【課題】
【解決手段】導電性の受け板に接合されたシリコン電極を備える多要素電極を再生するプロセスを提供する。プロセスは、（ｉ）硫酸、過酸化水素、及び水を含み、実質的にアルコールを含まないＤＳＰ溶液に多要素電極を浸漬すると共に、多要素電極を脱イオン水によりリンスすることにより、多要素電極から金属イオンを除去することと、（ｉｉ）金属イオンの除去後に多要素電極の一つ以上の表面を研磨することと、（ｉｉｉ）フッ化水素酸、硝酸、酢酸、及び水を含む混合酸溶液により研磨済み多要素電極を処理すると共に、処理済み多要素電極を脱イオン水によりリンスすることにより、多要素電極のシリコン面から汚染物を除去することとを含む。更に広い範囲又は狭い範囲を対象とした付加的な実施形態が考えられる。 （もっと読む）

【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。
【解決手段】試料が収納される処理室１８が設けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部３６は、水質センサ２４の測定結果を入力し、シャワー２０を制御する。制御部３６は、シャワー２０に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー２０を停止させる。 （もっと読む）

【課題】彫刻欠陥、特にキャップの効果的な除去方法であって、彫刻エッジを損傷しない方法を提案する。
【解決手段】本発明は、フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜からマスク投影レーザーアブレーション彫刻欠陥を除去する方法に関する。本発明によると、前記方法は、約１５００ＰＳＩから約３０００ＰＳＩの間で加圧された液体を前記欠陥上に噴霧することを含む。 （もっと読む）

【課題】高濃度オゾン水中のオゾン濃度の減衰を抑制して、オゾン濃度の高い加熱オゾン水を効率的に製造することができる加熱オゾン水の製造方法を提供する。
【解決手段】純水又は炭酸ガス含有純水にオゾンガスを溶解させたオゾン水を加熱する加熱オゾン水の製造方法において、オゾン水を、液体を加熱媒体とする熱交換手段２により昇温速度６．０〜１０．０℃／秒で６０〜９０℃に加熱する加熱オゾン水の製造方法。 （もっと読む）

【課題】目的の微小気泡濃度を有する微小気泡を含む液体を確実に生成して供給することができる微小気泡生成装置および微小気泡生成方法を提供する。
【解決手段】微小気泡生成装置１０は、微小気泡を含む液体を生成する微小気泡発生部１１と、微小気泡を含まない液体を供給する液体供給部１２と、微小気泡発生部１１から微小気泡を含む液体を入れ液体供給部１２から微小気泡を含まない液体を入れることで微小気泡の濃度を調節するための微小気泡濃度調節槽１３と、微小気泡濃度調節槽１３内の微小気泡を含む液体中における微小気泡の濃度を測定する微小気泡濃度測定部１４と、濃度の測定結果により微小気泡濃度調節槽１３に入れる微小気泡を含む液体の量と、微小気泡濃度調節槽に入れる微小気泡を含まない液体の量を調節して、微小気泡を含む液体３０中の微小気泡の濃度を目的の濃度に調節させるための制御部８０とを備える。 （もっと読む）

【課題】金属イオン等の異物を確実に除去することができる微小気泡生成装置微小気泡生成方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】微小気泡を含む液体２３を生成する微小気泡生成装置１０は、微小気泡を含む液体２３を生成する微小気泡液生成部１２と、微小気泡液生成部１２から供給される微小気泡を含む液体２３から、異物を除去する異物除去機構部３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リンス液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面Ｗｆに第１流量（２（Ｌ／ｍｉｎ））でリンス液を供給して初期リンス工程を実行した後に、第１流量よりも低い第２流量（１．５（Ｌ／ｍｉｎ））でリンス液を基板表面Ｗｆに供給して中間リンス工程を実行しているため、リンス液の使用量を抑えることができる。また、リンス液の流量を低下させる前に大流量のリンス液を用いて基板表面Ｗｆ全体にリンス液の液膜を形成しているため、リンス液流量を低下させている中間リンス工程においてもリンス液を基板表面Ｗｆ全体に広げて基板表面Ｗｆ全体を覆うことができるため、基板表面Ｗｆの部分的な露出を防いで基板表面Ｗｆに対してリンス処理を良好に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ぬめりの除去効果を長期間にわたって維持させることができるぬめりの除去剤を提供する。
【解決手段】５０．０質量％以上の酸化マグネシウムと、０．１質量％以上の酸化カルシウムとからなる複合体の粒子を活性成分として含有する粒状物を含むぬめりの除去剤。ぬめり除去剤８を台所流し台の排水口１に接続するトラップ３付きの排水管２に用いる場合には、ぬめり除去剤８を袋状多孔性容器９に収容して、ゴミ取り用バスケット４の底部や、ゴミ取り用バスケット４と椀６との間に設置したり、ドーナツ状の袋状多孔性容器１０に収容して、封水部７の排水管２の周囲に設置したりすることができる。 （もっと読む）

