【課題】 希少金属層が設けられている基板から希少金属を剥離処理して、当該希少金属を高い効率で回収できる金属回収機構を有する基板処理装置の提供。
【解決手段】 基板を載置するステージ部Ｆと、
水蒸気及び水を含む混相流体を前記基板に噴射して前記基板上の希少金属を剥離する、混相流体噴射部Ｅと、
槽壁１７１、前記混相廃物を排出する排出管１７２、を有するチャンバ部Ｉと、
前記排出管から送られる混相廃物を液相と気相とに分離する気液分離機構１８１、該気液分離機構により分離された液相から希少金属を回収する固液分離手段１８２を有する、混相廃物中の液相に存在する希少金属を回収する第一処理部Ｇと、
前記第一処理部の気液分離機構から送られる気相に含まれる希少金属を回収するサイクロン式分離機構１９１を有する、混相廃物中の気相に存在する希少金属を回収する第二処理部Ｈと、
を具備する基板処理装置１００。 （もっと読む）

【課題】装置全体での熱消費量を抑えた洗浄装置を実現することを目的とする。
【解決手段】
外部の給水箇所から水を供給する水供給ラインと、水供給ラインから供給された水を加熱して温水を生成する加熱手段と、加熱手段により生成された温水を第二洗浄手段に供給する第二供給ラインと、第一洗浄手段及び第二洗浄手段から噴射された温水を回収する回収タンクと、回収タンクに回収された温水を第一洗浄手段に供給する第一供給ラインと、回収タンクに溜まった温水を排出する排水ラインと排水ラインを流れる温水と加熱手段より上流において水供給ラインを流れる水との間で熱交換させる熱交換器とを備えた洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】基板の表面からリンス液を良好に除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷの表面に純水が供給され、ウエハＷの表面に対するリンス処理（ウエハＷの表面を純水で洗い流す処理）が行われた後、純水よりも表面張力の低いＩＰＡ液がウエハＷの表面に供給される。また、ＩＰＡ液の供給と並行して、ウエハＷの表面と反対側の裏面に温水が供給される。 （もっと読む）

【課題】通風部材の清掃成果を向上させながらも清掃作業時間の短縮も図ることができる洗浄装置等の提供。
【解決手段】洗浄装置１は、フィルタ１７を清掃するものであり、送風部５と、送水部７と、フィルタを支持する支持部９と、送風部からの送風及び送水部からの送水を制御する制御部１３とを備える。制御部は、フィルタに対する第１の送風と、その第１の送風の後、フィルタに対する送水と、その送水の後、フィルタに対する第２の送風とを行うように、送風部の送風及び送水部の送水を制御する。 （もっと読む）

【課題】往復揺動による表面処理において、処理効率が高く、かつ処理時間の短い、耐久性に優れた表面処理方法を提供する。
【解決手段】揺動槽１内に処理材１２及び被処理物１３を収容し、揺動槽１を略等速で往復揺動させて被処理物１３の表面を処理する表面処理方法であって、往復揺動において、少なくとの２以上の速度の異なる揺動区間を有し、揺動区間のうち、揺動端を含む揺動区間における速度が最も小さい。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の減圧沸騰および突沸の有無を切り替えることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】減圧手段５により洗浄槽３内を減圧後、液相給気弁１８を開いて、洗浄槽３の内外の差圧により被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の水溶液中に外気を導入する。減圧手段５による洗浄槽３内の減圧は、洗浄槽３内の水溶液が所定温度未満の場合には、水溶液を沸騰させるが、洗浄槽３内の水溶液が所定温度以上の場合には、水溶液を沸騰させない範囲の減圧に止める。水溶液を沸騰させた場合、その後の水溶液中への外気導入により、その気泡を核として、水溶液を突沸させる。 （もっと読む）

【課題】より低コストかつ省資源な洗浄を行うために、ガス溶解水を用いた高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄のみにより、超音波洗浄を組み合わせる必要がない程度に十分な洗浄効果をあげる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄流体吐出ノズルから洗浄液又は洗浄液と気体との混合流体を被洗浄物に向けて吐出させて、被洗浄物を高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄する洗浄方法において、流体吐出ノズルに導入される洗浄液に溶存ガスを含ませる。溶存ガスは、所定の圧力が加えられることにより洗浄液に溶解され、溶存ガスの洗浄液への溶解量は、洗浄液の液温における飽和溶解度を第１飽和溶解度とし、洗浄液の液温を保ったまま所定の圧力を加えた状態における飽和溶解度を第２飽和溶解度とした場合に、第２飽和溶解度と第１飽和溶解度との差の１０〜７０％を第１飽和溶解度に加えたものとする。 （もっと読む）

