【課題】高い洗浄能力を維持し煩瑣な作業を伴うことなく、かつ、基板上に成膜されたトランジスタ素子等の静電破壊を引き起こすことなく効果的な洗浄処理を行うことができる基板洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】搬送される基板Ｗに対して水洗処理を行う直水洗室２０内に、２流体スプレーノズル２４と、２流体スプレーノズル２４の基板搬送方向上流側および下流側にそれぞれ配設されるスプレーノズル３６、３８とを備え、純水タンク２２に貯留された純水を高圧送液ポンプ３４により２流体スプレーノズル２４およびスプレーノズル３６、３８へ供給する装置であって、２流体スプレーノズル２４は、純水をＳＵＳ製のノズル部２４ｂから基板の上面に高速で吐出することにより基板Ｗを正に帯電させ、スプレーノズル３６、３８は、純水をＰＶＤＦ製のノズル部３６ｂ、３８ｂから基板の上面に吐出することにより基板Ｗを負に帯電させて、基板Ｗの電位を中和する。 （もっと読む）

【課題】大口径高重量シリコン単結晶ブロックを自動で洗浄する装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶インゴットをブロック状に切断した単結晶ブロックの表面を洗浄する洗浄装置であって、少なくとも、
前記単結晶ブロックを洗浄するための洗浄槽部と、
前記単結晶ブロックを洗浄前工程部から洗浄工程部、更には洗浄後工程部へと搬送する搬送手段と、
前記単結晶ブロックの端面を把持して、前記搬送手段から前記洗浄槽部内へロードし、前記洗浄槽部内の洗浄槽に浸漬して前記単結晶ブロックを洗浄し、洗浄工程終了後に前記洗浄槽部から前記搬送手段へアンロードする把持ロボットと、
洗浄後の前記単結晶ブロックの表面を乾燥させる乾燥手段と
を具備するものであることを特徴とする単結晶ブロックの洗浄装置。 （もっと読む）

本発明は、ＶＯＣ（揮発性有機化合物）のごく少量を含む１以上の特殊な溶媒に基づく環境に配慮した、多目的、費用対効果の高い組成物に関する。組成物は、好ましくはオン系の組成物である。本発明の好ましい実施態様において、組成物はＶＯＣが無い場合でさえある。それらの低燃焼性又は非可燃性並びにそれらの低ＶＯＣ含有量のため、その組成物はより高い職場の安全性、保険コストの削減、及び環境立法に起因するコストの削減を保証する。 （もっと読む）

【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】流水プレート５２０の流水孔５２０ａから降り注がれた水道水は、回転支持部材５４０Ａに設けられた外側回転羽根５４３および内側回転羽根５４４に当接することで、回転支持部材５４０Ａを回転させる。また、メッシュ部材保持部５４５Ａに保持されたメッシュ部材１６０に注がれた水道水は、メッシュ部材１６０の回転による遠心力に基づき、メッシュ部材１６０の表面および裏面を流れ、メッシュ部材１６０に付着している薬液カスを除去される。メッシュ部材１６０から除去された薬液カスは、そのまま水道水により流体排出用開口部５５０ａから薄板部材洗浄装置５００Ａの外部に排出される。 （もっと読む）

【課題】より低価格な油孔洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】油孔洗浄装置では、油孔４８をボール４９で塞ぎ、油孔４６の他端１１７を閉塞部材８７で塞いだ状態で、（ａ）と（ｃ）に示すように、油孔４６の一端１１６を閉塞部材８１で塞ぐと共に油孔４５の一端１１９へ洗浄ノズル５４で洗浄液を注入するか、又は（ｂ）に示すように、油孔４５の一端１１９を閉塞部材６１で塞ぐと共に油孔４６の一端１１６へ洗浄ノズル７４で洗浄液を注入する。
【効果】全油孔を開放して洗浄液を注入する場合に比べ、油孔内の液圧力の低下を防止できるので、洗浄液供給手段の負荷が軽減される。そのため、洗浄液供給手段の能力を下げられ、洗浄液供給手段の価格が下がるので、より低価格な油孔洗浄装置を提供できる。 （もっと読む）

【課題】貯水タンク１０から送水ポンプ２４によって散水ノズル８に給水し、容器搬送コンベヤ６の上方から散水した処理水を、回収手段１２を介して回収し貯水タンク１０に環流させて、処理水を循環させる容器散水処理装置であって、貯水タンク１０の収容水量を循環中に必要とする水量よりも小さい量とする。
【解決手段】前記回収手段１２の排出管１２Ａｄに給水制御手段としてのバルブ１８を設けて、回収手段１２を補給手段として利用できるようにし、散水開始時には、送水ポンプ２４を作動させるとともに、前記バルブ１８を開放し、貯水タンク１０の水を散水ノズル８に送りつつ、回収手段１２内の水を貯水タンク１０に補給する。 （もっと読む）

