【課題】微細気泡を用いた効率的な洗浄を行うと共に、洗浄液の清浄度を確保可能な洗浄装置を得る。
【解決手段】第１および第２の仕切り１１、１２により形成された旋回状の流路部１４を有する洗浄槽１０と、旋回状の流路部１４に微細気泡と洗浄液の混合による流れを発生させ、旋回状の流路部１４内で被洗浄物を洗浄する気液混合エジェクタ２０と、洗浄後の洗浄液から油脂や異物などを分離する油水分離槽５０を備える。 （もっと読む）

【課題】
炭化水素系溶剤等の洗浄剤を用いた洗浄方法及び洗浄装置において、高い作業効率を保ちながら、省エネルギー化を実現できる洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係る洗浄装置１０は、第１洗浄槽１１、第２洗浄槽１２、油分濃度監視部１３、貯留タンク１４、蒸留再生ユニット１５、及び図示しない蒸留再生ユニット制御部を備えている。被洗浄物は第１洗浄槽内で超音波洗浄され、第２洗浄槽でリンス洗浄される。一方、被洗浄物に付着していた油分により汚染された洗浄剤は、第１洗浄槽１１から循環路１６１と第１回収路１６２に排出され、循環路１６１の途中に設けられた油分濃度監視部１３によって汚染洗浄剤に含まれる油分の濃度が測定される。この測定値は蒸留再生ユニット制御部に送られ、汚染洗浄剤の蒸留量及び該蒸留量の汚染洗浄剤の蒸留に必要な電力の値が算出され、該蒸留量の汚染洗浄剤及び電力が蒸留塔１５１に供給される。 （もっと読む）

【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるＨＦＣやＨＦＥによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物（ａ）と２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ未満の成分（ｂ）とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】光学素子等の被洗浄物の乾燥工程の動作を単純化できる乾燥装置を提供する。
【解決手段】軸回りに回転するローター４４を内部に有する回転乾燥部４と、被洗浄物を保持する保持部及び前記保持部が収容された保持治具本体を有しローター４４に対して脱着自在な保持治具５と、ローター４４に対する保持治具５の回転動作によってローター４４と保持治具５とを嵌合させる回転嵌合機構１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、洗浄作業を効率よく行うことができるとともに、洗浄ムラを抑制することができるようにする。
【解決手段】 洗浄装置１は、洗浄液４を入れる洗浄槽２と、洗浄槽２に入れられた洗浄液４中に被洗浄物２０を浸漬させて保持する被洗浄物保持部３と、洗浄液４中に超音波Ｓを出射する超音波振動子５と、超音波出射領域５ａに対向して、超音波Ｓの出射方向に対して傾斜角をつけて配置された超音波反射板７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄと、を備える。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】装置を小型化でき、被洗浄物を容易に乾燥することができるようにする。
【解決手段】洗浄籠内に被洗浄物を収容した状態で洗浄する方法において、洗浄時、洗浄液供給手段を用いて処理槽に洗浄液を供給して洗浄籠内に収容した前記被洗浄物を洗浄し、洗浄後、前記洗浄液供給手段を用いて前記処理槽に供給された洗浄液を前記洗浄液供給手段に回収し、すすぎ時、すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽にすすぎ液を供給し、すすぎ終了後、前記すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽に供給されたすすぎ液を前記すすぎ液供給手段に回収し、乾燥時、ノズルを有する乾燥手段を用いて前記ノズルを前記処理槽の前記洗浄籠内に進入させて熱風を前記被洗浄物に吹き付けるとともに、排出手段を用いて乾燥時に出る液体を前記処理槽から排出し、乾燥後、前記乾燥手段を用いて前記ノズルを前記洗浄籠及び前記処理槽から退出させる。 （もっと読む）

【課題】手作業での洗浄に比べ、格段に迅速かつ簡単に刷毛を洗浄することができ、その構造がきわめて簡素で、作業現場への持ち運びや運用、使用後のメンテナンスなどもきわめて容易な洗浄器具を提供すること。
【解決手段】洗浄器具１は、容器３と、クランク部材５を備える。クランク部材５は、回転中心に配置される第一主軸部５Ａ、第二主軸部５Ｃ、および工具接続部５Ｄと、回転中心から偏った位置に配置される偏心軸部５Ｂを有する形状で、工具接続部５Ｄが電動工具２１に取り付けられる。電動工具２１を作動させると、クランク部材５が回転駆動され、その際、偏心軸部５Ｂに追従して動作する刷毛３１が、容器３内の洗浄液中で上下方向への移動を伴う往復運動をする状態となって、刷毛３１が洗浄される （もっと読む）

【課題】イソプロパノール等に代替する水置換剤であって、後工程での蒸気洗浄性に優れ、安全性に優れ、かつ蒸留再生使用が容易な水置換剤、及びそれを用いた水置換工程を含む蒸気洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物の蒸気洗浄前に用いる水置換剤、及びそれを用いた水置換工程を含む蒸気洗浄方法であって、水置換剤として、下記一般式（１）で表わされるとともに、下記特性（Ａ）および（Ｂ）を有する親水性溶剤含むことを特徴とする。
（Ａ）２０℃において、水に対する溶解度が５０ｇ／１００ｇ以上の値である。
（Ｂ）沸点が１２０〜２２０℃の範囲内の値である。


