【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、比較的簡易な構成で、安定的にナノバブルを生成することができ、取扱いが容易で、製造コストの低減化を図れるナノ流体生成装置およびナノ流体を用いた洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】直径が１μｍ未満の気泡であるナノバブルを含むナノ流体を生成するナノ流体生成装置において、気体と液体とを混合する気液混合室７と、この気液混合室に加圧した液体および気体を供給する加圧ポンプ４および吸気弁２１を備え、前記気液混合室は、この気液混合室内に設けられ、供給された液体および気体に乱流を発生させて強制的に混合するための突条９，凹溝１０、１２、円錐部材１１等からなる乱流発生機構Ｚと、強制的に混合された混合流体をナノバブルを含むナノ流体にして吐出する超微小吐出口２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ６０により、使用薬液メモリ６８，６９，７０から、第１薬液、第２薬液および第３薬液の各薬液名が読み出され、第１薬液、第２薬液および第３薬液の薬液名とバルブ１８，１９，２０，２３，２５，３１との対応関係を表す薬液−バルブ対応テーブルが作成される。そして、薬液−バルブ対応テーブル、および混触に危険を伴う薬液の組合せに関する情報を登録した混触禁止薬液データベースに基づいて、バルブ１８，１９，２０，２１，２３，２５，３１，３７間での同時開成および相前後する開成を禁止／可能とするバルブの組合せが設定される。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路の洗浄方法において、マイクロ流路の洗浄品質を向上させる。
【解決手段】分岐路２１０Ｂ、２１０ＥＦ、２１０Ｗが設けられたマイクロ流路１１０に対し、分岐路２１０Ｂ、２１０ＥＦ、２１０Ｗの壁面２１０Ｂｔ、２１０ＥＦｔ、２１０Ｗｔに液残りを生じさせないように洗浄液Ｓを通して、上記分岐路２１０Ｂ、２１０ＥＦ、２１０Ｗの壁面２１０Ｂｔ、２１０ＥＦｔ、２１０Ｗｔを洗浄する。
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【課題】照射効率の高い超音波照射装置を提供する。
【解決手段】音響レンズ３２の内周部を円弧状に形成するとともに、外周部を内周部に沿って屈曲した多面体で構成し、外周部の各面３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃに平板状に形成された超音波振動子３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを取り付ける。これにより、音響レンズ３２の厚さ変化を少なくすることができ、超音波の透過効率を高めて、照射効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】表示パネルの端子部上に洗浄水が残るのを防止し、良好な洗浄を行うことができる表示パネルの洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る洗浄方法は、素子基板１０１と、素子基板１０１上の一辺側に形成された端子部１０４と、端子部１０４を露出させるように素子基板１０１上にシール材１０３を介して接着された対向基板１０２とを有する液晶表示パネル１００の洗浄方法であって、洗浄水を用いて端子部１０４を洗浄し、素子基板１０１の端子部１０４が形成された一辺に沿って、端子部１０４上の純水１０７をエアにより押し流し、エアの下流側の液晶表示パネル１００の側面において、対向基板１０２の端子部１０４側の端面と当該端面側のシール材１０３との間の領域に誘導部材１０５を接触させ、純水１０７を素子基板１０１上から外部へ誘導する。 （もっと読む）

【課題】搬送方向に直交する方向に沿ってむらなく均一な圧力でシート状物に液体を噴射することができる噴射装置を提供する。
【解決手段】噴射装置２０は、搬送方向に沿って搬送されてくるシート状物Ｗに液体を噴射する装置である。噴射装置は、搬送方向に直交する方向に沿い等間隔Ｐを空けて一直線上に並べられた複数のノズル本体２１ａ〜２１ｆ，２２ａ〜２２ｆを有するノズル列２１，２２を備えている。隣り合うノズル本体の配置間隔は、他のノズル本体から噴射される液体との干渉が無い場合における、一つのノズル本体から噴射される液体のシート状物上での噴射領域の前記搬送方向に直交する方向に沿った長さの半分以下である。 （もっと読む）

