【課題】流体加熱装置において、吐出時における流体温度の高温化と、流体温度の安定した制御を実現する。
【解決手段】流体加熱装置は、流体を圧送するための第１の配管２と、マイクロ波を照射するための発振器３と、マイクロ波の照射範囲を限定するための導波管１とを備え、第１の配管２は、導波管１内に配置される部分と、導波管外に設けられた流体吐出口２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】碍子１０の絶縁不良が確実に防止されうる洗浄方法の提供。
【解決手段】工場２には、コージェネレーション発電システム４及び受電所６が設置されている。コージェネレーション発電システム４は、タンク８を備えている。このタンク８には、純水が備蓄されている。碍子１０に海水が付着したときは、この純水がポンプ１６及びホース１４でノズル１８へと導かれる。この純水は、碍子１０に向けてノズル１８から噴射される。海水は、純水で洗い流される。この洗い流しにより、碍子１０の表面に沿った放電が阻止される。純水の電気比抵抗は、２ｋΩ・ｍ以上が好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理を基板の一方面に均一に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面（下面）にプレート２の対向面５（上面）を近接して対向配置させた状態で、対向面５に形成された複数の吐出口６から前記表面に向けて処理液を吐出させるとともに、対向面５に形成された複数の吸引口７から、吐出された処理液を吸引させる。プレート２の下面の全域には、超音波振動子３４が結合されており、前記表面と対向面５との間に形成された処理液の薄膜には、前記表面を処理するのに必要十分な低エネルギーの超音波振動がプレート２を介して付与されている。これにより、超音波振動が付与された処理液が前記表面に均一に供給され、基板Ｗの表面へのダメージが抑制されつつ、処理液による処理が基板Ｗの表面に均一に施される。 （もっと読む）

【課題】半導体フォトマスク用石英ガラス基板の製造工程において、基板洗浄後の乾燥時に、基板上に付着粒子を残さず基板を効果的に清浄化すると共に、コスト低減を図る。
【解決手段】基板Ｓを処理液Ｌに浸漬し基板洗浄を行う基板洗浄装置１であって、上端が開放され、基板を収容する洗浄槽２と、前記洗浄槽２内において基板Ｓを直立状態に保持する基板保持手段３と、槽内上部に設けた処理液導入口から、処理液Ｌを槽内に導入する処理液導入手段９と、前記洗浄槽２の底部から槽内の処理液Ｌを排出する処理液排出手段５と、前記処理液排出手段５により排出された処理液Ｌを浄化し、前記処理液導入手段９に浄化済処理液Ｌを供給する浄化手段７と、前記処理液導入手段９に対し新たに処理液Ｌを追加供給する処理液追加手段１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理液供給手段を収納する収納室から処理液のミストや粒子が発生するのを防止して、基板の処理又は乾燥を均一に行う。
【解決手段】液回収チャンバ３０及び上チャンバ４０により形成された処理室内で、回転テーブル１０が、基板１を水平に支持して回転する。ノズル２１を収納する収納室５０が処理室につなげて設けられ、ノズル２１が、収納室５０から処理室内にある基板１の上方へ移動し、基板１の表面へ処理液を供給した後、収納室５０へ戻る。シャッター５３は、ノズル２１が収納室５０内にあるとき、収納室５０を処理室から遮蔽する。収納室５０を処理室から遮蔽するので、処理室内で基板１の回転により生じた空気の流れによって、収納室５０から処理液のミストや粒子が発生するのが防止される。 （もっと読む）

【課題】処理液の基板周辺への飛散を抑制しつつ、基板に処理液を用いた処理を良好に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１０により保持されたウエハＷの表面に対して、プッシュプルプレート２を対向配置する。プッシュプルプレート２は、下面２１に、複数の吐出口２２および吸引口２３を有している。吐出口２２からウエハＷの表面に向けて処理液を吐出させつつ、この吐出された処理液を吸引口２３から吸引する。プッシュプルプレート２上には処理液の液膜が形成され、この処理液の液膜がウエハＷの表面に接液されて、ウエハＷの表面に処理が施される。プッシュプルプレート２の吐出口２２から吐出される処理液は、吐出後直ちに吸引口２３から吸引される。 （もっと読む）

