【課題】高圧流体と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して洗浄処理を施すに際して、洗浄効果を高めながらも、スループットを向上させることができる高圧処理装置および高圧処理方法を提供する。
【解決手段】圧力容器１の処理チャンバー１１内に導入された処理流体中の薬剤に含有される水分の吸収帯に対応した波長を有する赤外光を照射する。赤外光が照射されている間のみ処理流体中の水分が選択的に加熱され活性化される。そして、基板Ｗの回転により基板表面Ｓ１上の薬剤が次々と活性化され、薬剤に含有される水分の洗浄作用が加速される。これにより、基板表面Ｓ１に付着するパーティクル、レジストなどの不要物質（被洗浄物質）を効果的に基板Ｗから除去することができる。 （もっと読む）

【課題】ミストとなる洗浄液の利用効率を向上させることができる基板洗装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る基板洗浄装置は、基板１を載置するステージ１０と、ステージ１０に載置された基板１の上方に位置し、該基板１の上面全面を覆うカバー部材２０と、カバー部材２０に設けられ、ミスト化した洗浄液をガス中に分散させたミスト分散ガスを基板１に吐出する吐出口２２ａと、を具備し、吐出口２２ａからミスト分散ガスが吐出された状態において、カバー部材２０の下面と基板１の上面との間の空間１ａは、ミスト分散ガスで充填される。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物上のパーティクルの大きさに拘らず、より効率的且つ高い洗浄効果を得ることが可能な部品洗浄装置、及び、部品洗浄方法を提供する。
【解決手段】 二次要素としての窒素（不活性ガス）が付加された洗浄液としての純水を洗浄ノズルから基板に向けて噴射することによって、基板を洗浄する部品洗浄装置であって、制御手段は、洗浄工程において、純水流量又は窒素流量のうち少なくとも一方を周期的に変動させることにより、純水に窒素が所定の割合で付加される第１洗浄状態と、純水に付加される窒素の割合が第１洗浄状態よりも低い第２洗浄状態とを交互に変換しながら洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 低コストで汚染物質を除去でき、しかも、洗浄対象物を損傷しない洗浄ノズル及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 断面円形のスロート部１１の下流側に流れ方向に拡径するダイバージェント部１３を備えたノズル本体１８と、ノズル本体１８に供給される圧縮空気１５の流れと同方向に洗浄液２０を吐出する洗浄液供給管２１とを有する洗浄ノズル１０であって、洗浄液供給管２１の吐出口２２が、ノズル本体１８の内側壁面２３から離れたスロート部１１の近傍に配置され、しかも、圧縮気体１５がスロート部１１で音速となっている。 （もっと読む）

【課題】被加工体に設けた孔に効率的に表面加工処理を施すことができる孔表面加工処理方法を提供しようとするものである。
【解決手段】被加工体３に穿設された主孔３１の内部に、所定の水圧を有する噴射水流２を噴出して主孔３１の内側面３１１を加工処理する方法。噴射水流２は、高圧水流２１と高圧水流２１を取り囲む低圧水流２２とからなる二層の噴射水流２であり、キャビテーション気泡２３を含む。主孔３１の内部に、高圧水流２１を反射する反射面６１を有する流れ制御治具６を配置しておく。流れ制御治具６と主孔３１の内側面３１１との間のクリアランスを４００μｍ以下とする。高圧水流２１を反射面６１に噴出して反射させることにより、噴射水流２を主孔３１の内側面３１１に当てる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストなどの有機物を良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】過酸化水素ガス供給部３において、加熱槽２６に貯留されている過酸化水素水が加熱されることにより、過酸化水素水が高濃度化され、この高濃度の過酸化水素水が気化ユニット３２でさらに加熱されることにより、水分を含まない過酸化水素ガスが生成される。そして、その過酸化水素ガスが二流体ノズル６に供給されるとともに、硫酸供給部２から硫酸が供給されて、二流体ノズル６からスピンチャック５に保持されているウエハＷの表面に、過酸化水素ガスと硫酸との混合流体の液滴の噴流が供給される。 （もっと読む）

【課題】 高圧流体あるいは高圧流体と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施すに際して、その表面処理の均一性およびスループットを向上させることができる高圧処理装置を提供する。
【解決手段】 圧力容器１の天壁１２ｂに開口された送出路１０１から基板Ｗの直径サイズ以上の長さを有する帯状の処理流体が、送出路１０１の長手方向に均一に基板Ｗの回転中心Ａ０を含みながら回転する基板Ｗの表面Ｓ１に対して垂直入射する。このため、基板表面Ｓ１の全体が該基板表面Ｓ１に対して垂直入射する処理流体によって洗浄処理される。 （もっと読む）

