【課題】微小気泡の安定供給を実現する。
【解決手段】送液装置１は、微小気泡を含む液体が流れる配管３と、その配管３の途中に設けられ、配管３内を流れる液体に旋回運動を与えて配管３内に旋回流を発生させる旋回流発生部８とを備える。これにより、前述の旋回流が配管３内に発生するため、液体中の微小気泡が配管３の内周面に付着することが抑止されるので、微小気泡の安定供給を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。
【解決手段】水を含むリンス液が、金属膜が形成された基板に供給される（Ｓ２）。その後、水酸基を含まない第１溶剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が第１溶剤に置換される（Ｓ４、Ｓ５）。その後、水酸基を含まない第２溶剤を含み金属を疎水化する疎水化剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が疎水化剤に置換される（Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Ａは、プリント基板Ｐを収容する洗浄槽１と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ１０と、洗浄槽１内に設けら、コンプレッサ１０から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル６と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽１内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル６の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構７とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Ｐに噴霧され、予備洗浄ノズル６の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル６から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Ｐに噴霧される。 （もっと読む）

【課題】散気孔における付着物による通気抵抗上昇の解消を短時間で確実に達成する。
【解決手段】有機性排水と生物汚泥とを含む被処理水中に空気を散気する散気システム１において、空気を供給する送風手段２２と被処理水中に微細気泡を噴出させる散気孔を有する散気装置１１とを備え、散気孔の給気側から被処理水側に空気を噴出させて、被処理水中に微細気泡を発生させる散気手段と、流路を介して送風手段と連結され、薬液を配管に滞留しないミスト状にして送風手段からの空気と同伴して搬送させる薬液噴霧洗浄手段３１とを備え、散気孔への付着物に伴う通気抵抗の上昇時に、ミスト状の薬液を送風手段からの空気に同伴させて、散気装置の給気側より噴出させて散気孔の付着物を洗浄し、通気抵抗の上昇を解消する。 （もっと読む）

【課題】除去性能を高めた空調用フィルタの洗浄を効率的に行う。
【解決手段】ローラコンベア９とローラコンベア９で搬送されるフィルタ２に洗浄液を散布する洗浄液散布ノズル５０ａ〜５０ｆと、フィルタ２に高圧ガスを噴射する高圧ガス噴射ノズル６０ａ〜６０ｃと、散布された洗浄液１７ａ〜１７ｃを回収する回収タンク７２ａ〜７２ｃと、洗浄液を洗浄液散布ノズル５０ａ〜５０ｆに循環させる循環系統と、を含む各洗浄ステージ４ａ〜４ｃを含み、精密洗浄ステージ４ｃは、未使用洗浄液噴霧ノズル５０ｇが配置され、精密洗浄ステージ４ｃ、粗洗浄ステージ４ｂは各回収タンク７２ｃ，７２ｂからフィルタ搬送方向上流側の各回収タンク７２ｂ，７２ａに洗浄液を順次移送する移送系統を備え、予備洗浄ステージ４ａは回収タンク７２ａの洗浄液９０ａを外部に排水する排水ポンプ７７ａを備える。 （もっと読む）

【課題】所望の微細な気泡を液体に内包させることのできる微細気泡発生機構を提供する。
【解決手段】液体Ｌと気体Ｇとを混合する気液混合通路１１と、この気液混合通路１１へ液体Ｌを導入する液体導入通路１３と、気液混合通路１１からの気液混合体Ｍを導出する気液混合体導出通路１５と、気液混合通路１１へ気体Ｇを導入する気体導入通路１７と、気液混合通路１１よりも下流に設けられ、気液混合体Ｍの流量と、気液混合体Ｍ内の気泡の直径とを調整する流量および気泡径調整部材２１とを備え、液体導入通路１３は、気液混合通路１１へ向かうにしたがって断面積が徐々に小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、周囲の空気との干渉による水流の微粒化を抑制でき、高いデスケーリング又は洗浄能力を発現できる噴射ノズル装置を提供する。
【解決手段】フラットパターンの主水流５０を噴射可能な主吐出口１５と、主水流の厚み方向の両側から、それぞれ第１の被覆気流５１及び第２の被覆気流５２を噴射可能であり、主水流を第１及び第２の被覆気流のサンドイッチ状に被覆して噴射するための第１の補助吐出口及び第２の補助吐出口とを備えた噴射ノズルを用いて鋼板表面のスケールを除去する。前記主水流の噴射圧力は、被覆気流の噴射圧力の７０倍以上に調整する。補助吐出口の噴射出口は、主吐出口の噴射出口よりも５〜１００ｍｍ上流側に位置させてもよい。主水流の噴射方向に向かって５〜３５°の角度で被覆気流を噴射してもよい。 （もっと読む）

