【課題】界面活性剤等を用いて肌や物品などの表面を洗浄する際に、窪みや隙間に残った界面活性剤や汚れを容易に剥離させて除去することのできる過飽和洗浄水生成器を提供する。
【解決手段】本実施例の過飽和洗浄水生成器１ａは、上部に設けられた給水口２ａに接続される給水管６ａを介して水道蛇口６から圧力水Ｗが供給されるタンク２と、タンク２の内部に配置され，上部が開放された縦長の液泡生成容器部３と、タンク２の外部から空気Ｘを吸入する空気自吸管４ａを有し，給水管６ａに接続されるとともに，ノズル４ｂが液泡生成容器部３の上部に配置されるアスピレータ４と、タンク２の底面に形成された複数の細孔によって構成される排水量固定部５からなる排水口とを備えている。 （もっと読む）

【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物５が付着した金属屑６が内側に入れられ、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、金属屑６を攪拌する攪拌機７と、洗浄槽２に貯留された洗浄水１に気泡３を供給し、気泡３を異物５に吸着させ、異物５を金属屑６から分離させ、気泡３が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物５を浮上させる気泡生成器４と、洗浄水１を洗浄槽２からオーバーフローさせて、異物５を洗浄槽２の外側へ排出する異物排出手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被洗浄体が、例えば、孔または溝等、複雑な形状の凹凸部を有した場合であっても、凹凸部に付着した異物を被洗浄体から除去することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄水１の中で、異物が付着した被洗浄体４に向かってマイクロバブル６を噴射して異物に吸着させ、異物を被洗浄体４から分離させ、マイクロバブル６が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物を浮上させて、被洗浄体４を洗浄する洗浄装置であって、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、マイクロバブル６を噴射するマイクロバブル噴射器３と、被洗浄体４を保持するハンド部５ｃを有しているととともに、被洗浄体４を移動させるロボットアーム５と備え、ロボットアーム５は、被洗浄体４を移動させて、被洗浄体４とマイクロバブル噴射器３との相対位置を変えながら、マイクロバブル６を被洗浄体４に衝突させる。 （もっと読む）

【課題】 流体量や流体圧の増加を必要とせずに、短時間で効率的に被洗浄物の全面を洗浄可能なスピンナ洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 被洗浄物を保持する保持面を有し回転可能なスピンナテーブルと、該スピンナテーブルに保持された被洗浄物に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段とを備えたスピンナ洗浄装置であって、前記洗浄流体供給手段は、洗浄流体供給源に接続されたアームと、前記アームの先端に配設されて洗浄流体を前記保持面に向かって噴射する洗浄流体噴射ノズルと、前記スピンナテーブルに保持されて所定速度で回転される被洗浄物に対して、該アームの先端が該スピンナテーブルの回転中心を通るように該アームを揺動させる揺動手段とを含み、該洗浄流体噴射ノズルは、該アームの先端にロータリージョイントを介して配設され、該保持面と平行な面において該ロータリージョイントを中心に回転可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】付着物をより確実に除去することが可能なシリンダーの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】表面に電子写真感光体用の堆積膜を形成することが可能なシリンダーを洗浄する方法であって、シリンダー１０１の長軸の周りでシリンダー１０１を回転させながら、洗浄液を、シリンダー１０１の長軸方向の全長ｈに等しい長さのスリット形状の噴射位置から長軸と垂直にかつシリンダー１０１の表面の接線方向に向けて噴射する。 （もっと読む）

【課題】物質、そして好ましくはホトレジスト、を支持体から除去する。
【解決手段】３つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変える。ａ）ｉ）十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第１オリフィス１２４；ii）ガス源からガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第１ガスオリフィス１３０；iii）第２ガス源から第２ガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第２ガスオリフィス１４０、を有するノズルを装備し；そしてｂ）中央オリフィス１２４からの液体の流れに方向を付与するように第１ガスオリフィス１３０及び第２ガスオリフィス１４０の少なくとも１つのガス流の流れを修正することにより、ノズル１２２からの液体のスプレー方向を調節する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンが形成された基板に対しても適切に洗浄することができる基板処理装置、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、単一の基板Ｗを水平姿勢で保持する保持部１１と、微細気泡を含んだ気泡含有洗浄液を基板に供給する洗浄液ノズル１５と、洗浄液ノズル１５によって基板Ｗに気泡含有洗浄液を供給させて基板を洗浄する制御部１９と、を備える。気泡含有洗浄液によれば、基板面に与える衝撃を抑制しつつ、微細気泡の表面張力によって基板Ｗ上のゴミ、塵埃、その他の異物を除去することができる。したがって、基板Ｗに形成されたパターンを破壊することなく、基板を好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】基板のフォトリソグラフィー処理前に、基板の周縁部に付着した付着物を適切に除去する。
【解決手段】洗浄装置１は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２０を有している。洗浄装置１には、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器３０が設けられている。浸漬容器３０のウェハＷ側の側面には、ウェハＷの周縁部Ｂを挿入するための側面開口部３３が形成されている。浸漬容器３０は、高温の純水でウェハＷの周縁部Ｂを浸すことができる。洗浄装置１には、ウェハＷの周縁部Ｂに常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける第１の洗浄液ノズル５０と第２の洗浄液ノズル５１が設けられている。これらノズル５０、５１から供給される洗浄液は、洗浄液供給部７０で純水と不活性ガスが混合された洗浄液である。 （もっと読む）