【課題】 研磨速度の低下を抑制すると共に研磨傷の発生を抑制することが可能なＣＭＰ研磨液の洗浄液、これを用いた洗浄工程、並びにこれを用いた半導体基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ＣＭＰ研磨液の供給装置を洗浄するための洗浄液であって、強酸を含有するＣＭＰ研磨液用洗浄液。ＣＭＰ研磨液用洗浄液に含まれる強酸は、硫酸、シュウ酸、次亜塩素酸、フッ酸、硝酸、塩酸から選ばれる少なくとも１種類の化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】洗浄音を低減させ、水の消費量を抑え、耐久性を向上させると共に、洗浄能力の高い調理鍋の洗浄装置を提供する。
【解決手段】調理鍋１２の内側面を洗浄してから仕上げ濯ぎを行う調理鍋の洗浄装置１１であって、調理鍋１２を垂直に位置させて保持する保持部１３と、洗浄水を貯留する洗浄タンク１４と、該洗浄タンク１４と配管３１を介して連通する洗浄ポンプ１５と、該洗浄ポンプ１５から洗浄水が所定圧力で送出される洗浄ノズルパイプ１６と、該洗浄ノズルパイプ１６に設けられ、洗浄水を調理鍋１２に向けて噴射する洗浄ノズル１７と、電磁弁と、該電磁弁を介して仕上げ濯ぎ水が送出される仕上げ濯ぎノズルパイプと、該仕上げ濯ぎノズルパイプに設けられ、仕上げ濯ぎ水を調理鍋１２に向けて噴射する仕上げ濯ぎノズルとを備え、当該洗浄タンク１４内の洗浄水が繰り返し循環使用される構成の調理鍋の洗浄装置１１である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、超音波による洗浄装置および洗浄方法に関するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、超音波を発生する超音波振動子と、超音波振動子に固定されて超音波を洗浄液に照射する超音波照射面が扁平な振動体とを具備する振動体ユニットと、振動体ユニットを回転して超音波照射面に交わる方向を軸として超音波照射面の角度を変える照射面角度制御部と、洗浄対象の基板を保持し基板を回転させる基板回転部と、振動体の超音波照射面を洗浄面に向けて一定間隔を保持しながら振動体ユニットを移動させる振動体移動機構と、超音波照射面と洗浄面との間に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備えるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】酸液による酸洗工程の後の水洗工程において、酸液の除去の完了を簡単に、かつ、精度良く判断することが可能な多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸液に対して耐食性を有する合成樹脂で構成され、塊状の多結晶シリコンを収容するバスケットと、酸液による酸洗工程後の多結晶シリコンを前記バスケットに収容したままの状態で純水中に浸漬させるための水洗槽と、純水を前記水洗槽から排出する純水排出手段と、前記水洗槽に新たな純水を供給する純水供給手段と、前記水洗槽内に貯留された純水の電気伝導度を測定する電気伝導度測定手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物から剥離して洗浄水の液面に浮遊した油分を効果的に除去することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】ガラスリング１８の内周面１８Ａと接触する洗浄水Ｗの液面の縁部Ｅが、液面の一般部Ｇに比べて鉛直方向で高くなっている。このため、洗浄槽１２に供給された洗浄水Ｗによって溢れ出た洗浄水Ｗ及び洗浄水Ｗの液面に浮遊した油分Ａは、回収筒３４に流れ込む。このように、液面に浮遊する油分Ａが効果的に、回収筒３４に流れ込んで回収される。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ−ＬＣＤ用剥離液組成物添加剤であるメルカプト基が含まれたアゾール系化合物を腐食防止剤として用いて、水の含有量変化時にもＣｕ及びＡｌの腐食防止及びフォトレジスト剥離能力を一定に維持する水系フォトレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】（ａ）１級アルカノールアミン１〜２０重量％；（ｂ）アルコール１０〜６０重量％；（ｃ）水０．１〜５０重量％；（ｄ）極性有機溶剤５〜５０重量％；及び（ｅ）腐食防止剤０．０１〜３重量％；を含むＬＣＤ製造用フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が形成された基板を適正に再利用できる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】対向基板に無機配向膜を形成する工程と、無機配向膜の欠陥を検査する工程と、検査工程において無機配向膜に欠陥が検出された場合に、無機配向膜をフッ素系の処理ガスを用いて除去する工程と、フッ素系成分を含む残渣を除去するべく対向基板を純水超音波洗浄する工程と、対向基板に再び無機配向膜を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】液中洗浄と気中洗浄とを行うことができるタレット式洗浄装置を提供すること。
【解決手段】タレット式洗浄装置１は、クイル２１に固定されたセンターポスト２２と、センターポスト２２に軸支されたタレットヘッド４と、ワークＷを洗浄するための洗浄工具Ｔと、タレットヘッド４を旋回させるタレット駆動装置６と、タレットヘッド４が配置された洗浄室３と、洗浄液Ｃを貯溜する洗浄槽７と、ワークＷを回動させる回動ユニット８と、洗浄液Ｃを供給する第１洗浄液供給流路１４と、洗浄液Ｃを供給する第２洗浄液供給流路１５と、第１洗浄液供給流路１４及び第２洗浄液供給流路１５に洗浄液Ｃを供給する洗浄液供給源１６と、洗浄槽７内の洗浄液Ｃを排出する排出口７ａと、を備えている。タレット式洗浄装置１は、選択された洗浄工具ＴからワークＷに洗浄液Ｃを噴射することによって液中洗浄、半液中洗浄及び気中洗浄することが可能である。 （もっと読む）

