【課題】処理原液を補充するのに最適な時期を決定し，処理液の成分比率と液量とを安定して確保すると共に，処理液の消費量を最小限に抑えることができる処理装置を提供する。
【解決手段】貯留タンク３０に所定の割合で複数の処理原液を補充し，貯留タンク３０内の処理液を基板Ｗに供給して処理する処理装置において，基板Ｗの処理枚数と処理時間とに対応して処理原液を貯留タンク３０に補充する補充機構４０を設け，処理原液を混合して生成した処理液を基板Ｗに供給する。 （もっと読む）

【課題】基体の洗浄時の再付着を防止し清浄度を上げる。
【解決手段】洗浄装置１００において、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄには、洗浄液４１が満たされ、個々の基体２に対し独立して収容できる形状を有する。回収タンク４４の底面部からは、送液ポンプ４６、フィルタ４８を介し送液路５０を通じて個々の洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの底面部に洗浄液４１が供給され、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの上部開放端からオーバーフローした洗浄液４１は、一端オーバーフロー液受槽４２に貯留され、戻し液路５４を介して回収タンク４４に戻され再度使用されることとなる。複数の基体２は、それぞれ保持装置２１に設けられた保持具３０によってその内面が保持され、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄにそれぞれ浸漬される。 （もっと読む）

【課題】 純水もしくは洗浄液を汚染することなく効果的に加熱する液体加熱装置および液体の加熱方法と、この加熱方法を利用した洗浄装置および洗浄方法とを提供する。
【解決手段】 純水を溜めた密閉状態の純水槽５の、上方、側方、あるいは下方のうち少なくとも一方からマイクロ波を照射することにより、非接触で純水を加熱する。 （もっと読む）

【課題】 小型の光学部品の超音波洗浄とスピン乾燥を、３点支持や中央部に貫通孔を有する光学部品保持具で行っていたが、スピン乾燥だけではシミや汚れができてしまい、高度の熟練を要する手拭き作業に頼らざるを得なかった。また、複数種類の形状寸法の異なる光学部品を１つの光学部品保持具で保持して超音波洗浄・スピン乾燥をすることができず、多数の光学部品保持具を必要としていた。
【解決手段】 複数の光学部品保持部を、その一方の寸法を可変にした可変光学部品保持部にするとともに、周縁部が２段構造の光学部品保持具の外側の周縁部に、内側から外側に通じる溝を設け、光学部品載置部は光学部品を固定しないで自由に動けるように保持して洗浄・乾燥を行うようにして課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造において、ウェハ表面に付着した異物を確実に除去でき、異物の再付着、配線の溶解等のない洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造における洗浄方法は、アルミ配線パターンの形成工程後に、アルミ配線パターンが形成された表面に対して、流体をノズル４から吐出させて行う洗浄を使用し、流体は、超純水、または、不活性ガスと超純水又は少なくとも超純水を含む液体とを混合した２流体である。 （もっと読む）