【課題】 超音波の強度を簡易かつ低コストで測定可能な超音波の強度測定方法及び強度測定装置を得る。
【解決手段】 実施例に係る超音波強度測定装置１１は、洗浄液１３に浸漬された発塵体２２と、前記発塵体２２を測定対象となる超音波により加振することで該発塵体２２から剥離した粒子を該洗浄液１３中に溶出させる振動子１７と、前記洗浄液１３中の粒子の数を計数する計数部２１と、前記計数された粒子の数に基づいて前記測定対象となる超音波の強度を演算する演算部４５と、を備える。このため、音圧計を用いることなしに、超音波の強度を簡易かつ低コストで測定することができる。 （もっと読む）

【課題】システムから腐食生成物を除去する。
【解決手段】システム温度を46.1℃〜100℃に調整する工程２、システムに洗浄溶解溶剤を注入する工程４、システムを洗浄溶解溶剤で充填した後にシステムにガスを注入し、このガスをシステム内の溶剤と混合する工程６、溶解の所定時間後にシステムから溶剤を排出する工程８、システムに不動態化組成物を注入する工程１０、システムにガスを注入し、このガスを不動態化組成物と混合する工程１２、不動態化の所定時間後に組成物をシステムから排出する工程１４、システムを少量の溶液でリンスする工程１６、次いでシステムを完全量の溶液でリンスする工程１８、を含む方法。 （もっと読む）

【課題】従来の線材を走行方向に沿って上下からのワイピング作業や線材を輪取りした状態で行う超音波洗浄では、線材表面に強固に付着している潤滑剤の残渣を確実に除去することが不可能な場合がある。
【解決手段】潤滑剤を用いて伸線加工された線材を湯水による洗浄水中で走行させ、その洗浄水中で走行方向に沿ってワイピングクロスによる挟持部で複数個所異なる角度で挟持すると共にその挟持部を走行方向と直交する方向に振動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成された液膜に超音波振動を付与する基板処理装置および基板処理方法において基板へのダメージを低減する。
【解決手段】基板表面Ｗｆ上にＨＦＥ液（第１処理液）の液膜ＬＦ１が形成され、さらにＨＦＥ液の液膜ＬＦ１上にＤＩＷ（第２処理液）の液膜ＬＦ２が形成される。そして、この液膜ＬＦ２に対して超音波振動が付与される。したがって、超音波振動の付与により液膜ＬＦ２で発生した衝撃波の全てが液膜ＬＦ１を介して基板表面Ｗｆに到達するのではなく、その一部は両液膜ＬＦ１、ＬＦ２の間に形成された界面ＢＦにより反射される。また、界面ＢＦを通過してきた衝撃波は液膜ＬＦ１を通過して基板表面Ｗｆに達するまでの間に減衰される。したがって、超音波振動より液膜ＬＦ２中で発生して基板表面Ｗｆに与えられる衝撃波のエネルギーが効果的に低減される。 （もっと読む）

【課題】超音波振動面を被洗浄物表面に近づけて処理する超音波洗浄装置で、被洗浄物に照射される超音波強度の均一性を上げ、かつ被洗浄物からの反射波の影響による発振器の不安定動作を防止し、さらに振動面−被洗浄物間での定在波の発生を抑えることで、被洗浄物のダメージを抑制し、安定かつ高い洗浄性能を得る。
【解決手段】超音波洗浄装置において、振動素子１２０と、超音波発振器１１０と、振動伝達材１３０と、洗浄液供給配管１４０とを備える。特に、振動伝達材１３０は、一端に振動素子１２０を配置し、他端に被洗浄物Ｗに対向する振動面１３１を配置し、かつ振動面１３１は被洗浄物Ｗに向かって少なくとも２個以上の微小突起１３２などの凹凸部を備える。そして、洗浄液１４１に凹凸部を有する振動面１３１を接触させて超音波を発生させる。 （もっと読む）

