【課題】基板処理装置において処理液に効率良く電荷を誘導し、基板の帯電を効率良く抑制する。
【解決手段】基板処理装置は、基板に向けて洗浄液の液滴を吐出する吐出部３、および、吐出部３の吐出口３１近傍に配置される誘導電極６を備え、誘導電極６は吐出口３１の中心軸３０に対して傾斜する傾斜面６１を有する。基板処理装置では、誘導電極６と吐出部３の洗浄液管３２との間に電位差を付与することにより洗浄液に電荷を誘導し、当該洗浄液の液滴により基板を洗浄することにより洗浄処理による基板の帯電を抑制することができる。誘導電極６では、中心軸３０を含む面による傾斜面６１の任意の断面において、中心軸３０と傾斜面６１との間の距離が吐出口３１に近づくほど長くされる。これにより、吐出口３１に近接した位置における誘導電極６の面積を大きくすることができるため、洗浄液に効率良く電荷を誘導して基板の帯電を効率良く抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄能力が向上され、しかも単純な制御系で、被洗浄基板を、振動させることなく、安定に搬送しながら、その被洗浄基板の被洗浄面を洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 搬送手段３２によって被洗浄基板３５を搬送しながら、その被洗浄基板３５の被洗浄面３４に洗浄液供給手段３３によって洗浄液３６を供給する。搬送手段３２は、回転駆動体４２と、ローラ体４１とを備える。回転駆動体４２は、円筒状の外周面４４が形成される車輪部４５を有し、回転軸線Ｌ１１まわりに回転駆動される。車輪部４５の外径寸法Ｄ１１は回転軸線Ｌ１１の方向に一様である。ローラ体４１は、他の回転軸線Ｌ２１〜Ｌ２５まわりに個別に回転可能な各ローラ５１〜５５を有する。各ローラ５１〜５５の外周部５８は、前記車輪部４５の外周部４６に接触し、最上位置Ｐ１１〜Ｐ１５が、搬送方向Ａに垂直な断面が上方に凸に湾曲する湾曲面５９に沿って並ぶ。 （もっと読む）

【課題】陰極用のエッチング箔のケミカル洗浄における過度の溶解に起因するエッチング減量の増加、および容量低下を防ぐことのできる電解コンデンサ用陰極箔の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる箔を塩素イオンを含有するエッチング液中で電気化学的または／および化学的にエッチングするエッチング工程と、エッチング後の箔をケミカル洗浄液と接触させて当該箔に付着している塩素イオンを除去するケミカル洗浄工程とを行ってアルミニウム電解コンデンサ用陰極箔を製造する際、ケミカル洗浄液には、錫イオンや鉛イオンなどの金属イオンを０．０５〜１ｐｐｍ添加しておく。 （もっと読む）

【課題】銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤（ＲＥ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが３〜１４であり、かつ式（１）を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数１】


｛式中、Ｅは２５℃での酸化還元電位（Ｖ、ｖｓＳＨＥ）、ｐＨは２５℃でのｐＨを表す。｝

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、洗浄液の流れに乱れが生じると洗浄対象物から一旦、除去された汚染物質が洗浄対象物に再付着する。
【解決手段】ポンプ４により洗浄槽２内にて洗浄液を一方向に流す。その上流側に２枚の整流板２０を配置し、洗浄対象物より下流側にさらに整流板２２を配置する。各整流板の面内には複数の孔が配列される。孔の開口面積が整流板に占める開口率は、整流板２２より整流板２０にて大きく設定し、また、整流板２０ｂの開口率は１０％以上かつ２５％以下、整流板２２の開口率は２．５％以上かつ１０％以下の値にそれぞれ設定する。これにより、整流板２０ｂと整流板２２とに挟まれる洗浄チェンバー２８における液流を擬似層流とすることができる。洗浄対象物から遊離した汚染物質は速やかに排出チェンバー２６へ移動し、フィルタ６により除去される。 （もっと読む）

【課題】基板上の異物を効果的に除去する。
【解決手段】ブラシ洗浄室２０、高圧洗浄室３０及び混合流体洗浄室４０において、ノズル２１、高圧ジェットノズル３１及びジェットノズル４１から、基板１上の異物を溶かす液体を基板１へ供給する。基板１上の異物が液体に溶解して効果的に除去される。特に、異物が小さい程、異物が液体に溶解しやすいので、微小な異物がより効果的に除去される。また、異物が液体に溶解してなくなるので、異物が基板１に再付着することがない。 （もっと読む）