【課題】残留パーティクル成分を微細化する熱交換装置を提供することにある。
【解決手段】純水が流通する螺旋状の発熱管２１と、発熱管の両端部同士を電気的に短絡させる短絡部材２２と、発熱管及び短絡部材を包囲するように配置し、高周波電力に応じて発熱管に対して電磁誘導電力を発生させる加熱コイル２３とを有し、短絡部材は、発熱管の電磁誘導電力に応じて短絡電流を発生し、短絡電流に応じて発熱管を温度調整すると共に、発熱管は、短絡電流の温度調整作用に応じて、同管内を流通する純水の温度を目標温度になるように、純水を温度調整する熱交換装置８Ａであって、純水が流通する発熱管の流入口２１Ａをアース部２５に接地することで、発熱管を流通する純水に関わる残留パーティクルの帯電電荷を放電し、残留パーティクルを微細化するようにした。 （もっと読む）

【課題】石英管が非円管であっても、処理槽内の定位置で均一な洗浄処理を行う。
【解決手段】石英管３の汚れを洗浄する洗浄液５（又は９）を入れた洗浄槽７（又は１１）と、前記洗浄槽７（又は１１）で洗浄された石英管３をリンスするリンス液１３を入れたリンス槽１５と、を備えた石英管洗浄装置１において、前記洗浄槽７（又は１１）内で前記石英管３を回転可能に載置する少なくとも２対のローラ１９と、この２対のローラ１９に載置された石英管３を正転と逆転方向に交互に繰り返して回転せしめる正逆回転駆動装置２１を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の雰囲気を外部に拡散させないために行うチャンバからの排気を低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理槽２０およびシャワーノズル３０を収容するチャンバ４０と、チャンバ４０を密閉するシャッタ４１とを備えている。このため、チャンバ４０から排気を行うことなくチャンバ４０の内部において基板Ｗを処理できる。また、処理槽２０の上面とシャッタ４１の下面との間の距離は２０ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下であり、処理槽２０の外側面とチャンバ４０の内側面との間の距離は５ｍｍ以上かつ２０ｍｍ以下である。このため、チャンバ４０の内容積は小さく、シャッタ４１を開放したときにもチャンバ４０から多量の排気を行う必要がない。 （もっと読む）