【課題】 初期コストおよびランニングコストを上昇させず、かつ、フットプリントを増大させることなく乾燥時の基板へのパーティクルの付着およびウォーターマークの発生を確実に防止することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。
【解決手段】 ウエハＷに処理液を供給しながら基板に対し液処理を行い、その後乾燥処理する液処理装置１００は、ウエハＷを水平にかつ回転可能に保持する基板保持部２と、基板保持部２を回転させる回転機構３と、ウエハＷに処理液を供給する処理液供給機構８５と、ウエハＷの乾燥処理の際にウエハＷの上方の少なくとも周縁部に乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構１０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 生産性の向上した基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ガス及び薬液を混合してミストを形成し、基板上にミストを噴射する噴射ノズル、噴射ノズルに薬液を供給する薬液供給部、噴射ノズルにガスを供給するガス供給部及びガス供給部と連結されてガスの温度を上昇させる加熱部を含む基板洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】第１及び第２の薬液タンクを有する薬液処理装置を用いた薬液処理工程において、第１の薬液タンクと第２の薬液タンクとを切替える際に、流路中に残留する旧薬液が新薬液に混入して、薬液濃度の変化や薬液の劣化を生じさせるのを未然に防止すること。
【解決手段】本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部(12,13)に循環流路(10)を介して第１及び第２の薬液タンク(2,3)を連通し、制御部(22)で第１又は第２の薬液タンク(2,3)を切替えて薬液処理部(12,13)に薬液を供給するように構成した薬液処理装置(1)において、制御部(22)は、第１の薬液タンク(2)から第２の薬液タンク(3)に切替えるときに、第２の薬液タンク(3)から供給される薬液を循環流路(10)を介して第１の薬液タンク(2)に送る薬液切替流路(D)を一時的に形成することにした。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の塗布膜を選択的に溶解除去した端部にレジスト残りを発生させないガラス基板端部のレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板４０の端部の塗布膜２を選択的に溶解除去する処理ヘッド部１０を使用した端面処理方法において、１）ガラス基板の端部を処理液貯留部５１に位置させる際の、処理ヘッド部内のガラス基板の経路５６の上下に設けられた洗浄用純水の吐出口に２流体ノズル２０Ａ、２０Ｂを設けて、２）ガラス基板の端部の塗布膜を選択的に溶解除去した後に、２流体ノズルを用い純水とクリーンエアーでガラス基板の端部を２流体洗浄すること。 （もっと読む）

【課題】特定ガス溶解水から脱気処理により特定ガスを分離回収し、回収した特定ガス及び脱気処理水を有効に利用することができる特定ガス溶解水の製造方法、製造装置及び循環方法を提供する。
【解決手段】特定ガス溶解水を脱気処理して、脱気処理水と排出ガスとに分離し、排出ガスから特定ガスを回収し、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して、特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解水の製造方法、特定ガス溶解水を脱気処理水と排出ガスとに分離する脱気処理装置、排出ガスから特定ガスを回収する特定ガス回収装置、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解装置を有する特定ガス溶解水の製造装置、及び、ユースポイントから特定ガス溶解水を貯留槽に返送する際に、脱気処理水と排出ガスとに分離して特定ガスを回収し、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して、特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解水の循環方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜等の保護膜を使用することなく、また、基板の形状に関わらず、基板の一方の面のみに選択的に処理液を供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、エッチング液の液面に沿って配列された複数の搬送ローラ１５により基板９を搬送する。各搬送ローラ１５の外周部１５ｂは、スポンジ材料により構成されているため、各搬送ローラ１５はエッチング液を吸収して保持し、基板９の下面に供給する。このため、基板９の上面にレジスト膜を形成することなく、基板９の下面のみに選択的にエッチング液を供給することができる。また、基板９の形状にかかわらず、基板９の下面のみに選択的にエッチング液を供給することができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄および殺菌処理に先立つ医療器具の前処理用発泡および噴霧ディスペンサーを提供する。
【解決手段】ディスペンサーは、ディスペンサー自体内に収納した溶液と、
溶液から泡を放出するためにディスペンサーに設けられた発泡ノズルと、溶液から噴霧を放出するためにディスペンサーに設けられた噴霧ノズルとを備えている。溶液には過酸化水素を含ませることができる。好ましくは、医療器具の洗浄に先立ち医療器具の汚染された表面上に溶液を発泡させ、かつ、医療器具を洗浄するような時まで泡を器具表面に接触させておくためであり、さらに医療器具の洗浄に先立ち過酸化水素溶液の噴霧を医療器具の内腔に吹き込むためのマニュアルを備えることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板の処理対象面を非接触状態で保持することができながら、その処理対象面に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの下面に対向配置される下プレート２と、ウエハＷの上面に対向配置される上プレート３とを備えている。下プレート２には、複数の吐出口１６と、複数の吸引口１７とが形成されている。吐出口１６から処理液を吐出させつつ、その下プレート２に形成された吸引口１７から処理液を吸引すると、下プレート２とウエハＷの表面との間に処理液の流れが形成され、その処理液の流れによって、ウエハＷの表面を下プレート２との間に所定の間隔を隔てた非接触状態で吸着保持することができる。このとき、ウエハＷの表面に処理液が接液した状態となり、そのウエハＷの表面に対して処理液による処理が施される。 （もっと読む）