【課題】水蒸気と水とを組み合わせて照射する洗浄方法において、水分子の浸透時間に制限されず対象物を傷めることなく確実に洗浄する方法の提供。
【解決手段】水蒸気供給部Ａ、純水供給部Ｂ、水蒸気流体調整部Ｃ、混相流体照射部Ｄ、ウェハ保持・回転・上下機構部Ｅを有する構成であって、混相流体照射部Ｄの混合部１４４は、照射ノズル１４１の上流側に設置されており、該混合部１４４及び照射ノズル１４１は内壁面が略連続的な曲面を形成するとともに、該混合部１４４内壁面の一部に水導入部を有し、該照射ノズル１４１は、ノズル上流側からノズル出口へと向かうに従って縮径し、更に、最小断面積となるのど部を境に、拡径する末広構造を有し、前記混合部１４４内を流動する水蒸気に水を混合して、前記ノズル１４１の出口から混相流体として噴射することにより、対象物に液滴が衝突する際のキャビテーションを制御する。 （もっと読む）

【課題】各種ホースが接続される洗浄用ガンを用いての人為洗車作業において、洗車作業に要する力や労力が軽減されて、女性や老人等の方々でも容易に疲れること少なく洗浄用ガンを操作できるといった具合に、洗浄作業の省エネ化や簡略化が図れるようにする。
【解決手段】洗浄水を流すための第１ホース５の流路５ａ内に、エアを流すための第２ホース６が装備されて成る二重ホースＨが接続可能なホース接続部ｈと、互いに各別な第１給排部Ｋ１及び第２給排部Ｋ２と、ホース接続部ｈにおける第１ホース５の水流路５ａに連通接続される第１接続部分１２と第１給排部Ｋ１の給排口ｃ１とを連通させる第１連通路ｒ１と、ホース接続部ｈにおける第２ホース６のエア流路６ａに連通接続される第２接続部分１５と第２給排部Ｋ２の給排口ｃ２とを連通させる第２連通路ｒ２と、を有して洗浄具用継手Ａを構成する。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】低コストで、優れた除去効果を有する付着物の除去方法およびこれに用いる付着物の除去装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる付着物の除去方法は、液滴を含む気体を被処理物に対して吹き付ける、ことを特徴とし、本発明にかかる付着物の除去装置、前記付着物の除去方法に使用する除去装置であって、液滴を含む気体を吹き付けるためのノズルと、気体を送り込む配管と、前記配管に液体を合流させる配管と、気体を送り込む配管の途中に設けられ前記液体の合流前の気体および／または合流後の気体を加熱する少なくとも１つの加熱部と、を含む、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減し、排液量を少なくし、処理時間を短縮することができる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送方向における長さが基板Ｗの寸法より短くされた置換水洗室１０、置換水洗室内において基板を一方向へ連続して搬送する搬送ローラ、置換水洗室内の入口付近に配設された入口ノズル１６、入口ノズルより基板搬送方向における前方側に配設された高圧ノズル１８、および、置換水洗室内の出口側に配設されたエアーノズル２２を備えて置換水洗部２を構成した。置換水洗室１０内へ基板Ｗが搬入される前に入口ノズル１６および高圧ノズル１８からの洗浄水の吐出を開始し、置換水洗室内から基板が搬出された後に入口ノズルおよび高圧ノズルからの洗浄水の吐出を停止するように制御する。 （もっと読む）