【課題】液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム４とを含む。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。ノズルアーム４の少なくとも一部の直交断面Ｃ１は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している頂部４５と、頂部４５より側方に位置している側部４２と、頂部４５から側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程数を減らし、さらに、基板に対する汚染粒子の再付着を防止する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｗを搬送する搬送部２と、その搬送部２により搬送される基板Ｗの被洗浄面Ｓに、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズル３とを備え、その供給ノズル３は、被洗浄面Ｓ上に到達した微小気泡がサイズ変化を抑えつつ基板Ｗの外縁まで移動する流速で洗浄液を供給する。 （もっと読む）

【課題】流出する気泡混入水による洗浄効果を向上させることができるノズルを提供することを課題とする。
【解決手段】水の流出口に接続されて水の流出口からの水が流入する流入部１１と、流入部１１から流入した水の流れを絞って水の流速を増加させる絞り部１２と、絞り部１２から下流側へ流出する水に空気が吸引されて気泡が混入され、気泡混入水となるように空気を導入する空気導入部１３と、絞り部１２への水の流入を断続的に遮断する断続的遮断手段１４と、を具備し、断続的遮断手段１４にて絞り部１２への水の流入を断続的に遮断することにより、気泡混入水の流出する流量を断続的に変化させて脈動するような気泡混入水を流出する、ノズル１Ａとする。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる電子部品実装設備用の洗浄ツールおよび洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】部品実装装置に用いられる吸着ノズル１０などを洗浄する電子部品実装設備用の洗浄ツール２０を、作業者が把持して操作可能な本体部２１と、本体部２１の先端に設けられ２流体３１が噴射される噴射ノズル２５と、本体部２１に接続され噴射ノズル２５と切替バルブ２６を介して接続された液体タンク２８とを備え、洗浄水３０の粒子３０ａを圧縮空気２３ａに混合した２流体３１を被洗浄物である吸着ノズル１０に対して噴射する構成とする。これにより、簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロバブルを用いて洗浄効果を上げるとともに、節水弁を併用することで、被洗浄体に対応できる節水率で節水効果を達成できるマイクロバブルを用いた節水洗浄装置を提供する。
【解決手段】一端の流入口１aに給水源が接合され、他系統の流入口（気体流入口１b）に気体供給手段が接合され、他端に気液混合流体の流出口が配設されて成るマイクロバブル生成装置１において、前記流出口に節水弁２を接合し、該節水弁２の出水口に噴射ノズル３を接合して成る。前記節水弁２は、六角軸体の一端部の雌ネジと、他端部の雄ネジと、該雌ネジのネジ底の通水室と、該通水室と前記雄ネジ側の出水口の底面間の隔壁と、該隔壁の連通口とから成る弁本体と、通水室に内設される通水盤と該通水盤に重畳され、蝶羽根とネジ挿通孔を有する制水盤と、両者を接合するボルトとから成る。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸４１を有し、回転軸４１の回転によって基板を回転させるスピンナー４０と、基板に相対する位置であってスピンナー４０の回転軸４１からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル２４及びノズル２５と、を備え、スピンナー４０の回転軸４１の方向に見て、ノズル２４の噴射口２４Ａがスピンナー４０の回転軸４１が回転する向きと向き合っており、ノズル２５の噴射口２５Ａが第一ノズル２４の噴射口２４Ａの向きとは逆向きである。 （もっと読む）

