【課題】単位操作又は反応操作を行う運転中又は停止中において、マイクロ流路内の汚損を効率よく除去する。
【解決手段】２種類の原料流体Ａ、Ｂを、それぞれの流体供給路３４Ａ、３４Ｂを通して、等価直径が１ｍｍ以下である１本のマイクロ流路３２に合流させて反応操作又は単位操作を行うマイクロ化学装置３０の洗浄方法において、洗浄流体をマイクロ流路３２に流通させ、マイクロ流路３２内において層流渦を発生させてマイクロ流路３２を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 長尺な基板に対して長尺方向に均一に処理することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 第２流体吐出管３８から吐出された純水は対向面３７１に衝突することによって粉砕され、該純水の液滴群が生成される。そして、生成された液滴群は対向面３７１に沿ってＹ方向に扇形状に広がりながら、Ｙ方向に延設された混合室３２に送り込まれる。このため、液体の液滴群はＹ方向に広がった状態で第１流体吐出路３３から吐出された圧縮空気と混合され、Ｙ方向において均一にミスト状の純水が生成される。したがって、Ｙ方向に均一に生成されたミスト状の純水をＹ方向に延びる開口３１から基板Ｗに向けて噴射することによって、長尺な基板Ｗに対しても長尺方向（Ｙ方向）に均一に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】 噴射用ガスの使用量を減らすと共に、被洗浄物に噴射する液滴の径を均一にして、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。
【解決手段】 ２流体ノズルを、ガスと液体とを混合する混合部と、前記ガスを前記混合部へ導くガス流通路と、前記ガス流通路に設けられた前記ガスを回転させるためのスパイラル構造で構成する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハー、フォトマスク基板、フォトマスクブランクス等を含む表面から１００ｎｍ以下の微粒子を除去する装置及び方法を提供する。
【解決手段】紫外線洗浄器具は、処理チャンバーの中に設置された紫外線光源１０２を有し、表面１０４の上方に位置させ、処理チャンバー内の様々な処理中に使用してよい。ガラス基板、ガラス表面、シリコン基板、プレート、フォトマスク基板などの表面１０４と紫外線光源１０２との距離は、モータ１１０を使って回転チャック１０６を動かすことによって調節できる。あるいは、紫外線光源１０２を垂直に動かすことによっても距離を調節できる。紫外線光源１０２は、およそ１４０〜４００ｎｍの波長で１ｍＶ／ｃｍ^２以上の強さであって、高圧、低圧水銀ランプ等が用いられる。紫外線光源１０２は、微粒子と表面１０４との間の化学結合を切断するオゾンを発生させ、これが洗浄性能を高める。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物に噴射する液滴の大きさを均一に小さくし、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。
【解決手段】 噴射用のガスと液体とを混合して液滴を形成し、この形成された液滴を噴射して被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記液体に予め気泡発生用のガスを溶解させて過飽和状態の液体とするようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】 過冷却液体から氷の微粒子を含む処理液を製造する場合に、汚染物質が混入する心配が無く、生成された氷の微粒子が溶解することもない装置を提供する。
【解決手段】 下部に液体導入口１８および気体噴出口２４を有し上部に氷の微粒子を含む処理液の流出口２８を有する本体部１０を備え、液体導入口１８を通って本体部内１０へ導入された過冷却液体中に気体噴出口２４から気体を噴出して過冷却状態を解除し、生成された氷の微粒子を含む処理液を本体部１０内から流出口２８を通って流出させる。 （もっと読む）

本発明は、雪状の二酸化炭素の噴射を用いて加工物の洗浄、活性化ないしは前処理を行うための装置および方法に関するものであり、この雪状の二酸化炭素の噴射は、加圧された液体CO2と、少なくとも1つの圧縮されたキャリアガスとから生成され、1つの吐出しノズル (14) によって加速され、そのとき二酸化炭素ガスと二酸化炭素粒子とからなる2相の二酸化炭素混合物が、凝集室 (8) の中で雪状の結晶の凝集および圧縮によって生成され、キャリアガス供給用の、二酸化炭素混合物がその周りを循環する中央ジェットパイプ (4) を含む多段の混合室 (10, 11, 12) の中で、キャリアガスに半径方向で混合され、加工物を加工するための高エネルギーの乱流気体の流れが得られる。 （もっと読む）

