【課題】コロイダルシリカ等の研磨材に由来する微粒子汚れを高い清浄度で除去できる、ハードディスク基板用の洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、アルカリ金属の水酸化物（Ａ）と、遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）と、キレート剤（Ｃ）と、過酸化物（Ｄ）とを含有し、かつ、前記キレート剤（Ｃ）の割合は、前記遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）に対して０．５モル当量以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】均一な洗浄性能を得るとともに、洗浄液供給ノズルと被洗浄基板との間に液膜を形成する際の使用液量を低減することが可能な超音波洗浄ヘッドを備える超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】超音波を、供給される洗浄液に照射することで、被洗浄基板３０を洗浄する超音波洗浄装置１０において、被洗浄基板３０を垂直な姿勢で保持する基板保持手段３１と、洗浄液を供給する複数の超音波洗浄ヘッド２０ａ、２０ｂを備え、超音波洗浄ヘッド２０ａ、２０ｂは、超音波を発生させる超音波振動子２１ａ、２１ｂと、洗浄液を噴射する洗浄液供給ノズル２２ａ、２２ｂを備え、複数の超音波洗浄ヘッド２０ａ、２０ｂは、被洗浄基板３０の洗浄方向に沿って複数設けられており、各洗浄液供給ノズル２２ａ、２２ｂの開口部の中心軸が被洗浄基板３０と超音波洗浄ヘッド２０ａ、２０ｂの間で交差することを特徴とする超音波洗浄装置１０である。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄装置に用いられかつ精密機器や半導体工業部品、及び医療機器の超音波洗浄装置に使用される耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いたガラス洗浄槽において、特に超音波が通過する面の表面状態の改良を行ったガラス洗浄槽及び当該ガラス洗浄槽を具備した超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、
前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、
前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにした。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

洗浄溶剤への直接蒸気注入により目標温度範囲を維持している間に化学洗浄溶剤及び／又は溶剤を導入することにより熱交換器及び同様の容器を洗浄する方法及び装置が開示される。この蒸気は、前記熱交換器に直接注入されてもよく、洗浄溶剤を再循環するため又は前記熱交換器に注入される流体と混合するために暫定側ループに注入されてもよい。本開示の方法は、化学的に還元性の環境において熱交換器から金属酸化物を除去するのに適しており、また、化学的に賛成の環境において銅等の金属種を除去するのに適している。直接蒸気注入によって洗浄溶剤を加熱するときの熱伝導効率を向上させるために、気体スパージングにより、又は複数の熱交換器が同時に洗浄される場合には熱交換器間で流体を移動されることにより、熱交換器の二次側における混合が改善される。
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【課題】基板の帯電防止のために、超純水よりも導電性の高い液体で基板を洗浄するに当たり、この洗浄用液体による帯電抑制効果を簡便かつ的確に確認する。
【解決手段】洗浄用液体の一部を分取し、被洗浄基板と同材質のモデル片と接触させ、該モデル片の静電電位を測定することにより、基板の帯電状況を監視する基板洗浄方法。洗浄用液体を被洗浄基板と同材質のモデル片と接触させる液体接触手段と、該液体接触手段で洗浄用液体と接触しているモデル片の静電電位を測定する静電電位測定手段とを備えてなる帯電抑制効果監視モニター。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするインドール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。
【解決手段】
本願発明者らは、上記課題を達成するために研究を重ねた結果、インドール化合物から、銅等の腐食しやすい金属に対し、高い防食効果を発揮しつつ、廃液からの回収も可能な防食剤、及び同化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物を見出した。 （もっと読む）

【課題】配管を介して供給される冷却流体によって基板を処理する基板処理装置において、低い温度に保たれた冷却流体を安定的に基板に供給する。
【解決手段】二重配管７１により冷却ガスが処理チャンバ１内の冷却ガス吐出ノズル３に供給される。二重配管７１は円環プレート８１に保持され、さらに円環プレート８１がベローズ８２により処理チャンバ１に対して移動自在に連結されている。このため、二重配管７１のうち処理チャンバ１内でノズル３と接続された冷却ガス供給管部７１Ｂは、冷却ガス吐出ノズル３の走査移動に伴い大きく移動変位するが、その移動に伴いプレート８１が移動して冷却ガス吐出ノズル３との距離がほぼ一定値に保たれて冷却ガス供給管部７１Ｂはほぼ直線状態を維持したまま変位する。このように冷却ガス供給管部７１Ｂが湾曲変形するのを抑制し、冷却ガス供給管部７１Ｂの移動により発生する負荷が抑制される。 （もっと読む）

【課題】定検時などで運転を停止したときにプラント機器の内壁表面に付着した付着物を容易に剥離可能に構成するプラント機器の炉壁構造を提供することを課題とする。
【解決手段】プラント機器の金属壁からなる内壁表面に灰、飛灰、クリンカ等の付着物が付着して形成されるプラント機器の炉壁構造において、前記プラント機器の金属壁からなる内壁表面に水で湿潤させることによって該金属壁の境界から剥離可能な状態に化学変化する塗布剤を予め塗布して内壁表面を被膜した後、前記塗布剤による被膜上に付着した付着物に対して放水し、前記付着物をプラント機器の内壁表面から剥離可能に構成させた。 （もっと読む）

