【課題】基板の表面からリンス液を良好に除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷの表面に純水が供給され、ウエハＷの表面に対するリンス処理（ウエハＷの表面を純水で洗い流す処理）が行われた後、純水よりも表面張力の低いＩＰＡ液がウエハＷの表面に供給される。また、ＩＰＡ液の供給と並行して、ウエハＷの表面と反対側の裏面に温水が供給される。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄装置は、電子基板や電子部品などの洗浄にしか使用できず、上水や下水処理プラントなどの水質計器においては活用できず洗浄効果が十分に行えない問題点があった。
【解決手段】水質を検知する水質計器２のセンサ部２１を洗浄する第１の洗浄手段３及びこの第１の洗浄手段とは洗浄方式の異なる上記水質計器２のセンサ部２１を洗浄する第２の洗浄手段４と、これら第１及び第２の洗浄手段を制御する制御手段５とを備えるようにしたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】一辺が１ｍを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル３１と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを１つ以上３２、３３有し、且つ、１つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール３３の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル３４と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル３５とを有する洗浄部３０と、洗浄部３０の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ４１を具備する乾燥部４０と、大型基板９０を直立させて保持する基板保持搬送治具５０と、洗浄部３０の下方に配置された投入払出部６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細な回路が形成されたテープ状物やスペーサテープに付着した異物を洗浄除去するために好適に用いられる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄体の移動経路上で被洗浄体を洗浄する洗浄装置であって、被洗浄体を移動させる被洗浄体搬送手段、先端に設けた水供給ノズルから水を噴出して被洗浄体の表面に水膜を形成させる水供給手段、及び、先端に設けた過熱水蒸気供給ノズルから水膜の温度よりも高い温度の過熱水蒸気を噴出して水膜に当てる加熱水蒸気供給手段を備える洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄排液を安価な汎用の配管で排出して移送することができ、また、洗浄液の加温エネルギーの低減を図ることもできる熱回収型洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄物を高温の洗浄液で洗浄する洗浄機１と、該洗浄機１に洗浄液を供給する手段と、該洗浄機１から洗浄排液を排出する手段とを有する洗浄装置において、該洗浄機１から排出される高温の洗浄排液と該洗浄機１に供給される洗浄液とを熱交換して該洗浄排液を冷却する熱交換器４を設けたことを特徴とする熱回収型洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】化学処理に用いる薬液の温度を一定に保ちつつ、長尺のワークを連続的に高温純水で洗浄するための省エネルギー化された高温純水洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄槽６と、洗浄槽６内でワークＷに対し高温純水を噴射可能の噴霧ノズルを設けた一対の洗浄管４と、高温純水供給管３と、ドレン抜き５とを設けた洗浄装置Ａと；ワークＷの化学処理を行う処理槽１０と、薬液７が貯蔵されたタンク８と、タンク８内の薬液７を処理槽６へ送るためのポンプ９と、処理槽６内の薬液をタンク８へ戻す為の戻り配管１３と、タンク８内に設置されていて一端が純水供給ライン１に他端がラインヒータ２を介して高温純水供給管３に接続された熱交換器１１とを設けた高温純水発生装置Ｂ；を備えている。 （もっと読む）

【課題】高度に清浄化されたハードディスク用基板の製造を可能とする製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有するハードディスク用基板の製造方法であって、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する基板を第１液中に浸漬させる工程Ｉと、中性またはアルカリ性の洗浄剤で前記基板を洗浄する工程IIIと、前記工程Ｉの後、前記
工程IIIの前に、第２液に前記基板の全表面が接するように、前記基板を前記第２液中に浸漬させる工程IIを含み、前記基板が浸漬されている時の前記第１液が酸性であり、前記基板が浸漬されている時の前記第２液のｐＨが１〜４である。 （もっと読む）