【課題】 長時間の洗浄を可能とした洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物３を洗浄するためのガスと液体とからなる混合物を被洗浄物に向けて吐出するノズル６と、ノズル６に所定のガス吐出圧力でガスを供給するガス供給機構８と、ノズルに液体を供給する液体供給機構９と、を備えた洗浄装置１である。液体供給機構９は、液体を貯液する液体加圧タンク２０と、液体加圧タンク２０からノズル６へ、所定の液体吐出圧力で、ガスよりも時間当たりの流量が少ない液体を供給するための液体供給ライン２１と、液体加圧タンク２０に、液体吐出圧力以上の圧力で外部から液体を供給することで、液体の補充を行う液体補充機構２２と、を備える。液体供給機構９は、液体加圧タンク２０から液体供給ライン２１によりノズル６へ液体を供給しつつ、液体補充機構２２から液体加圧タンク２０への液体の補充が行えるように構成されている。 （もっと読む）

熱水用及び冷水用それぞれの入口１８、２２並びに温度制御水用の出口２６を有する混合弁１６を備える洗浄設備に、出口水の温度を監視する一次温度センサ１１２及び二次温度センサ１１６と、一次温度センサ１１２及び二次温度センサ１１６によって検出された出口水の温度を比較すると共にそれに応答して出口水流量を制御する電子コントローラ１１０とが設けられる。 （もっと読む）

【課題】 キャビテーション領域を活用した表面改質から壁面、部品表面、食品等の比較的柔らかい物質の洗浄に至るまでの広範な用途に適した２流体特殊洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】 洗浄水を高圧ポンプにて加圧され高圧水として受ける高圧水導入路１１と、高圧水導入路１１の内寸Ｄｗに対して先細テーパー状の絞り部と、所定最小径の高圧水出口径ｄの通路でなる高圧水噴出口１３と、その先端広角部１４とからなる高圧水ノズル１と、高圧水ノズル１の下流に形成された気体室２１と、その下流に連通して気体室２１の内寸Ｄａに対して先細に縮径し境部は曲面となるように形成された拡大ノズル２２と、気体室２１に開口した空気圧縮機より送られる所定高圧の圧縮空気を導入する気体導入口２３とからなる噴霧ノズル２とで構成した洗浄ノズル。 （もっと読む）

【課題】 洗浄効果、洗浄効率の優位点を維持し、製品ダメージが極めて少ないという優位点も維持した状態で高圧気体の使用量削減を図ることのできる２流体洗浄用ノズルを提供する。
【解決手段】 噴出口から液体ミスト流を噴出して被洗浄物に衝突させる洗浄用２流体ノズルであって、高圧の気体と高圧の液体とを混合して液体ミストを形成する気液混合部、気液混合部に高圧の気体を導入する気体導入部、気液混合部に高圧の液体を導入する液体導入部、及び、気液混合部から噴出口に至る流通路を内部に有し、流通路内で液体ミストに運動量を付与して液体ミスト流を形成する加速管部を有する洗浄用２流体ノズルにおいて、加速管部内の流通路内壁に、流通路の長さ方向にスパイラル状に延びるスパイラル突条を設ける。 （もっと読む）

【課題】 ＣＩＰ洗浄において効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後に溶剤臭が殆ど残存しない脱臭洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体と気体との気液二相流を用いてＣＩＰにより脱臭洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 設備費用、環境負荷などが少なく、被洗浄物の電気的特性が限定されず、被洗浄物に付着する除去対象物質を剥離除去する能力、すなわち洗浄力および洗浄速度の高いウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 スリット状開口部１７を有するノズル本体４とラジカル生成手段５とからなるノズル２、基板搬送手段３、第１純水供給手段７および第２純水供給手段８を含むウェット処理装置１であって、ノズル本体４の外部にラジカル生成手段５が設けられ、スリット状開口部１７から吐出される純水の水流と、ラジカル生成手段５において生成するラジカルなどの活性種を含有する純水とを混合して洗浄液１０とし、この洗浄液１０を基板９の被洗浄面９ａに供給する。 （もっと読む）

【目的】 洗浄動作を１台の装置で、確実かつ安価に行えるようにすると共に、帰還管路に残留している洗浄液と今回噴射する洗浄液との混合噴射を即座に解消する。
【構成】 第一ノズル（高速旋回ノズル）２０と第二ノズル（拡散ノズル）２１を用い、第一ノズル２０からは、大流量の圧縮空気と小流量の洗浄液とをそれぞれ単独あるいはノズル２０近傍で混合して噴射し、第二ノズル２１からは大流量の圧縮空気と大流量の洗浄液とをそれぞれ単独あるいは混合して拡散噴射するできるようにした気液混合流噴射装置であって、第二ノズル２１からの洗浄液噴射時、同時に圧縮空気を所定時間供給することにより、アンローダーバルブ２３を開放して帰還管路２２に残留している洗浄液を即座に排出するようにした気液混合流噴射装置。 （もっと読む）