【課題】処理システムに異常が発生しても，被処理体を確実に救済することができる処理方法及び処理システムを提供する。
【解決手段】被処理体を同種の処理液によって順次処理する２以上の処理工程を含む処理方法において，前記同種の処理液で被処理体を処理する２以上の処理工程のいずれかにおいて処理工程に異常が生じた場合に，他の同種の処理液で被処理体を処理する工程に切り換え，その後の処理工程を継続して行うこととした。また，処理システムに，同種の処理液を被処理体に供給する２以上の供給系統１５５，１９２と，前記２以上の供給系統１５５，１９２による供給の切り換えを行う制御部７とを備えた。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置を大きくすることなく、ウエハ、ガラス、金属等に付着した有機物や異物を確実に除去することを可能にする。
【解決手段】液体を加熱して水蒸気を生成するための第１の加熱手段（３）と該第１の加熱手段（３）により生成された水蒸気を更に加熱することにより亜臨界の放射性ガスを製造するための第２の加熱手段（４）とを具備した放射性ガス生成手段（２）と、該放射性ガス生成手段（２）により製造された放射性ガスを被洗浄物上に噴射するためのガス噴射手段（５）と、被洗浄物上に洗浄水の被膜を形成するための洗浄液供給手段（６）とを備え、放射性ガス生成手段（２）により亜臨界の放射性ガスを生成するとともに、搬送手段により搬送されてきた被洗浄物上に洗浄水の被膜を形成し、この洗浄水の被膜上から前記被洗浄物に前記放射性ガスを吹き付けることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板表面への処理液の再付着を効果的に防止する。
【解決手段】 スピンベース５の周縁部付近には、基板Ｗの下面周縁部に当接しつつ基板Ｗを支持する支持部７が複数個、スピンベース５から上方に向けて突出して設けられている。そして、複数個の支持部７によって基板Ｗの下面と対向するスピンベース５から所定の間隔離間させた状態で基板Ｗが水平に支持されている。そして、基板Ｗの上面と雰囲気遮断板９の対向面９ａとの間に形成される空間に対向面９ａに設けられた複数のガス噴出口９ｂから不活性ガスを噴出させる。これにより、基板Ｗはその上面側に供給される不活性ガスによって、支持部７に押圧されてスピンベース５に保持される。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置のさらなるコンパクト化を実現することができるようにする。
【解決手段】 搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに所定の処理を施す基板処理装置１０であって、搬送中の基板Ｂに所定の処理液を供給する処理液供給装置としての、供給した処理液を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０と、前記処理液が供給された後の基板Ｂ上に残留している処理液を除去する処理液除去装置としての、基板Ｂ上の残留処理液を気流によって吹き飛ばすように構成されたエアナイフ３０とが搬送路１７１に沿って直列に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 設備費用などのコストの削減および環境への負荷の低減を実現でき、さらに、被洗浄物である基板が導電性であるか絶縁性であるかという電気的特性に関係なく、洗浄対象物も有機物であるか無機物であるかに関係なく、洗浄することができる基板表面の洗浄方法およびこの方法を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 イオン濃度増加工程Ｂ１で、イオン解離を促進する触媒によって流体中のイオン濃度を増加させるとともに、電界印加工程Ｂ２で流体に電界を印加して、流体中のイオンからラジカルなどの洗浄活性種を生成させる。洗浄工程Ｂ３で、洗浄活性種を含んだ溶液を被洗浄物である基板の表面に供給することによって基板表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 導電部材の乾燥時に変色部分や腐食が発生することを防止することができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 洗浄装置１は、導電部材を洗浄する洗浄部５と、洗浄部５で洗浄した導電部材に対して、第二の洗浄としてのすすぎを行うすすぎ部６と、すすぎ後に水切りを行うブロー部７と、水分を完全に取り除く乾燥部８とを有している。すすぎ部６は、洗浄部５で用いられるアルカリ水よりも高温の純水を導電部材に噴き付けることで、導電部材に残留している物質や水滴を取り除く。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の有機薄膜および汚染物質を、基板を電気的に破壊することなく、環境に対する負担を低減し、低コストで、効率よく基板上から取り除くウェット処理装置およびウェット処理方法を提供することである。
【解決手段】 溶媒のイオン積を増大する触媒２５の存在下に、溶媒中に配置された陽極電極および陰極電極に電圧を印加してラジカルを含む溶媒１８を生成し、このラジカルを含む溶媒１８を基板１０と接触させることによって基板１０表面の有機薄膜および汚染物質を剥離洗浄するウェット装置である。 （もっと読む）

【課題】 洗浄品質及び作業効率を向上させ、かつ、省スペース化を実現することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被洗浄物１０を収納する洗浄槽本体２と、この洗浄槽本体２の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段４と、洗浄槽本体２内に貯めた洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置７と、洗浄槽本体２の下部に設けられ、洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段５と、被洗浄物１０に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置６と、洗浄槽本体２の上部に設けられたオーバーフロー槽３と、を具備した構成としてある。 （もっと読む）

