するブラシベースを回転軸に着脱可能に固定するために設けられるボルトの挿通部の周囲における刷毛が存在しない部位を最小限に抑制して、擦動むらの発生を抑制する。
【解決手段】ブラシユニット１２を構成する複数の分割ブラシ体１７は、ブラシベース１５のボルト挿通孔２２にボルト２０を挿通させて、回転軸１１のねじ孔２１に螺挿されるが、ボルト２０の頭部２０ｂと段差部２２ｃとの間にはワッシャ２３が介装されており、このワッシャ２３にはボルト２０の頭部２０ｂより外周側に円環状の平面部が形成されることになり、この平面部には補充用刷毛２４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ウエット洗浄装置において、洗浄液の消費量を抑えながら短時間で基板を効果的に洗浄する。
【解決手段】基板Ｓに対して洗浄液を供給することにより洗浄処理を施すウエット洗浄装置であって、このウエット洗浄装置は、洗浄液の供給口２４ａをもつ上下一対の対向面２２を有して形成される中空部２６を備え、この中空部２６を基板Ｓが通るように配備された液ノズル２０と、この液ノズル２０に所定流量の洗浄液を供給する供給系統とを有し、各対向面２２の間を基板Ｓが移動する間に、供給口２４ａから供給される洗浄液により基板Ｓの主面と前記対向面２２との隙間を液密状態とするように構成されている。なお、供給系統は、洗浄液としてオゾン水中に直径が１０^−６ｍ未満の微小気泡を含むオゾンナノバブル水を供給する。 （もっと読む）