【課題】 長尺な基板に対して長尺方向に均一に処理することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 液体吐出スリット４５から吐出された純水は吐出口４５１に対向させた状態で拡散部３５に設けられた衝突部材４６の上面４６１に垂直に衝突する。衝突後の純水は液膜状態から破砕され、Ｘ方向に沿って両側にＹ方向に広げながら拡散部３５の両側に位置する２つの混合部３８に連通口３７を介して破砕された純水の液滴群が送り込まれる。このため、液滴群はＹ方向に広がった状態で各混合部３８において圧縮空気と混合されミスト状の純水がＹ方向に均一に生成される。さらに、各混合部３８で生成されたミスト状の純水は合流部３９で合流されて合流液体を形成するとともに、該合流液体はＹ方向に延びる開口３１から噴射される。 （もっと読む）

【課題】 噴射用ガスの使用量を減らすと共に、被洗浄物に噴射する液滴の径を均一にできるようにする。
【解決手段】 ガスと液体とを混合させて液滴を発生させる２流体ノズル１を用いた洗浄装置において、前記液体に超音波振動を加える構成とする。 （もっと読む）

【課題】内部空間を有する被洗浄物の内部を３次元的に洗浄することが可能であり、その洗浄作用を向上して、隅々まで的確な洗浄効果が得られるように改良した内部洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体流通路１７を有し軸回転可能に設けられた回転軸１５と、液体流通路１７に接続する液体流通路３４を有し、回転軸１５に略直交する方向に設けられ、回転軸１５を中心とする旋回及び軸回転可能に設置された旋回回転軸２８と、旋回回転軸２８の先端部に設けられたノズル２９とを備え、被洗浄物の内部空間内にノズル２９を挿入して洗浄を行う内部洗浄装置において、回転軸１５に設けた気体流入口３６から回転軸１５及び旋回回転軸２８の液体流通路１７，３４に沿って気体流通路１８，３５を設け、被洗浄物の外部から供給された気体をノズル２９から噴射される液体と混合して気液混合流として噴射する。 （もっと読む）

【課題】 ウォータマークの発生や帯電現象を低減し、さらに引火の可能性も低減できるようにした基板の乾燥方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 純水処理後のウエーハＷを枚葉式で乾燥させる方法であって、霧状のＩＰＡをＮ_２に乗せてウエーハＷ表面に向けて噴霧すると共に、ＩＰＡが付着したウエーハＷを回転させて、ＩＰＡを発散させる。水分を速やかに取り除くことができ、ウォータマークの発生を防ぐことが可能である。また、ウエーハＷを高速で回転させる必要がなく、それゆえ、ウエーハＷの空気との摩擦による帯電現象を低減することが可能である。さらに、従来例と比べて、ＩＰＡを加熱する必要がないので、引火の可能性がよりいっそう低い。 （もっと読む）

【課題】 自動車車体に吹き付けた洗浄泡を長時間留まらせて洗浄効果を高める。洗浄泡を、水道水の圧力だけで洗浄泡を離れた場所から自動車車体に吹き付けられるようにする。
【解決手段】 ジェットポンプ機構１の作動流体噴射ノズル２に水道水の入口を追加し、ジェットポンプ機構１のディフューザ３の他端に洗浄泡噴射口５１を追加し、ジェットポンプ機構１のチャンバー４に液体洗剤吸込口６１と空気吸入口７とを追加する。洗浄泡噴射口５１を形成している噴射筒５の内部に、水道水と液体洗剤と気泡との混合流体を通過させてその気泡を細分化するための有孔部材５２が配備する。液体洗剤吸込口６１に、洗剤容器８の洗剤吸上げチューブ８１を連設する。 （もっと読む）