（一般式（１）中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基であり、炭素数ｍは２〜５の自然数であり、繰り返し数ｎは１〜２の自然数である。） （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】物品への汚れの再付着を低減できる物品洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄すべき物品を内部に密閉可能に収容する洗浄槽３と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環する洗浄液７を貯留する洗浄液タンク手段６と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環するすすぎ液１６を貯留するすすぎ液タンク手段１５と、一端が液体排出口８に接続され、他端が洗浄液タンク手段６又はすすぎ液タンク手段１５に切り替え可能に接続されると共に、循環により通過する洗浄液７又すすぎ液１６を浄化させるフィルタ手段９ｃと、フィルタ手段９ｃに接続され、液体排出口８とフィルタ手段９ｃとの間に滞留する洗浄液７又はすすぎ液１６を排出可能なバルブ手段２０ｇを有する。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が６２モル％以下のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度２０質量％以上８０質量％以下、過酸化水素濃度１質量％以上１０質量％以下である洗浄液を用いて５０℃以上１００℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 （もっと読む）

【課題】経時変化や故障、人為的ミス等により所定の閾値を超えた場合に当該事実を自動報知することが可能な極めて実用性に秀れた超音波強度監視装置の提供。
【解決手段】洗浄液１が貯留される洗浄槽２に該洗浄液１に超音波振動を付与する振動部３が設けられ、この超音波振動が付与される洗浄液１により被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に設けられる超音波強度監視装置であって、前記洗浄槽２に接合部材を介して設けられ前記超音波振動を感知して前記洗浄槽２に伝達される超音波強度を検出する超音波強度検出センサ４と、この超音波強度検出センサ４と接続され該超音波強度検出センサ４で検出した前記超音波強度が所定の上限閾値若しくは下限閾値を超えた際、この上限閾値若しくは下限閾値を超えたことを報知する報知機構を有する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成および制御で、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物を効果的に洗浄する。
【解決手段】洗浄槽３には、洗浄液が貯留され、その洗浄液に被洗浄物２が浸漬される。減圧手段５は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。加熱手段７は、洗浄槽３内の洗浄液を加熱する。給気手段６は、被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の洗浄液中に気体を導入する。加熱手段７により洗浄液を設定温度まで加熱した後、減圧手段５により洗浄槽３内を減圧して洗浄液を沸騰させ、この沸騰中に給気手段６により洗浄液中に気体を導入する。これにより、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物２の洗浄効果を増すことができる。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】安定的にしかも安価に、浸水事故にあった電子機器が電気的に動作する正常状態に回復させることを目的とする。
【解決手段】電子機器の回復装置１は、筐体２の上面部に矢印θ方向に開閉される開閉蓋６を備え、開閉蓋６を開けた筐体２の上面部内が電子機器を収容するためのチャンバ８を備える。このチャンバ８内には開閉蓋６の下面部に吊着状態で配設する籠状の収容部９に、例えば携帯電話機１０を収容可能としている。こうして収容部９に携帯電話機１０を収容した状態において、開閉蓋６を閉操作し、電子機器（携帯電話機１０）をチャンバ８内に密閉状態で収容し、チャンバ８内において真空状態で加熱乾燥することが可能となる。これにより、例えば浸水事故にあった携帯電話機１０を、半導体基板や液晶表示装置が電気的に動作する正常状態に回復させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄用治具を用いて電子部品が搭載された基板を回転式洗浄する場合に、基板両面の洗浄を可能としつつ回転中心からの距離に関係なく良好な洗浄品質を確保する。
【解決手段】一端側が洗浄液の入口１１ａ、他端側が洗浄液の出口１１ｂとされている貫通した開口部１１を有するフレーム１０を備え、開口部１１の内面には、基板間に隙間を有しつつ基板の板面と直交する方向に沿って配列するように、複数個の基板２００を取り付け、この基板取り付け状態で、洗浄液を入口１１ａから導入し開口部１１内を流通させて出口１１ｂから導出することにより、複数個の基板２００を洗浄する基板洗浄用治具であって、開口部１１内のうち隣り合う基板２００間の隙間となる位置には、邪魔板２０が設けられており、基板取り付け状態で、開口部１１内にて、洗浄液を板材２０と基板２００との隙間にて流通させるようにした。 （もっと読む）

【課題】基板の処理を良好に行うことができる基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを格納した記憶媒体を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板(2)を処理液(23)で処理する処理槽(24)と、処理槽(24)に第１の薬液(21)を供給する第１薬液供給機構(25)と、第１の薬液(21)と反応して処理液(23)を生成する第２の薬液(22)を処理槽(24)に供給する第２薬液供給機構(26)と、処理槽(24)に接続した循環流路(45)を用いて処理液(23)を循環させる処理液循環機構(27)と、第１及び第２の薬液の処理槽への供給を制御する制御部とを備え、所定の循環流量で処理液を循環させて基板(2)を処理する基板処理装置(1)を用い、第２の薬液(22)の供給を開始するとともに第２の薬液(22)の供給開始に基づいて循環流量を変化させることにした。 （もっと読む）

【課題】専用の設備を要せずともプラスチック廃材の再利用化の工程を利用して簡易な構成でプラスチック廃材の洗浄が可能なプラスチック廃材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】亜臨界水または超臨界水によるプラスチック廃材の分解処理後に水およびこれに溶解する樹脂成分から固液分離した無機物を主成分とし水分を含有する固形物を乾燥および粉砕して無機物を回収する際に、固形物を熱風により乾燥して固形物が含有する水分を水蒸気として除去する熱風乾燥器５の下流における水蒸気を含む熱風のラインに設けた洗浄槽１０に、再利用に供する別途のプラスチック廃材を投入し、洗浄槽１０内のプラスチック廃材に水蒸気を含む熱風を接触させてプラスチック廃材を洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）