ポストプラズマエッチング残渣および／またはハードマスク材料を、上記残渣を上に有するマイクロ電子デバイスから洗浄するための、酸化性水性洗浄組成物および方法。本発明の酸化性水性洗浄組成物は、少なくとも１種類の酸化剤と、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミン、およびアミン−Ｎ−オキシドからなる群より選択されるアミン種を含む少なくとも１種類の酸化剤安定剤と、必要に応じて少なくとも１種類の共溶媒と、必要に応じて少なくとも１種類の金属キレート剤と、必要に応じて少なくとも１種類の緩衝性化学種と、水とを含む。本発明の組成物は、マイクロ電子デバイスから残渣材料を非常に効果的に洗浄しながら、同時に、同じくデバイス上に存在する層間絶縁および金属相互接続材料は損傷しない。
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【課題】処理槽から処理液をオーバーフローさせる際に、処理液の流れを精密に調整できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理槽１０の周縁部分に接触部材４０を備えている。接触部材４０は、下方へ収束する楔形に形成されており、接触部材４０を上下に移動させると、処理槽１０と接触部材４０との間隔が変化する。接触部材４０を降下させて、接触部材４０を処理液９に接触させると、処理液９は接触部材４０を伝って外槽１２へ流れ出る。また、処理槽１０と接触部材４０との間隔を調節すると、処理液９の流れが精密に調整される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によってマイクロバブルを安定的に生成することができ、取扱いも容易で、製造コストを低減できるナノ流体生成装置を提供する。
【手段】直径が１μｍ未満の気泡（ナノバブル）を含むナノ流体を生成する装置１は、気体と液体とを混合する気液混合室７と、この気液混合室７に加圧した液体及び気体を供給する加圧ポンプ４と、を備え、前記気液混合室７は、この室内に設けられ、供給された液体及び気体に乱流を発生させて強制的に混合するための乱流発生手段（円錐部材１１、複数の突条９及び凹溝１０、１２）と、強制的に混合された混合流体を吐出する超微小吐出口２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】処理槽または処理室の内部と外部との間で基板を搬送しつつ基板を処理する基板処理装置において、処理槽または処理室内を良好に密閉できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板保持部３４の上部に枠部３３を有する。そして、基板Ｗをチャンバ２０内に搬入したときには、枠部３３を挟んでチャンバ２０とカバー２２とを閉鎖し、チャンバ２０内を密閉する。また、基板Ｗをチャンバ２０の上方に搬出したときには、チャンバ２０とカバー２２とを直接接触させて閉鎖し、チャンバ２０内を密閉する。このため、基板Ｗをチャンバ２０内に搬入したときにも、基板Ｗをチャンバ２０の上方へ搬出したときにも、チャンバ２０内を良好に密閉できる。 （もっと読む）

【課題】固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスを洗浄するにあたり、スペーサの剥がれ、接着剤残りの形成を防ぎ、ドライエッチング時の残渣、環境異物を除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ドライエッチング後に行うドライ洗浄工程と、ドライ洗浄工程の後に行う拭き取り洗浄工程と、拭き取り洗浄工程の後に行う第１ウェット洗浄工程と、第１ウェット洗浄工程の後に行う第２ウェット洗浄工程と、によってドライエッチング後のスペーサ付カバーガラス１２を洗浄するようにした。 （もっと読む）