（ａ）洗浄すべき対象物を、変動圧力耐性容器内に設置する工程、
（ｂ）前記対象物に対して、少なくとも１種の発泡剤と少なくとも１種の酵素と溶存ガスとを含む泡状組成物を適用する工程、
（ｃ）前記容器に対して変動圧力を加え、前記対象物を前記泡状組成物で洗浄する工程、及び
（ｄ）前記対象物をリンスする工程
を含む、対象物の洗浄方法。
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【課題】基板の一方の面と端面部分（エッジ部分）を液体により処理をする際に、他方の面側への液体の回り込みを防ぐことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、回転する基板Ｗに対して処理用の液体２８を供給して基板Ｗの処理をする際に、基板Ｗの一方の面３１と基板Ｗの端面部分３３に対して処理用の液体２８を供給する物理洗浄ツール１５と、基板Ｗの他方の面３２に対して保護用の流体５５を供給して基板の他方の面側に処理用の液体が回り込むのを防止する回り込み防止用供給ノズル５３と、を備え、回り込み防止用供給ノズル５３は、基板Ｗの回転方向において少なくとも一か所に固定されている。 （もっと読む）

【課題】アルカリ洗浄液を使用することなく、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。または、少量のアルカリ洗浄液の使用であっても、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。
【解決手段】鋼板７に水蒸気と、空気および／または液滴とを吹き付けて洗浄することを特徴とする鋼板の洗浄方法を用いる。液滴が水であることが好ましい。このために、水蒸気を高速で噴出させることが出来る蒸気ノズル２と、蒸気ノズル２内に空気および／または液体を供給する供給管とを備え、該供給管の供給口５から供給された空気および／または液体と前記水蒸気とを蒸気ノズル２内で混合し蒸気ノズル２の噴出口６から噴出することを特徴とする鋼板の洗浄装置を用いる。供給管が、空気を供給する供給管３と、液体を供給する供給管４とからなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】手作業による作業効率の低いインキ装置の清掃作業を、生産性、作業効率の向上と溶剤、ウエスの資材の消費を抑え、洗浄によるコスト削減の自動洗浄装置を提供する。
【解決手段】インキドクターブレード自動洗浄装置１においては、インキドクターブレード３に固着したインキ汚れを洗浄するためにエアーと共に微少量の溶剤を噴射、また回転式エアーノズルにてインキを掻き取る作用を利用しております。このエアーノズルを可変速にて移動させることにより、インキドクターブレード３全体において、汚れの度合いに応じて自動洗浄致します。また、ドクターブレード本体３を任意角度にて揺動させることによりインキドクターブレード３の複雑な形状の自動洗浄に対応しております。これにより、手作業での洗浄に比較し、洗浄時間の短縮、洗浄コストの削減、洗浄効果の向上を提供致します。 （もっと読む）

【課題】付着物を確実に除去する。
【解決手段】付着物除去装置２は、付着物除去ノズル３を備える。付着物除去ノズル３には、小径オリフィス２１と大径オリフィス２２とが設けられている。液化二酸化炭素１１０は、小径オリフィス２１を通って粒子形成部３１に送られるとともに、大径オリフィス２２を通って粒子形成部３１に送られる。粒子形成部３１には、キャリアガス１００が送られる。粒子形成部３１では、小径オリフィス２１及び大径オリフィス２２からの液化二酸化炭素１１０とキャリアガス１００とから、二酸化炭素ガスと小径ドライアイス粒子１１１及び大径ドライアイス粒子１１２とを含む洗浄ガス１２０がつくられる。洗浄ガス噴出口１５から噴射された洗浄ガス１２０は、流延ドラム２１２の表面２１２ａに吹き付けられる。洗浄ガス１２０により、表面２１２ａに付着した液状付着物Ｘ１及び固形付着物Ｘ２が除去される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された不要な薄膜その他の不要物を基板に損傷を与えることなく、効率的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板５０を保持する基板保持部３０と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部１５と、噴射部１５と前記基板５０とを相対的に移動させる位置制御部２３とを備えており、基板５０の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射（ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射）して、基板５０に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対するダメージの発生及び処理力の低下を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１において、被処理面を有する基板Ｗを保持して回転させる回転機構５と、回転機構５により回転する基板Ｗの被処理面に対して処理液を供給する供給ノズル６と、供給ノズル６を基板Ｗの周縁に向かって並ぶ複数の供給位置に順次移動させる移動機構７と、被処理面上の処理液の液膜厚を測定する測定部８と、測定部８により測定された液膜厚に応じて、複数の供給位置毎に基板Ｗの回転数を変更し、被処理面上に形成された液膜厚が一定になるように基板Ｗの回転数を制御する手段とを備える。 （もっと読む）