【課題】薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減し、排液量を少なくし、処理時間を短縮することができる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送方向における長さが基板Ｗの寸法より短くされた置換水洗室１０、置換水洗室内において基板を一方向へ連続して搬送する搬送ローラ、置換水洗室内の入口付近に配設された入口ノズル１６、入口ノズルより基板搬送方向における前方側に配設された高圧ノズル１８、および、置換水洗室内の出口側に配設されたエアーノズル２２を備えて置換水洗部２を構成した。置換水洗室１０内へ基板Ｗが搬入される前に入口ノズル１６および高圧ノズル１８からの洗浄水の吐出を開始し、置換水洗室内から基板が搬出された後に入口ノズルおよび高圧ノズルからの洗浄水の吐出を停止するように制御する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、簡便な方法で硫酸イオンに対する洗浄効率を上げることができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程と加温する加温工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】部品や製品などの被洗浄物を洗浄液中に浸積させて洗浄する被洗浄物の洗浄において、被洗浄物から除去した異物を確実に洗浄タンク本体１外に排出することができ、異物の再付着を防止することができる被洗浄物の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の被洗浄物の洗浄方法は、洗浄タンク本体１の内壁の内、一対の対向する第１の内壁１１と第２の内壁１２のそれぞれに、該内壁の略全体に亘って所定の間隔で洗浄液ｍを通過させる複数の通孔１１ａ、１２ａを設け、通孔１１ａを介して洗浄液ｍを洗浄タンク本体１内に導入すると共に、通孔１２ａを介して洗浄液ｍを洗浄タンク本体１外へ排出することにより、該洗浄液ｍを第１の内壁１１から第２の内壁１２に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に被洗浄物ｂを配置して洗浄するものである。 （もっと読む）

【課題】ウエハを保持した環状のフレームがスピンナーテーブルの所定位置に確実に固定されたことを確認することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】スピンナーテーブル３１上へのフレーム保持機構３２は環状のフレームの下面を保持する保持面を有する下面支持部材３２１と、下面支持部材に中間部が支持軸３２３によって揺動可能に軸支され支持軸の上側に環状のフレームの上面を押圧する爪部３２２ｂが設けられているとともに支持軸の下側に錘部３２２ｃを備えた振り子部材３２２とを具備している。下面支持部材３２１にはスピンナーテーブルの回転が停止されている状態において爪部より内側にあって保持面より上方に突出し環状のフレームの外周縁を規制する規制部３２１ｅが設けられている。フレームのスピンナーテーブル上への設定がズレていると、フレームが規制部に乗り上げ真空吸着力が低下するので、ズレが検出可能である。 （もっと読む）

【課題】光学部品において、劣化問題を解消するか、または使用期間が延びるように大幅に耐久性を高める。
【解決手段】アルカリ土類金属フッ化物の光学部品を仕上げる方法およびこの方法を用いて製造されるアルカリ土類光学部材に関する。特に、最終研磨工程において本発明の方法は、５００ｎｍ未満の粒径を有するシリカ粒子を含有するコロイドシリカ研磨スラリーを使用する。さらに、コロイドシリカ研磨の後、本方法は、高ｐＨ洗剤洗浄液を用いるメガソニック清浄工程を使用して、研磨された光学部品上の一切のシリカ残留物を除去する。本方法を用いて得られた光学素子の、研磨されたがエッチングされない表面の粗さが０．５ｎｍ未満、研磨およびエッチング後の表面の粗さが０．６ｎｍ未満、およびステップ高が６ｎｍ未満である。 （もっと読む）

【課題】 成膜前の洗浄工程においてパーティクルをさらに効果的に除去し、表面の平滑性の高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体の製造方法において、基体を洗浄する工程と、基体に少なくとも磁気記録層１２２を成膜する工程とを含み、洗浄する工程においては、ガラス基体１１０を洗浄液に浸漬し、洗浄液に浸漬されたガラス基体１１０に向かって超音波を発生させ、超音波を発生させた状態で洗浄液から取り出し、超音波の発生を停止させる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄面の大径化に容易に対応できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る超音波洗浄装置は、洗浄液３９に超音波エネルギーを与える超音波振動子と、前記超音波振動子によって超音波エネルギーが与えられた洗浄液を流す超音波伝搬管３７と、前記超音波伝搬管の下方に配置された、被洗浄物２１を保持する保持機構と、前記超音波伝搬管の側壁に設けられ、前記保持機構によって保持された被洗浄物２１の洗浄面に前記洗浄液３９を吐出するためのスリット又は複数の穴３８と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。回転保持機構７は、容器１Ａの開口部３７から搬入された被処理基板３を水平に保持して回転させる。誘導壁１６，１７は、回転保持機構７の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム３０から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ２２，２３は、誘導壁１６，１７のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板３よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁１６，１７のうち最外周誘導壁１７は、回収位置で開口部３７を閉鎖し、退避位置で開口部３７を開放する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板洗浄方法および基板洗浄装置において、高いスループットを得られ、しかもパーティクル等を効果的に除去することのできる技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆ（パターン形成面）については、凍結洗浄技術によってパーティクル等の除去を行う。一方、基板裏面については、回転する基板下面中心に向けて凝固点近傍温度まで冷却されたＤＩＷと、ＤＩＷの凝固点温度よりも低温の冷却ガスとを吐出する。こうして冷やされたＤＩＷが基板裏面Ｗｂに沿って流れる際に、基板に付着したパーティクル等を除去する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された不要な薄膜その他の不要物を基板に損傷を与えることなく、効率的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板５０を保持する基板保持部３０と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部１５と、噴射部１５と前記基板５０とを相対的に移動させる位置制御部２３とを備えており、基板５０の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射（ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射）して、基板５０に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。 （もっと読む）