【課題】複数の細孔を有する薄膜において、その表面のみならず細孔内に付着した汚れをも確実に除去し得る洗浄方法および洗浄装置を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄装置９００は、複数の細孔を有する薄膜２を洗浄するための装置であり、チャンバ９１０と、チャンバ９１０内に設けられたステージ９５０と、ステージ９５０上に配置された容器９２０と、減圧手段９３０と、排液手段９４０と、給液手段９６０と、各部を制御する制御手段９９０とを有している。また、ステージ９５０には、温度調整手段９７０および振動付与手段９８０が内蔵されている。洗浄装置９００は、容器９２０に貯留された洗浄液Ｓに薄膜２を浸漬した状態で、減圧手段９３０によりチャンバ９１０内を減圧することにより、洗浄液Ｓを細孔内に浸透させ、その後、排液手段９４０により容器９２０内から洗浄液Ｓを排液する。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させながら該基板を洗浄処理する際に、基板を汚染させることなく良好に洗浄処理することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第２高さ位置Ｐ２に位置決めして、保持ピンにより未処理基板Ｗの表面Ｗｆを下方に向けたフェースダウン姿勢で保持しながら、基板Ｗの裏面Ｗｂを上面洗浄ブラシ３１で基板Ｗを回転させながら洗浄処理する。続いて、保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第３高さ位置Ｐ３に位置決めして、基板Ｗを第１高さ位置Ｐ１で支持ピン６により支持するとともに、遮断板５を処理位置ＰＬに位置決めして遮断板５の対向面５ａと基板Ｗとの間に形成される空間ＳＰに窒素ガスを供給することで基板Ｗを支持ピン６に押圧保持させる。このように基板Ｗを保持した状態で基板Ｗを回転させて基板Ｗの端面を端面洗浄ブラシ４１で洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＰ線とアルミニウム線との溶接部にウィスカの発生を防止することができるコンデンサ用リード線の製造方法を提供する。
【解決手段】 ＣＰ線１０とアルミニウム線１１とを溶接してコンデンサ用リード線１_０ を形成した後、コンデンサ用リード線１_０ をアルカリ性洗浄液で洗浄した後、アルカリ性洗浄液を除去する工程が行われ、これらの工程の前後に、前記コンデンサ用リード線１_０ を加熱処理工程を行い、これらの工程の後に、ＣＰ線１０とアルミニウム線１１との溶接部１２に熱硬化性樹脂を塗布して樹脂層１３を形成することによって、長期間に渡って溶接部１２にウィスカが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 シール外側の基板間に付着している液晶材料を効率よく、かつ廃液の汚染度を低くして洗浄することが可能な液晶パネルの洗浄装置、及びそのような洗浄装置を用いた洗浄工程を含む液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶パネルの洗浄装置に、内部に洗浄剤が収容された予備浸漬槽と、内部に洗浄剤が収容された超音波洗浄槽と、内部に純水が収容されたリンス槽と、内部に純水が収容された超音波リンス槽と、内部に当該超音波リンス槽における純水よりも高温の純水が収容された高温リンス槽と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 良好な基板の洗浄を提供できる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 基板１１０（１２０）の一縁に略直交する方向で基板１１０（１２０）の一縁端部に向けてクリーンエアーを噴出させる第１気体噴出ノズル２１２と、基板１１０（１２０）の一縁に交差する方向で基板１１０（１２０）の一縁端部に向けてクリーンエアーを噴出する第２気体噴出ノズル２１４と、洗浄液を噴出する洗浄液ノズル２１３と、を設けたヘッド部２１０を、移動制御部にて基板１１０（１２０）の一縁端部に沿って相対的に移動させて基板１１０（１２０）を洗浄する。凹凸のある洗浄領域１０２でも汚染物質を良好に洗浄除去できる。洗浄後の洗浄液を確実に除去できる。 （もっと読む）

【課題】機械的な裁断や研磨処理などを行った後のガラス基板の端面などに付着した異物を効果的に除去する。
【解決手段】液体と気体とをスプレーノズルに供給し、上記スプレーノズルで上記液体と上記気体とを混合した流体を基板に噴射することにより上記基板を洗浄する基板洗浄装置において、スプレーノズルに供給する液体を加熱して上記液体の温度を制御する液体加熱手段を有し、上記スプレーノズル入口における上記液体の温度を４０〜１００℃に制御するようにした。 （もっと読む）

【課題】 少量のシート状材料を洗浄する場合であっても、均一に効率よく洗浄できるシート状材料の洗浄治具およびその洗浄治具を用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 洗浄治具１は、シート状材料６の上辺部をクランプしてシート状材料６を吊下げるハンガー３と、このハンガー３により吊下げられるシート状材料６に隣合い、シート状材料６の水平方向の移動を制限するとともに液体が流通する開口部４ａを有するセパレータ４とをラック２に組み込んで構成されている。この洗浄治具１を、洗浄液を充填した洗浄槽に浸漬してシート状材料６を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 小型で取り扱いやすく、しかもコストが安価でありながら、連続的に蒸気を発生させることができる蒸気発生装置を提供する。
【解決手段】 水を加熱して蒸気化する蒸気発生装置において、全体が金属材よりなる蒸気発生器本体１０と、蒸気発生器本体１０を加熱する加熱手段２０とを含み、蒸気発生器本体１０内に、所定容積の蒸発室１１と、蒸発室１１よりも小径であって給水ポンプから送水される水を蒸発室１１内に供給する給水孔１２と、蒸発室１１よりも小径であって蒸発室１１で生成された蒸気を外部に放出する蒸気噴射孔１３とを一体に形成する。 （もっと読む）