【課題】高圧で洗浄を行なう必要がなく、異物が混入しても詰まるようなことなく、気泡の発生を防止して高い洗浄効果で洗浄を行なうことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を圧送する加圧部１。液体に気体を注入する気体注入部２。気体を注入された液体が加圧部１で圧送されることによる加圧で液体に気体を溶解させる加圧溶解部３。加圧溶解部３で気体を溶解させた気体溶解液の圧力を、気体溶解液の流入側から流出側に向かって順次大気圧まで減圧する減圧部４（流路長さの調整で気体溶解液の圧力を大気圧にまで減圧するように形成された流路６で構成）。減圧部４で減圧された気体溶解液を吐出する吐出部１２。これらを備え、加圧部１、気体注入部２、加圧溶解部３の各部を連続的に運転させて、減圧部４に気体溶解液を乱流状態で連続的に供給し、吐出部１２から気泡の発生のない気体溶解液を連続的に吐出させるようにする。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いてアルミニウム基体表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能な洗浄方法、洗浄装置を提供することにあり、更に、異常成長の原因が少ないアルミニウム基体洗浄方法、及びそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも脱脂工程およびリンス工程を有する洗浄工程を有するアルミニウム基体を洗浄する洗浄方法において、該脱脂工程においては２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つの脱脂槽の洗浄液に印加し、該リンス工程においては１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つのリンス槽の洗浄液に印加することを特徴とする基体洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 ガラスを破損させ得るような力を加えなくとも、ガラスに付着したガラスカレットを除去できるガラスの洗浄方法を提供することを課題としている。
【解決手段】 粒子径０．５〜２．０μｍの気泡を含有している水を用いてガラスを洗浄するガラスの洗浄方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法において、各ガラス基板の洗浄状態のバラツキをなくし、ガラス基板が次工程に持ち込む塵埃の数を一定にすることにより、常に安定した品質を保つことを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、ガラス基板１５０の研磨工程と、複数の洗浄槽内に少なくとも成分の異なる２種類以上の洗浄液１１２を洗浄槽１１４ごとに洗浄液１１２の種類を分けて供給しながら洗浄液１１２にガラス基板１５０を浸漬してタクト方式による洗浄を行う洗浄工程とを含み、洗浄工程において、洗浄液１１２に含まれる塵埃の数を計数し、計数した塵埃の数に応じてタクト時間内に塵埃の数が所定値以下となるよう洗浄液１１２の供給量を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理液供給ユニット１３内の処理液の減少に起因する基板処理装置の強制停止の頻度を減少させて、処理液を有効に使い、歩留まりの良好な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に液処理を施す複数の液処理ユニット１２と、複数の液処理ユニット１２に対する基板の搬入・搬出を行う基板搬送手段と、複数の液処理ユニット１２へ処理液を供給する処理液供給ユニット１３と、前記処理液供給ユニット１３の処理液貯留槽１６内の処理液の残量を検出するレベルゲージ１６１を備えて、レベルゲージ１６１が検出する処理液貯留槽１６内の処理液の残量が所定量を下回る場合に、液処理ユニット１２への基板の搬入を停止する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジスト剥離後に、静電気で引き寄せられて再付着したゴミを洗浄するためのマスク洗浄装置及びマスク洗浄方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、プラズマアッシャーでマスクからレジストを剥離するドライ洗浄機と、前記ドライ洗浄機でレジストを剥離した後、マスクにオゾン水をかけながら２２２ｎｍＵＶ光を照射してレジストを除去するオゾン水洗浄機と、前記オゾン水洗浄機で洗浄した後、薬剤とブラシによりパーティクルを除去するＳＣ−１洗浄機と、前記ＳＣ−１洗浄機で洗浄した後、１７２ｎｍＵＶ光を照射してレジスト残渣及びフッ素樹脂のパーティクルを除去するＵＶ洗浄機と、前記ＵＶ洗浄機で洗浄した後、オゾン水と純水でマスクを濯ぐ最終洗浄機と、前記最終洗浄機で洗浄した後、加温又は冷却することによりマスクを乾燥させる乾燥機とからなることを特徴とするマスク洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ１１に関連して、処理液を吸引するための吸引ノズル７０が設けられている。