【課題】洗浄性能がよく、純水の消費量も少なく、設置場所の変更も容易である洗浄装置とその装置を利用する作業用手袋洗浄方法を提供する。
【解決手段】この作業用手袋洗浄方法は、作業用手袋洗浄装置１を使用して作業用手袋７を洗浄する方法であって、該洗浄装置１は、洗浄開口部４ａをもつ洗浄用チャンバ４に固定される洗浄ノズルユニット２を有しており、洗浄ノズルユニット２は、２流体混合ノズルを構成する純水側ノズル２１とガス側ノズル２２とからなり、ガス側ノズル２２からガス１７を噴出させると、ガス１７の噴出に連れて純水１６が純水側ノズル２１から霧化状態で噴出する。洗浄開口部４ａにかざした手袋７に向けて上述したガス１７と霧化状態の純水１６を噴出させることによって該手袋７の洗浄が行われ、引き続いて、ガス１７のみをガス側ノズル２２から噴出させて手袋７の乾燥を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】無菌室内で使用する殺菌、洗浄ノズルとこれらのノズルを使用して発生させた殺菌剤水溶液のバブルによる容器の殺菌方法、洗浄水のバブルによる洗浄方法及び装置において、殺菌剤の消費量の低減化およびノズル管路の詰まり防止が図れるものを提供する。
【解決手段】殺菌剤水溶液又は洗浄水の供給配管に連通し先端の通路が絞られて開口する液通路が設けられたノズル本体と、該ノズル本体の液通路に設けられた狭窄部（オリフィス）と、該狭窄部の下流に開口しノズル本体の外部に通じるエア通路と、該エア通路のエア流量を調整するエア流量調整手段と、により構成され、ノズル本体の液通路の狭窄部を流れるときの流速負圧によりノズル周囲のエアを吸い込み、前記エア流量調整手段によりエアの吸い込み量を調整して殺菌剤水溶液又は洗浄水とエアを混合したバブル状液体を、倒立容器に噴出して殺菌又は洗浄する容器の殺菌、洗浄ノズル、容器の殺菌方法、容器の洗浄方法及び容器の殺菌、洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 ワークの形状に依存することなく、洗浄水に浸漬したワークから切粉や塵などの付着物を確実に取り除くことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄水１にワークＷを浸漬し、このワークＷから切粉や塵などの付着物を取り除く洗浄装置であって、ワークＷを洗浄水１中に支持するワーク支持手段３と、超音波により気泡を発生する超音波発生手段４と、高圧洗浄水１ａに空気を混入して気泡を含む高圧洗浄水１ａをワークＷに向かって吐出するジェット水流吐出手段５を備えた。超音波発生手段４が発生する超音波による気泡と、ジェット水流吐出手段５が吐出する高圧洗浄水１ａに含まれる気泡を衝突させ、これらの気泡が崩壊する際に発生する衝撃力と高圧洗浄水１ａの水圧を洗浄力として利用する。 （もっと読む）

流体システムは、気体ホースと流体ホースとを受け入れることができる流体制御デバイスを有する。流体制御デバイスは気体源を有することもでき、液体ホースを受け入れるように形成されることができる。流体制御デバイスは、出力ホースの中に流体流を出力するように備えられている。流体制御デバイスを液体源の近く、または出力ホースのノズルの近くに位置付けることができる。別の配置構成では、流体制御デバイスは低圧流体を受け入れて、高圧デバイスへ高圧流体を配送することができる。本流体システムは、流体制御デバイスと高圧デバイスとに連結されたホースを巻くためのホースリール装置を有することができる。
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【課題】 露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。乾燥／現像処理ブロック１２は乾燥処理部９５を備える。インターフェースブロック１３はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。乾燥処理部９５において基板Ｗの洗浄および乾燥が行われる。 （もっと読む）

圧縮空気泡および高圧液体散布システム（１００）は、耐久器材、車両、土地、施設および航空機の汚染除去、一般の洗浄、蒸気抑制、危険性物質の改善、燃料漏洩および消火業務支援のための圧縮空気泡生成物質を、同時に生成する加圧液体に加えて提供する。システムは、システムの圧縮空気泡（３００）および高圧液体サブシステム（２００）に電力を供給するための発電装置（１５７）を含む。更に高圧サブシステムは液体を加熱するためのボイラー（１１６）を含む。発電装置は、圧縮空気泡サブシステムに圧縮空気を提供するための空気圧縮機（３１４）を駆動し、空気工具に電力を供給してパンクしたタイヤをふくらませるための空気チャック（４０４）を駆動する。発電装置は、更に、高圧サブシステムのために水を加圧する高圧揚水ポンプ（２１０）を駆動する。システムは、エンジンの停止した車両を操作中に充電するための２４ＶＤＣ電気システムを含む。 （もっと読む）

【課題】揮発性の低い洗浄薬液を用いて強打力で洗浄を行った際でも乾燥性が非常に高く、洗浄薬液残りに起因する縦筋ムラを無くすことができ、且つ毎回一動作の洗浄でスリットノズルの先端部に乾燥固着する異物を完全に除去することで歩留まりを向上させ、タクトタイムを短縮する事が可能な洗浄装置付塗布装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、スリットノズル先端部８の外側に洗浄薬液と不活性ガスを混合した２流体を噴出する２流体ノズル１０と、２流体ノズル１０の逆進行方向側に不活性ガスを噴出する液切りノズル１８とをスリットノズル１の長手方向に配列してなる２組が、スリットノズル先端部８の外側を挟みこむようにスリットノズル１の長手方向に平行に近設されている洗浄部と、この洗浄部の下部に位置して、発生したミスト状廃液を強制排気する排気部とで構成される洗浄ヘッド２３を具備する。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスの表面を損傷させることなく微細なパーティクルを十分に除去すること。
【解決手段】有機溶剤を含む洗浄液を供給する洗浄液供給部５０と、高圧の窒素を供給する高圧窒素供給部４０と、供給された洗浄液を高圧窒素と混合させることで霧状にし、半導体ウエハＷに吹き付ける二流体ノズル３０とを備えている。 （もっと読む）