【課題】遊離砥粒残渣を完全に除去することを可能とし、安定した磁気ヘッドの浮上走行を達成し、高品質な情報記録媒体用基板、及び信頼性の高い情報記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性材料からなる板状基板表面に鏡面加工を施した情報記録媒体用基板を純水からなる洗浄液中に浸漬し、且つ、洗浄液中で被洗浄面に対して平行に電場を印加することを特徴とする情報記録媒体用基板の洗浄方法、および非磁性材料からなる板状基板をその表面に鏡面加工を施した後、純水からなる洗浄液中に浸漬し、且つ、洗浄液中で被洗浄面に対して平行に電場を印加する工程を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ブラシの寿命を長くした洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構１０と、基板Ｗを洗浄可能な洗浄ブラシ２１とを備え、保持機構１０に保持された基板Ｗに洗浄ブラシ２１を当接させながら相対回転させて基板Ｗを洗浄するように構成された洗浄装置１において、洗浄ブラシ２１を洗浄するブラシ洗浄器５０を有し、このブラシ洗浄器５０は、洗浄ブラシ２１の表面電位を変化させて、洗浄ブラシ２１の表面電位および当該洗浄ブラシ２１に付着した異物の表面電位を互いに正負が同じ表面電位にすることにより、洗浄ブラシ２１から異物を分離して除去するようになっている。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】基板上の液膜を短時間で凍結させることができる基板処理方法および装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに液膜１１ｆ、１１ｂを形成するために基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに供給するＤＩＷを熱交換器６２３Ａにより常温より低い温度に冷却しているため、凍結膜１３ｆ、１３ｂを生成するのに要する時間を短縮することができる。また、液膜形成前において、スローリーク処理を実行することで液膜形成時の流量よりも小さな微小流量で冷却ＤＩＷを配管６２１Ａから流出させて配管６２１Ａ内に冷却ＤＩＷを流通させる。このため、配管６２１Ａ内の冷却ＤＩＷの温度上昇が防止され、液膜形成のためにノズル２７、９７からＤＩＷの吐出を開始すると、短時間で冷却ＤＩＷの液膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルを高い清浄度で洗浄することができ、かつ、環境への負荷を低減すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）［式中、Ｒは炭素数１２〜２２の炭化水素基を表す。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、かつ、エチレンオキシドの平均付加モル数（ｐ＋ｑの平均）は１〜４である。］で表されるポリオキシエチレンアミンを０．１〜３質量％含有することを特徴とする洗浄剤組成物、および当該洗浄剤組成物を用いることを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
［化１］
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【課題】浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が５重量％以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の端面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、３重量％以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は０．１重量％以上とし、フッ素イオンの含有量は１ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に処理液を供給し基板を鉛直軸回りに回転させて基板を処理する際に、基板を加熱することなく基板上の処理液を加熱して、処理液の温度を基板面内で均一に保ち、基板面内における処理品質の均一性を向上させることができる方法を提供する。
【解決手段】基板保持部１２に水平姿勢に保持されて鉛直軸回りに回転するシリコン基板Ｗの上面へ給液ノズル１６から水溶液の処理液を供給して基板を処理する際に、ハロゲンランプ１８からシリコン基板Ｗの下面側へ波長が１．２μｍ〜５．０μｍの範囲である赤外線を照射する。シリコン基板Ｗを透過した赤外線は、基板上面の処理液に吸収されて、処理液の温度が上昇する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成された金属薄膜を腐食させることなく、基板表面を良好に洗浄することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板表面Ｗｆに銅配線８１が形成された基板Ｗに対してポリマー除去成分を含む処理液による洗浄処理に続けてＤＩＷによるリンス処理が行われる。このリンス処理中においては、ヴィアホール８３ａ内に入り込んだ処理液を短時間でリンス液に置換することは難しく、ヴィアホール８３ａ内に処理液とリンス液が並存し、このことが銅配線８１のうちヴィアホール８３ａの底部に位置する部分に腐食を発生させる主要因のひとつと考えられるが、処理液の酸化還元電位とリンス液の酸化還元電位の差を２０ｍＶ以下とすることで処理液とリンス液の相互作用を抑えて腐食発生を効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】パターンが微細化しても、パターンは破壊されずに異物を十分に除去することのできるフォトマスクの物理洗浄の方法を提供する。
【解決手段】１）密閉可能な洗浄チャンバー１０内の上部に空間Ｋを残して充填された薬液又は純水６０中にフォトマスク５０が浸漬された状態で洗浄チャンバーを密閉し、２）前記空間にＮ₂ ガスを供給して洗浄チャンバー内を高圧にした後に、３）該洗浄チャンバー内の高圧の薬液又は純水を、瞬時に洗浄チャンバーから排出し、高圧から常圧への瞬時の圧力差によってフォトマスクの異物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