【課題】 洗浄効果を向上させることができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】先端に開口を形成し、該開口に超音波透過性を有する隔膜で覆い、内部上方に超音波振動子を配設し、かつ内部に超音波伝播液を充填して洗浄ヘッドを構成するとともに、該洗浄ヘッドの先端を覆うようにしてカバーを配設し、該カバーの底壁にスリットを形成し、前記カバーと前記洗浄ヘッドの先端とによって画成される空間部に洗浄液を供給し、前記超音波振動子からの超音波を照射しつつ前記洗浄液を前記スリットから基板の表面に供給するようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄溶剤の種類、被洗浄物の材質、超音波強度などの条件を変更することなく、超音波洗浄によっても、寿命が変化しにくい塗布ノズルを提供すること。
【解決手段】誘起部を設けたノズルを超音波洗浄することで、超音波エロージョンが誘起部で発生するようになり、吐出口や位置決めマークに超音波エロージョンが発生することによる塗布ノズルの性能劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄能力が高く、かつ構成が簡単な超音波振動を加えた洗浄液を被洗浄物に吹き付けて洗浄を行う噴射形超音波洗浄装置に関するものである。
【解決手段】 外径８ｍｍ、内径４ｍｍのステンレス製の管１４の外周部を研磨して、外周部を正４角形にする。その４辺に圧電素子１３である圧電セラミックをエポキシ樹脂により接合する。圧電セラミックの寸法はＬが５８．５ｍｍ、Ｈが３ｍｍそしてＷが０．５１ｍｍであり、かつ分極方向はＨ方向である。そして圧電セラミックだけの主にＨ方向の振動モードの固有振動数は１．０２９ＭＨｚである。また、図示はしないが、分極方向に垂直な２面に銀電極を設けている。また、管の軸方向と圧電セラミックのＬ方向を一致させている。 （もっと読む）

【課題】包装用プラスチックフィルムや各種表示体に使用される機能性光学用プラスチックフィルムに混入または強固に付着している、埃、フィルム片、汚れといった塵芥を除去でき、衛生的で汚れや欠陥の少ないプラスチックフィルムの洗浄装置等を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを巻回したロールよりプラスチックフィルム１を巻き出す巻出し部３と、プラスチックフィルム１に洗浄水として純水を供給して超音波を用いて洗浄を行う洗浄部６と、プラスチックフィルム１の乾燥を行う乾燥部７と、乾燥を終えたプラスチックフィルム１をロール状に巻き取る巻取り部８とを順に設けるプラスチックフィルムの洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】光学用プラスチックフィルムに混入または強固に付着している埃、フィルム片といった塵芥を除去できる洗浄装置、塗工装置等を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを巻回したロールよりプラスチックフィルム１を巻き出す巻出し部５と、プラスチックフィルム１を純水１２の浴槽１１中に浸漬し超音波を用いて洗浄する第１の洗浄部１０Ａと、該第１の洗浄を終えたプラスチックフィルム１を純水を用いてスプレー洗浄する第２の洗浄部１０Ｂとからなる洗浄部と、ニップロール３及び／又はエアーナイフ４による水切り部と、プラスチックフィルム１の乾燥部５０と、プラスチックフィルム１をロール状に巻き取る巻取り部８とを設けた光学用プラスチックフィルムの洗浄装置。また上記洗浄装置を塗工部６０の前に設置した塗工装置。
【効果】塵芥の再付着無しに、欠陥の少ない光学用プラスチックフィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】可動バット７０Ａがノズルバット４５の処理空間ＰＳ側上端部に軸支されて可動バット７０Ａのノズルバット４５側端部を回動中心として回動自在となっている。薬液ノズル４が隙間領域ＧＲの直上を移動する際には、ドラム６が上位置Ｐ６２とされ隙間領域ＧＲに移動され、可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１をとって移動中の薬液ノズル４から落下した薬液を受け止めノズルバット４５に案内する。その一方で、ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３とされ隙間領域ＧＲを越えて上方に移動される際には、ノズルの移動が禁止されるとともに可動バット７０Ａが退避姿勢Ｐ７２をとる。 （もっと読む）