【課題】ラジカルを均一に拡散させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対向する側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、第１電極１２と第２電極１３との間に放電を発生させることで、液体収容部４中の液体１７内における気体の領域においてプラズマを生成し、液体１７に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する。気体拡散部７０は、気体通路３ａから圧送された気体を液体１７内において拡散させる。 （もっと読む）

【課題】より低コストかつ省資源な洗浄を行うために、ガス溶解水を用いた高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄のみにより、超音波洗浄を組み合わせる必要がない程度に十分な洗浄効果をあげる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄流体吐出ノズルから洗浄液又は洗浄液と気体との混合流体を被洗浄物に向けて吐出させて、被洗浄物を高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄する洗浄方法において、流体吐出ノズルに導入される洗浄液に溶存ガスを含ませる。溶存ガスは、所定の圧力が加えられることにより洗浄液に溶解され、溶存ガスの洗浄液への溶解量は、洗浄液の液温における飽和溶解度を第１飽和溶解度とし、洗浄液の液温を保ったまま所定の圧力を加えた状態における飽和溶解度を第２飽和溶解度とした場合に、第２飽和溶解度と第１飽和溶解度との差の１０〜７０％を第１飽和溶解度に加えたものとする。 （もっと読む）

【課題】 気泡微細化に有利な高速流を大流量にて効果的に発生でき、ひいては気泡の微細化効果を劇的に向上させるとともに、マイクロバブル領域あるいはナノバブル領域の気泡の発生量を、従来達成し得なかったレベルにまで高めることができる気泡微小化ノズルを提供する。
【解決手段】 流れ方向下流側に下り勾配にて形成される流れガイド面２２Ｇと、流れ方向上流側にて流路ＦＰ内面に対し流れガイド面２２Ｇよりも急峻に立ち上がるように形成される流れ受け面２２Ａとを有する絞りギャップ材２２Ｑを流路ＦＰ内に配置する。それら流れ受け面２２Ａと流れガイド面２２Ｇとの交差位置に、流路ＦＰの軸断面内周縁上の第一位置ＰＰから該第一位置ＰＰと異なる第二位置ＰＳに向けて軸断面を横切るエッジ部２２Ｅが形成され、該エッジ部２２Ｅと流路ＦＰの内面との間に絞りギャップ２１Ｇがされる。 （もっと読む）

【課題】ワークを治具により姿勢制御可能な洗浄装置において、省スペースで安定した治具を提供することを目的とする。
【解決手段】治具２は、外枠３と、基台１０と接続可能な接続台４と、ワークＷを保持するための支持台５と、リンク機構とを備える。リンク機構は、外枠３に一端が回転可能にジョイントされ、他端が支持台５に回転可能にジョイントされた２つのリンク６ａと、接続台４にヒンジ８ｂにより回転可能にジョイントされたロッド８ａを備えた２つのエアシリンダ８とを有する。この構成により、エアシリンダ８のロッド８ａが動作することで、リンク６ａが回転すると共に、ワークＷの中心を回転中心としてワークＷの姿勢制御をすることができる。 （もっと読む）

【課題】 少ないアンモニアの使用量で半導体ウエハを効果的に洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】 電気伝導度が１μＳ／ｃｍ以下である純水にアンモニアを添加してその濃度を０．００５〜０．５％としたアンモニア水中において生成させた、粒径が５０μｍ以下で、レーザー光遮断方式の液中パーティクルカウンターによる計測において１０〜１５μｍに粒径のピークを有しており、そのピークの領域における個数が１０００個／ｍＬ以上である、空気および／または不活性気体を含有する微小気泡を含むアンモニア水を、半導体ウエハの表面に接触させて行うことを特徴とする。 （もっと読む）