【目的】基板等を良好且つ効果的に洗浄しうる洗浄材を製造する方法を提供する。
【構成】 洗浄材製造容器５の一端部に形成した過冷却液噴出口６２から、水若しくは水とこれより凝固点の低い有機化合物液との混合液である原料液を過冷却状態に冷却してなる過冷却液１ｃを、洗浄材製造容器５内へと噴出させることにより、洗浄材製造容器５内に過冷却液１ｃの乱流領域５３を形成し、過冷却液噴出口６２から噴出された過冷却液１ｃの一部を、洗浄材製造容器５内に発生させた種氷９３ａと接触させることにより、氷粒子に相変化させると共に、乱流領域５３で乱流攪拌することで氷粒子を成長させ、氷粒子と液体とが混在する固液共存のシャーベット状をなす洗浄材１を得るようにし、かくして得られた洗浄材１を洗浄材製造容器５からその他端部に接続した洗浄材供給路７へと流出させるようにする。 （もっと読む）

【課題】 汚れを支持体から取り除くことができる感光体ドラムの製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体１２の上端を洗浄液の液面Ｗよりも上方に残して浸漬させる。支持体１２の外周面から分離した汚れ５０の一部は下降流Ｂに逆らって上昇し、横流れＡに乗り洗浄槽１８外へ導かれ、残りの汚れ５０は、下降流Ｂに乗って洗浄槽１８の底部から洗浄槽１８外へ導かれる。分離した汚れ５０は、支持体１２の下端から支持体１２の内部に洗浄液が流入するため支持体１２の内部に留められる。さらに、支持体１２の内部に満たされた洗浄液と共に内部に留められた汚れが洗浄液の液面Ｗの上方に吐出されないような速度で支持体１２を洗浄液の液面Ｗに沈める。支持体１２全体が洗浄液に浸漬されると、今度は、支持体１２の内部に洗浄液の下降流Ｂが形成され、以後、下降流Ｂとほぼ同じ速度で、あるいは、下降流Ｂよりも遅い速度で支持体１２を洗浄液中に沈めていく。 （もっと読む）

エッチングチャンバ、レジスト剥離チャンバ等の、半導体基板が処理されるプラズマ処理チャンバ用の構成要素の石英表面のウェット洗浄方法は、石英表面を、少なくとも一つの有機溶媒、塩基溶液及び複数の異なる酸溶液と接触させて、石英表面から有機汚染物質及び金属汚染物質を除去する工程を含む。石英表面は、好ましくは、少なくとも２回酸溶液の一つと接触させられる。 （もっと読む）

膜スタックを処理するためのクラスタツール、処理チャンバ及び方法の実施形態が提供される。一実施形態においては、膜スタックのシリコン層と金属層をインサイチュエッチングするための方法であって、処理チャンバ内で膜スタックの金属上層をエッチングして下にあるシリコン層の一部を露出させるステップと、処理チャンバから基板を取り出さずにシリコン層におけるトレンチをエッチングするステップと、を含む前記方法が提供される。本発明は、フラットパネルディスプレイの薄膜トランジスタ製造に特に有用である。 （もっと読む）

処理ヘッドアッセンブリとベースアッセンブリを含むワークピース処理システムであり、処理ヘッドアッセンブリは処理ヘッドと上部ロータを有し、ベースアッセンブリはベースと下部ロータを有している。ベースおよび下部ロータは磁石を備え、この磁石が生成する磁力により、上部ロータは下部ロータと係合可能であり、係合した上下のロータは、処理を受けるために半導体ウエハーが配置される処理チャンバを形成する。ワークピースを処理する処理流体は、処理ヘッドがワークピースを回転させる間に、処理チャンバへ任意に導入される。加えて、処理チャンバの周りと、処理チャンバを通過する気流により、ワークピース上に加わるパーティクルが低減される。
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微量の薬液などを超純水などに供給して洗浄水などとして使用可能な溶液を調製するにあたって、被供給液の供給量を精度よく定めることができる方法を提供する。主流体用流通管（２）に流通する主流体に、被供給液を供給し溶液を調製する液供給方法であって、被供給液を送出する供給部（３）と、供給部（３）からの被供給液を主流体用流通管（２）に向けて流す被供給液用流通管（４）とを備え、被供給液用流通管（４）の内径が０．０１〜１ｍｍとされた液供給装置（１）用い、被供給液を、供給部（３）から被供給液用流通管（４）を通して主流体用流通管（２）に供給するに際して、供給部（３）における被供給液の圧力Ｐ１と、主流体用流通管における主流体の圧力Ｐ２が次の式を満たすようにする。Ｐ１−Ｐ２＞０
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投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。 （もっと読む）