【課題】 処理槽内から処理槽底部の排液口を通って排出された処理液が排液管を通ってドレンボックス内へ流入したときに、ドレンボックス内から雰囲気ガスが排液管を通って空の状態の処理槽内へ逆流することを防止できる装置を提供する。
【解決手段】 底部に排液口１４が設けられた処理槽１０、処理槽１０内で基板Ｗを保持するリフタ１８、処理槽１０内の下部に設けられた液体噴出ノズル１２から処理槽１０内へ処理液を供給する手段、処理槽１０の排液口１４に連通接続された排液管６４、密閉され底部にドレン排出口７４が設けられ排液管６４が挿入されるドレンボックス７２、および、排液管６４を通し処理液が排出されて空の状態となった処理槽１０内へドレンボックス７２内部の雰囲気ガスが排液管６４を通って逆流するのを防止する液溜めトラップ８０を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板に噴射される微細液滴の粒径の均一性を向上するとともに微細液滴を所望の速度で基板に衝突させる。
【解決手段】基板洗浄装置１は、洗浄液液滴を生成し、所定の粒径以下の微細液滴を選別する液滴生成部３、液滴生成部３から供給される微細液滴を加速ガスと共に基板９に向けて噴射する噴射ノズル４を備える。液滴生成部３は、液滴を生成する液滴生成用ノズル３１、および、微細液滴を選別する液滴選別室３２を備える。液滴選別室３２では、液滴がキャリアガス中にて浮遊した状態で移動し、液滴選別室３２内での移動距離が長い液滴が微細液滴として噴射ノズル４に供給される。その結果、基板９に噴射される微細液滴の粒径の均一性を向上することができる。また、微細液滴を適切な噴射速度で基板９に向けて噴射することにより微細液滴を所望の速度で基板に衝突させることができる。 （もっと読む）

【課題】 液滴（５）を液滴噴射平面でガス流（８）中に噴射する、ガス流（８）に液滴（５）を散在させる方法を提供する。
【解決手段】 本方法は、副ガス（６．１、６．２）を液滴（５）と同時にガス流（８）中に噴射することを特徴とする。副ガス（６．１、６．２）の噴射速度は液滴（５）の噴射速度よりも速く、噴射された副ガス（６．１、６．２）により、噴射された液滴（５）をその軌跡及び大きさに関して安定させ、ガス流（８）から部分的にシールドされ、及び／又は液滴をガス流（８）中に同伴する。これにより、液滴（５）の空間分布及び液滴の大きさ分布の制御が改善される。液滴（５）は、副ガス（６．１、６．２）がない場合よりも効率的にガス流（８）に入り込む。好ましい用途は、ガスタービンコンプレッサーのオンライン湿式クリーニングである。
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【目的】 洗浄動作を１台の装置で、確実かつ安価に行えるようにすると共に、各流体を、対象物に対し最適な流量で噴射する。
【構成】 第一ノズル（高速旋回ノズル）２０と第二ノズル（拡散ノズル）２１を用い、第一ノズル２０からは、大流量の圧縮空気と小流量の洗浄液とをそれぞれ単独あるいはノズル２０近傍で混合して噴射し、第二ノズル２１からは大流量の圧縮空気と大流量の洗浄液とをそれぞれ単独あるいは混合して拡散噴射するできるようにした気液混合流噴射装置。 （もっと読む）

【課題】 処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。
【解決手段】 基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。一方、洗浄力（除去率）に優れる内部混合型ノズル６から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル６を基板Ｗの端縁位置Ｅｂと境界位置Ｋｂとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が速い基板端縁部Ｗｓを洗浄処理する。これにより、基板中央部Ｗｃと基板端縁部Ｗｓとの各処理領域に対応した最適な洗浄を行うことができ、基板全面を高品質に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄処理ユニットＳＳには、二つのリンスノズル４１，５１が設けられており、それぞれ独自に別駆動される。洗浄用の混合流体を吐出する洗浄リンスノズル４１は、窒素ガスと純水とを混合して純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。液膜形成のためのカバーリンスノズル５１も純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。基板Ｗの直接の洗浄処理を担当する洗浄リンスノズル４１だけでなく、カバーリンスノズル５１をも混合流体を吐出する二流体ノズルとしているため、基板Ｗが疎水性基板であっても、その上面に均一な薄い純水水膜が形成され、洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる。 （もっと読む）