ここに開示されるのは、板状物品の流体処理用の装置であって、板状物品を保持しかつこれを実質的に垂直方向の回転軸線まわりに回転させるための回転ヘッド；回転ヘッドのまわりの放射状に配列され非接触で回転ヘッドを懸架しかつ駆動するための駆動手段；回転軸線と実質的に同心であり、かつ回転ヘッドと駆動手段との間に配置されそして回転ヘッドと駆動手段との間の間隙に挿入された実質的に円筒状の側壁；回転ヘッドと壁とを互いに昇降させるための持上げ手段を備えた装置である。
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【課題】基板表面におけるウォーターマークの発生を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転するためのスピンチャックと、基板Ｗに処理液を供給するための処理液ノズル１５と、基板Ｗの上面に対向する遮断板１０とを備える。遮断板１０および回転軸１２には、開口３１が形成されており、この開口３１に挿通された処理液ノズル１５は、基板Ｗの上面に処理液を供給する。また、遮断板１０のテーパ面２３と処理液ノズル１５の外壁面４２との間には、基板Ｗの上面に窒素ガスを供給するための環状の窒素ガス吐出口２６が設けられている。テーパ面２３は、周方向Ｘ１において不均一な形状にされており、基板Ｗ上の環状の窒素ガス吹付け域２７における窒素ガスの圧力は、周方向Ｘ１において不均一にされている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄漕部の下流側から洗浄液を排出するに当たり、泡の発生を防止し、従来のように排液漕部から洗浄漕部に逆流した泡が洗浄能力を低下させることがないだけでなく、洗浄漕部内の洗浄水の流れ分布の調整をより容易に行うことができる流水式洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の流水式洗浄装置１においては、洗浄漕部３の最下流側に設けられている排水プレート４１には一方が洗浄漕部３に向かって開口する複数の排水パイプ４５が取り付けられている。排水パイプ４５のそれぞれは各流量調整弁５１を備えた流量調整装置５を通った後、まとめられてポンプＰの吸入口に接続されている。ポンプＰの吐出口側には、ポンプＰから吐出された洗浄液の汚染物を取り除いて給液漕部へ循環供給するために洗浄液フィルターＦが設けられている。 （もっと読む）

本発明は、水性重合体組成物と、水性組成物から形成されたフィルムとに関する。水性組成物は、汚染物質を基板から除去するための方法において用いてよい。水性重合体組成物は、水と、少なくとも１つの水溶性フィルム形成性重合体とを含んでよい。一実施態様では、水性組成物は、少なくとも１つのキレート剤および／または少なくとも１つの界面活性剤をさらに含んでよい。水性重合体組成物は、汚染された基板に塗布してよく、あるいは、清浄な基板に塗布した後、基板を汚染物質に曝露させてよい。水性組成物を脱水させ、および／または、重合体を架橋させてフィルムを形成させてよい。汚染された基板に塗布されるとき、フィルムは汚染物と結合してよい。清浄な基板に塗布されるとき、後で汚染物質をフィルムと接触させ、フィルムに付着させてよい。汚染物質と結合したフィルムは、基板から分離させてよく、その結果は汚染物質の基板からの除去である。

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【課題】基板裏面に対する処理液の無駄をはぶき、かつ、基板表面の処理に悪影響をおよぼす恐れを低減するスピン洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】フォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１において、フォトマスク基板８の裏面に処理液を吹き付ける裏面シャワー手段７が、基板の回転中心から異なる距離だけ離れた位置に設けられ、基板の裏面方向に処理液を噴出させる複数の裏面用ノズル７１１などと、複数の裏面用ノズルに処理液を供給する超純水製造装置７６と、基板のサイズに応じて、回転中の基板の裏面に処理液を吹き付ける位置に設けられた裏面用ノズルに、処理液を供給する裏面シャワー制御手段（三方弁７３など）を備えた構成としてある。 （もっと読む）

【課題】 枚葉式の回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０の周囲に、基板１から飛散する液体を受けるカップ２０を設ける。カップ２０に、筒状で昇降式の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０を組み合わせる。上段液体ガイド３０は、下方の待機位置で下段液体ガイド４０に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第１の液体をカップ２０の外へ導く。下段液体ガイド４０は、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第２の液体をカップ２０内へ導く。 （もっと読む）

【課題】基板の中央部に異物がたまりにくく、基板表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法の提供を目的とする。
【解決手段】矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８を回転させる回転板３と、フォトマスク基板８の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段とを具備し、処理液噴出手段５が、フォトマスク基板８の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔５１１と、フォトマスク基板８の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔５２１，５３１を有する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】大幅なコスト増加を招くことなく、複数の保持ローラの同期回転を保証することができ、これにより、基板のダメージおよび保持ローラの摩耗を低減できる基板保持回転装置を提供する。
【解決手段】第１基板保持回転装置１は、基板Ｗを保持して回転させるための４本の保持ローラ６〜８を備えている。４本の保持ローラ６〜８は、基板Ｗの周端面に沿って互いに所定間隔をあけて配置されている。保持ローラ６は、ベルト３３を介して保持ローラ駆動モータ３２からの駆動力が与えられるただ１つの駆動ローラである。４本の保持ローラ６〜８が基板Ｗを保持した状態で、保持ローラ駆動モータ３２が保持ローラ６を回転させることにより、基板Ｗが回転する。残り３本の保持ローラ７，８は、基板Ｗの回転に伴って、保持ローラ６と同期して従動回転する。また、保持ローラ６〜８は、いずれも、弾性材料であるゴムで形成されている。 （もっと読む）