【課題】 長尺な基板に対して長尺方向に均一に処理することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 液体吐出スリット４５から吐出された純水は吐出口４５１に対向させた状態で拡散部３５に設けられた衝突部材４６の上面４６１に垂直に衝突する。衝突後の純水は液膜状態から破砕され、Ｘ方向に沿って両側にＹ方向に広げながら拡散部３５の両側に位置する２つの混合部３８に連通口３７を介して破砕された純水の液滴群が送り込まれる。このため、液滴群はＹ方向に広がった状態で各混合部３８において圧縮空気と混合されミスト状の純水がＹ方向に均一に生成される。さらに、各混合部３８で生成されたミスト状の純水は合流部３９で合流されて合流液体を形成するとともに、該合流液体はＹ方向に延びる開口３１から噴射される。 （もっと読む）

【課題】 表示パネルの端子部をスチーム洗浄するにあたって、噴射する蒸気の帯電量を減らして、端子部に対する帯電量を削減する。
【解決手段】 蒸気発生手段１０と、ホース２０を介して蒸気発生手段１０に接続されるノズル３０とを含み、ノズル３０より表示パネル１の端子部２に向けて蒸気を吹き付け、端子部２に形成されているリード端子を洗浄する表示パネルの端子洗浄装置において、ホース２０およびノズル３０を含む蒸気供給経路の少なくとも一部分に、接地された導電性部材を蒸気供給経路内の蒸気と接触可能に設ける。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置において、微細なパターン間の水残りに起因する、シリンダー倒壊やトレンチ内の乾燥不良等の問題の発生を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】ガス溶解部４４において、純水中に二酸化炭素を加圧溶解させて二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを生成する。二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、ＩＰＡガス雰囲気下におかれているチャンバ１０内に引き上げて基板Ｗを乾燥する。 （もっと読む）

【課題】薬液槽内に貯留した薬液への気体の溶解を抑制して洗浄処理むらを改善することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】被処理体の洗浄に用いられる処理液が貯留される洗浄槽２、洗浄槽２内で被処理体Ｗを保持する被処理体保持機構４と、洗浄槽２に処理液を供給する処理液供給機構３とを具備し、洗浄槽２内で被処理体Ｗを処理液に浸漬させ、洗浄槽２から処理液をオーバーフローさせながら被処理体を洗浄する洗浄装置であって、洗浄槽３の液面を覆うカバー１０と、カバー１０を支持する支持部材１５ａ，１５ｂと、カバー１０が支持部材１５ａ，１５ｂに支持された状態で、カバー１０を液面に追従して移動させる追従機構１４ａ，１４ｂとをさらに具備する。 （もっと読む）

【課題】薬液を効率的に用いて基板の汚染を効果的に除去することができ、これにより薬液の使用量を少なくすることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】この装置は、スピンチャック１は、このスピンチャック１に保持された基板Ｗの周縁部に硫酸をスプレーする硫酸スプレーノズル２と、基板Ｗに純水を供給する上純水ノズル３とを備えている。制御部８は、基板Ｗの周縁部に硫酸スプレーノズル２から硫酸をスプレーさせ、その後に、上純水ノズル３から基板Ｗに純水を供給させる。
【効果】基板Ｗの周縁部で硫酸と純水との発熱反応が生じ、汚染を効果的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】 基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１は、貯留された純水にウエハＷを浸漬して処理する液処理槽６（内槽３０）と、ウエハＷを乾燥させるチャンバ５と、液処理槽６とチャンバ５との間でウエハＷを搬送するためのウエハガイド４と、水蒸気とＩＰＡ蒸気をチャンバ５に供給する流体ノズル７１と、内槽３０に貯留された純水中に浸されたウエハＷをチャンバ５に向けて引き上げる前にチャンバ５内に水蒸気を供給し、ウエハＷを引き上げてチャンバ５に収容したら、水蒸気の供給を停止してＩＰＡ蒸気の供給を開始する制御部９９を有する。 （もっと読む）

【課題】 ウォータマークの発生や帯電現象を低減し、さらに引火の可能性も低減できるようにした基板の乾燥方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 純水処理後のウエーハＷを枚葉式で乾燥させる方法であって、霧状のＩＰＡをＮ_２に乗せてウエーハＷ表面に向けて噴霧すると共に、ＩＰＡが付着したウエーハＷを回転させて、ＩＰＡを発散させる。水分を速やかに取り除くことができ、ウォータマークの発生を防ぐことが可能である。また、ウエーハＷを高速で回転させる必要がなく、それゆえ、ウエーハＷの空気との摩擦による帯電現象を低減することが可能である。さらに、従来例と比べて、ＩＰＡを加熱する必要がないので、引火の可能性がよりいっそう低い。 （もっと読む）