【課題】コストおよび環境負荷の低減を図ることができる、塗料配管内の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塗料配管５内から塗料が排出された後、塗料配管５内を強アルカリ電解水が流通する。これにより、強アルカリ電解水が塗料配管５の内面とその内面に付着している塗料との間に入り込み（浸透作用）、さらに、強アルカリ電解水中のマイナスイオンが塗料を包み込んで、そのマイナスイオンと塗料配管の内面上のマイナスイオンとの間に生じる反発力により、塗料配管５の内面上から塗料が剥離される（剥離作用）。よって、多量の洗浄用シンナーを使用することなく、洗浄用シンナーよりも安価な強アルカリ電解水を使用して、塗料配管５内の洗浄を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法で、付着異物の除去が効果的な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法であって、高い圧力をかけてノズルから、純水を微粒径の状態状態で噴射させて、前記遮光膜付き基板の遮光膜にあてる、純水ジェット洗浄処理を施す。 （もっと読む）

【課題】被処理基板のエッチング時において被処理基板のエッチング量の面内均一性を向上させることが可能な基板の処理装置を提供する。
【解決手段】ガスの供給部および排気部を有する処理チャンバ；処理チャンバ内に配置され、被処理基板を回転可能および上下動可能に保持する保持部材；チャンバに供給するガスの温度調整を行うための第１温度調整器；被処理基板にエッチング液を供給してエッチング処理を行うためのエッチング液供給部材；エッチング液供給部材とチャンバの外部で接続されたエッチング液供給タンク；タンク内のエッチング液の温度調整を行うための第２温度調整器；および第１、第２の温度調整器によるガスの温度調整およびエッチング液の温度調整をチャンバ内の温度がタンク内のエッチング液の温度より高く、かつそれらの温度差を一定になるように制御するための制御機構；を具備した基板の処理装置。 （もっと読む）

【課題】２種以上の水系顔料分散体を１つの製造装置を用いて工業的スケールで製造する場合でも、洗浄の際に水系顔料分散体製造装置に付着した付着物を速やかに除去することができるようにする。
【解決手段】 酸型の水不溶性ポリマーを分散剤として含む水系顔料分散体の製造装置の洗浄方法は、水系顔料分散体製造装置における水系顔料分散体が接触する部分を、炭素数６〜１２のグリセリルエーテルを含む洗浄剤で洗浄する炭素数６〜１２の有機溶剤洗浄工程、及び／又は、メチルエチルケトン若しくはメチルイソブチルケトンとアルカリ剤とを含んだアルカリ系溶液からなる洗浄剤で洗浄するアルカリ系溶液洗浄工程を備える。 （もっと読む）