【課題】洗浄液中に生成させたナノバブルを利用して、フォトマスク表面のパーティクルおよび有機物を除去できるようにしたフォトマスク洗浄方法および装置の提供を目的とする。
【解決手段】洗浄液を用いてフォトマスクを洗浄するフォトマスクの洗浄方法であって、純水中にオゾンガスからなるナノバブルが生成された洗浄液を作製する工程と、前記洗浄液にフォトマスクを浸漬しフォトマスクを洗浄する工程と、を具備することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法である。さらに洗浄装置１００は、少なくともオゾンガスボンベ１０と、純水中にナノバブルを生成させる洗浄液作成槽２０と、純水にナノバブルが生成された洗浄液が満たされた洗浄槽３０とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】前後の処理の組み合わせに基づき動的処理の配置を柔軟に行うことによって、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。
【解決手段】制御部は、処理工程のうち動的処理を行うことがある特定処理工程ｂを配置する際に、先の特定処理工程ｂの搬送元にあたる処理工程と、当該特定処理工程ｂの搬送元にあたる処理工程と、表（搬送元の処理工程の組み合わせ）に基づき、当該特定処理工程ｂの前に動的処理である水洗乾燥処理を配置するか否かを決定する。したがって、一律に動的処理が配置されることがなく、各ロットの処理工程の配置状況に応じて動的処理である水洗乾燥処理の配置を柔軟に行うことができるので、無駄な動的処理の配置がなくなって基板処理装置のスループットを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】処理液中から基板を引き上げるときに、処理液の液面の高さを一定に保ちつつ、基板に乾燥気体を供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を貯留する処理槽１と、基板Ｗを保持しつつ、基板Ｗを処理槽１内の処理位置と処理槽１の上方位置とにわたって昇降させるリフタ機構３と、処理槽１の上端面に沿う方向にドライエアを供給するエア供給部５と、処理槽１に処理液を供給する噴出管１１を備えている。そして、制御部は、基板Ｗを処理位置から上方位置へ上昇させる際に、エア供給部５から乾燥気体を供給させるとともに、噴出管１１から純水を供給して、処理液の液面を処理槽１の上端の高さで一定に保つ。これにより、基板Ｗが処理液から露出し始める位置を同じ高さに保つことができるので、基板面全体にわたって乾燥状態を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なｐＨ領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】ＮＨ_４ＯＨ：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏが、容積比で１：２：２００〜１：１：１００となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、ｐＨが８〜１２の_ｕｄＳＣ１組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で１〜１００となる希釈比で含有し、ｐＨが８〜１１のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記_ｕｄＳＣ１のｐＨが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のｐＨより高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダメージや乾燥不良の発生を抑制しつつ、処理時間を低減することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＤＩＷによるリンス処理が行われたウエハＷの表面にＨＦＥを短時間供給する。これにより、ウエハＷ上のＤＩＷの大部分がＨＦＥに置換される。その後、ＨＦＥとＩＰＡの混合液の蒸気をウエハＷの表面に供給する。供給された蒸気は、ウエハＷ上の液成分に均一に溶け込んでいく。また、ウエハＷ上に残留しているＤＩＷは、前記液成分に拡散した後、当該液成分の液面から蒸発していく。これにより、ウエハＷ上からＤＩＷが完全に除去され、パターン倒れの発生が抑制される。その後、スピンドライ処理を実施することにより、ウォーターマークの発生を抑制しつつウエハＷを乾燥させることができる。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板上に供給する際に、処理液と基板との間の放電により生じる基板へのダメージを抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、導電性の処理液を基板９に向けて連続的に流れる状態で吐出する吐出部３２を備える。吐出部３２の吐出口３２１の近傍には導電性の接液部３２２が設けられ、接液部３２２は電位付与部４１に接続される。また、基板９の周囲を囲むカップ部２３の帯電により処理対象の基板９は誘導帯電する。処理液を基板９上に供給して基板９を処理する際には、処理液の吐出開始時に接液部３２２を介して処理液に電位が付与され、基板９上に吐出される処理液と基板９との間の電位差が低減される。これにより、処理液と基板９との間の放電により生じる基板９へのダメージを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の被洗浄部品を超音波洗浄する際に、部品同士の重なりを防止して効率良く洗浄することが可能な部品洗浄治具を提供する。
【解決手段】被洗浄部品の一種である複数の弁体１を収容した状態で洗浄槽に満たされた洗浄液中に浸漬され、洗浄槽に配設された振動源からの超音波振動によって洗浄を行うための部品洗浄治具７において、当該部品洗浄治具をベース部材８、及び、当該ベース部材の部品配置面側に積層されるカバー部材９とから構成し、ベース部材とカバー部材とを積層した状態で、各弁体を個別に保持可能な個別保持部１０、及び、各個別保持部側に洗浄液を通液するための通液路１１を形成した。 （もっと読む）

板状物品の表面を洗浄する方法が開示される。この方法は、液体が分配ノズルを通して表面上に連続的液体流状で分配されるようにして表面を自由流洗浄で処理し、そして液体が噴霧ノズルを通して表面に対して小滴の形態で向けられるようにして表面を噴霧洗浄で処理する段階を含んでなる。表面は自由流洗浄段階前に噴霧洗浄段階でそして自由流洗浄段階後に噴霧洗浄段階で処理される。 （もっと読む）

【課題】次回のクリーニング特性を改良することのみならず、良好な第１回のクリーニング特性も与えることのできる硬質表面のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】液状組成物をそのままの形態で硬質表面と接触させる硬質表面のクリーニング方法であって、前記液状組成物が、０．１重量％〜１０重量％の下記式のポリエチレングリコールジエステルと、ビニルピロリドンホモポリマーとを含有する方法である。
【化１】


（式中、置換基Ｒ１及びＲ２は各々独立して、１〜１８の炭素原子を有する置換又は未置換の、線状又は分岐のアルキル基またはアルケニル基であり、ｎは１０〜４００の整数である） （もっと読む）

【課題】 急速な排水および排水制御を行うことのできる排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水Ｌが貯留された洗浄槽１に前記水晶ウェハＷの格納されたバケットが浸漬され、その後揺動装置により所定の揺動動作がバケットＢに対して与えられる。その後前記コック５１の開放により圧縮エアが流通管に供給され、前記吹出口２１に供給される。これにより吹出口の圧力は瞬時に高まり、バルブ４を押し上げる。この動作により、フランジ部４１が上昇し排出口が開放され、洗浄槽１の純水（液体）は排出口から排出される。また、天板部を押し上げた圧縮エアは天板部の内側からバルブの側壁部に沿って下方に導かれ、最終的に前記排出口２２から強勢に排出される。これにより急速排水が実施される。 （もっと読む）