結晶シリコン基板に表面凹凸を形成する方法が提供される。１つの実施形態では、前記方法は、結晶シリコン基板を供給する工程と、前記基板を、濡れ剤を含むアルカリ性溶液で濡らす工程と、そして約１μｍ〜約１０μｍの深さを有する構造を持つ凹凸形成表面を前記基板に形成する工程と、を含む。別の実施形態では、基板凹凸形成プロセスを実行する方法は、結晶シリコン基板を供給する工程と、前記基板をＨＦ水溶液でプレクリーニングする工程と、前記基板を、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）化合物を含むＫＯＨ水溶液で濡らす工程と、そして約３μｍ〜約８μｍの深さを有する構造を持つ凹凸形成表面を前記基板に形成する工程と、を含む。
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【課題】大型ガラス基板の洗浄後の乾燥工程において、基板の搬送スピードが向上し、メンテナンス性に優れ、生産性の向上を図ることが可能な乾燥装置を提供する。
【解決手段】温水シャワーノズル２２とエアーナイフ２０とを有し、温水シャワーノズル２２から噴出される温水３４と、次にエアーナイフ２０から噴射される圧縮エアーとにより洗浄後のガラス基板３２を乾燥する。さらに温風ノズル２４を有し、温風ノズル２４は、エアーナイフ２０の圧縮エアー噴射に続いて、温風を噴出する。 （もっと読む）

【課題】洗浄品質の優れた被洗浄物の洗浄処理が得られると共に、装置コストおよび洗浄コストを低減した洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１００は、被洗浄物を洗浄処理する洗浄槽１、洗浄処理に使用された洗浄液Ｒを貯留するサブタンク２、洗浄槽１とサブタンク２とを連通する循環用回収管３および循環用供給管４、サブタンク２をオーバーフローする洗浄液Ｒを外部に移送する移送管７、洗浄槽１に供給装置１０１から洗浄液Ｒを供給する供給管５などを備えた同一構成の４つの洗浄ユニット１０（１０Ａ〜１０Ｄ）が、被洗浄物の移動方向（ＡからＢ方向）の下流側から上流側に向かって（ＣからＤ方向）並列配置されている。そして、サブタンク２内に配設されたオーバーフロー管６によってサブタンク２内に貯留された洗浄液Ｒの液面高さが調節されて、洗浄液Ｒが被洗浄物の移動方向の下流側から上流側（ＣからＤ方向）に向かって移送される。 （もっと読む）