吸引ノズル７０の先端部は、第１接触面３２と第２接触面３３との境界部分３４に対向する先端面７２と、第１接触面３２および第２接触面３３と当接する当接面７３とを有している。先端面７２には、吸引口７４が形成されている。吸引ノズル７０に接続された吸引管７６は、処理室２の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置６０に接続されている。真空発生装置６０が駆動されると、ブラシ１１の内部に含まれる処理液は吸引口７４に吸引され、ブラシ１１の内部に吸引口７４に向かう処理液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の側端面から、加工硬化層や無数のマイクロクラックを除去する基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理部４０は、主として本体部４０１と、送給部５と、回収部６とを備える。本体部４０１には、ガラス基板９０が遊挿されたときに、当該ガラス基板９０の側端面と端縁の表裏面を覆うことが可能な開口部４０３が設けられている。また、開口部４０３の内部には、供給口４０４および排出口４０５が設けられている。送給部５は、薬液送給部５０、純水送給部５１および熱風送給部５２を備えており、供給口４０４を介して開口部４３に連通接続される。また回収部６は、使用済薬液収容部６０、純水廃棄部６１および排気部６２を備えており、排出口を介して開口部４０３に連通接続される。 （もっと読む）

【課題】量産部品例えば自動車用ピストン等の自動洗浄乾燥装置に関し、特に洗浄後の乾燥に圧縮空気を用い、乾燥を極短時間で可能とする自動洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】脱脂洗浄槽１１、水洗浄槽１２、純水洗浄槽１３、乾燥槽１４を直列に配置し、各処理槽に同時に部品１０を搬入搬出する５組のチャック１を横行ビーム２に設け、横行ビームを昇降ビーム３で上下動させる事により、槽間に処理ピストンを順次次工程に運搬供給する事を特徴とする自動洗浄乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を無駄に消費することなく、機能液滴吐出ヘッドのヘッド内流路を適切に洗浄することができるヘッド洗浄装置を提供する。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド１のヘッド内流路５に洗浄液を供給する洗浄液供給部１３と、機能液滴吐出ヘッド１のノズル面８に密接する吸引キャップ１４と、吸引キャップ１４を介して、ヘッド内流路５に洗浄液を通液して洗浄を行う吸引機構１７と、吸引流路に介設したサンプリング機構２０と、吸引手段を制御すると共に、通常洗浄モードとサンプリング洗浄モードとの間でモード切替え可能に構成された制御装置２１と、を備え、制御装置２１は、サンプリング洗浄モードにおいて、吸引手段の吸引による洗浄動作の終了直前に、洗浄液のサンプリングのために洗浄動作を停止させる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程において、ガラス基板を保持する基板ホルダ自体から、或いは基板ホルダとガラス基板の接触による発塵を防止し、低フライングハイト化の阻害やサーマルアスペリティの要因となるガラス基板上の微小異物の付着を低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程、例えば洗浄処理工程において、少なくとも表面部が、ガラス基板よりも硬度が低く、かつ、強度の高い樹脂からなる基板ホルダ２０でガラス基板１０を保持して上記液処理工程を行う。 （もっと読む）

フェニル置換アルキルアルコール、フェニル置換アルキルアルコール以外の酸素化膨潤溶媒、水、組成物が単相を有するのに十分な結合剤、及び、鹸化剤を含まない他の類似組成物と比較したときに、組成物がアルカリ性ｐＨを有し、かつ剥離後に減少した油性残留物を有するように、脂肪酸又は脂肪酸エステルと化学量論的に過剰なアルカリ金属水酸化物又は水酸化アンモニウムの反応物を含む十分な鹸化剤を含む床剥離剤／洗浄剤組成物を用いて、床仕上げ剤が剥離又はディープ・スクラブされる。本組成物は、特に化学攻撃され易い床基材上で、超耐久性（例えば、架橋した）床仕上げ剤を除去するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】処理液の液密空間への気体の混入を抑制または防止して、基板の一方面の全域に、処理液を用いた処理を均一に施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】上処理空間４１および下処理空間４２にそれぞれＩＰＡ液が供給される。空間４１，４２に供給される薬液によって、空間４１，４２に元から存在する空気は、空間４１，４２外に押し出される（（ａ）参照）。空間４１，４２がＩＰＡ液により液密状態にされた後（（ｂ）参照）、空間４１，４２に薬液が供給される（（ｃ）参照）。空間４１，４２が液密状態に維持されつつ、空間４１，４２内のＩＰＡ液が薬液に置換されていく。その後、空間４１，４２が薬液により液密状態にされて、ウエハＷの上面および下面が薬液により洗浄される（（ｄ）参照）。 （もっと読む）