【課題】構造を簡素化しつつ、効果的に洗浄できる超音波洗浄装置、及び超音波洗浄装置の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】超音波洗浄装置１は、洗浄液１１を貯留する洗浄液槽２と、洗浄液槽２内に設けられて、被洗浄物１０を支持する支持体３と、洗浄液槽２内に設けられて、被洗浄物１０に洗浄用超音波を発信する複数の超音波トランスデューサー４１が少なくとも一方向に沿って配置される超音波センサー４と、超音波センサー４を制御して、洗浄用超音波を発信させる制御部と、を備え、制御部は、各超音波トランスデューサー４１から被洗浄物１０の洗浄箇所までの距離に応じて、各超音波トランスデューサー４１から発信される洗浄用超音波の発信時間を設定する。 （もっと読む）

【課題】排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ４内には、基板を水平に保持して回転させるスピンチャック１７と、スピンチャック１７の上方に配置された円板状の遮断板１４とが収容されている。遮断板１４の下面には、スピンチャック１７に保持される基板の表面と対向する基板対向面が形成されている。処理チャンバ４の上部に設けられた給気ユニットには、処理チャンバ４内に清浄空気を供給するための給気口６５が形成されている。給気口６５は、下向きの給気口であり、平面視において遮断板１４の周囲を取り囲む円環状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

パルス・ウォータージェットを用いてシリンダ・ボアの表面を前処理するための装置及び方法が、信号発生器を用いて周波数ｆを有する信号を発生させる段階、出口穴直径ｄ及び長さＬを有するノズルの出口穴を介してパルス・ウォータージェットを生成するように信号を印加する段階を含む。このパルス・ウォータージェットは、所定の表面粗さ範囲内に合わせて表面を前処理する。表面粗さは、スタンドオフ距離（ＳＤ）、ノズルのトラバース速度Ｖ_ＴＲ、水圧Ｐ、水流量Ｑ、穴の長さ対直径（Ｌ／ｄ）比率、並びに信号の周波数ｆ及び振幅Ａを含む、作動パラメータを選択することによって決定される。
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【課題】保守作業を簡易化してエッチング処理の効率を向上させることが可能なエッチング処理装置を提供する。
【解決手段】エッチング液を収納するエッチング槽１２と、エッチング槽１２に接続される駆動部２０、２２、２４と、駆動部の駆動部材の少なくとも一部に洗浄水を供給する洗浄部２８、３４とを備える。また、ひとつの実施形態で駆動部２０、２２、２４は、エッチング液を揺動させる揺動機構の揺動軸３６であり、前記揺動軸３６は軸受けプレート３５に覆われており、前記洗浄部２８、３４が、前記軸受けプレート２５の内部に前記洗浄水を供給する。 （もっと読む）

本方法は、鉄溶解試薬としてホスホン酸を含有する化学薬品溶液をガスタービン前方燃焼カンの四次環状チャンバに送達して酸化鉄堆積物を溶解し、それにより内部燃料経路のクリーニングを容易にする。本方法では、流れ配向バッフルを有するクリーニングフランジを四次燃料フランジに取付ける。流れ配向バッフルは、四次燃料オリフィスに入り、四次環状チャンバ内でクリーニング溶液の流れを一方向に差し向ける。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形部品に流路が形成されていると、流路に異物が付着したままとなる場合があり、洗浄用液体容器内に投入した樹脂成形部品のうち、洗浄後の異物が付着していない樹脂成形部品の割合を高めることができないという課題がある。
【解決手段】流路としての吐出液供給路１０２が形成された樹脂成形部品としてのケースヘッド１０１の洗浄方法であって、液体としての純水７を収容する液体容器２の内側に備えた網容器３の内部にケースヘッド１０１を投入し、液体噴射ノズル４によって、網容器３の縁ｓ付近から網容器３の底部ｕに向かって純水を噴射し、ケースヘッド１０１を網容器３内の液体中で自転及び循環させる洗浄方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】超音波振動子（ＢＬＴ）の周波数特性を安定させる。
【解決手段】洗浄槽１３内に振動板３５を設ける。振動板３５に複数のＢＬＴ４５を固定する。洗浄槽１３に、槽内の液体を吸引する吸引口３２を設ける。吸引口３２に、循環路８３を接続する。循環路８３に、第１循環路８５と第２循環路８６とを接続する。両循環路８５，８６の他端を、それぞれ給水ノズル３１ａ、各カプラ３３ａ，３３ｂに接続する。循環路８３にＣＰ（循環ポンプ）８４を設ける。ＢＬＴ４５を駆動して超音波洗浄を開始する前に、ＣＰ８４を駆動して洗浄槽１３内の液体を循環する。洗浄槽１３の内面や振動板３５等に気泡が付着する。ＢＬＴ４５から出力される超音波が気泡により吸収されるため、洗浄槽１３の内面や振動板３５からの超音波の反射が防止される。ＢＬＴ４５の周波数特性が安定する。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）