【課題】基板を加熱することが可能であるとともに、基板を十分な回転数で回転させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック２１により基板Ｗが保持される。スピンチャック２１は、回転駆動機構１３６により回転可能な回転軸２５の上端に固定されている。スピンチャック２１の内部には、円盤形状の発熱板１が設けられている。さらに、発熱板１の上面に密着するように電磁シールド板２が設けられている。スピンチャック２１の下方で近接するように、円環形状を有するコイルケーシング５Ｓが設けられている。コイルケーシング５Ｓの内部には、複数のコイル４が設けられている。これらの複数のコイル４は、ハウジング４１の外部に設けられたコイル電源装置５と電気的に接続されている。コイル電源装置５は複数のコイル４に所定の周波数で交流電流を供給する。 （もっと読む）

【課題】精密機械加工部品や電子部品基板、電子部品または磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリの全体または一部を洗浄対象物とする洗浄装置において、洗浄液の流れに乱れが生じると洗浄対象物から一旦、除去された汚染物質が洗浄対象物に再付着する。
【解決手段】ポンプ４により洗浄槽２内にて洗浄液を一方向に流す。その上流側に２枚の整流板２０を配置し、洗浄対象物より下流側にさらに整流板２２を配置する。各整流板の面内には複数の孔が配列される。上流側の整流板２０ｂの孔の径は下流側の整流板２２の孔の径より大きく設定する。これにより、整流板２０ｂと整流板２２とに挟まれる洗浄チェンバー２８における液流を擬似層流とすることができる。洗浄対象物から遊離した汚染物質は速やかに排出チェンバー２６へ移動し、フィルタ６により除去される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄液中に発生する気泡の量を制御することで洗浄効果、洗浄効率の高い洗浄をすることができる超音波洗浄システム及び超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】超音波を洗浄液に伝搬させて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄システムであって、前記洗浄液を貯留し前記被洗浄物を収容して洗浄する洗浄槽と、前記超音波を発生する超音波発振手段と、前記洗浄槽において発生する気泡の量を測定する測定手段と、前記気泡の量の測定の結果に基づき前記超音波発振手段の発振出力を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする超音波洗浄システムが提供される。 （もっと読む）

【課題】粗洗浄で洗浄水よりも比重の重い異物も軽い異物も除去でき、更には洗浄水の使用量を低減可能なゴム栓洗浄装置を提供する。
【解決手段】ゴム栓を粗洗浄槽(11)で粗洗浄した後、同ゴム栓を前記粗洗浄槽(11)から輸送管(4)を介して本洗浄槽(54)に輸送し、同本洗浄槽(54)内で洗浄、滅菌、乾燥等で処理するゴム栓洗浄装置(1)であって、前記輸送管(4)に配された少なくとも１つの切換バルブ及び／又は開閉バルブ(4a)と、前記洗浄水と同洗浄水よりも比重の軽い異物とを粗洗浄槽(11)からオーバーフローさせて排出する第１排出口(12)と、前記輸送管(4)から前記切換バルブ及び／又は開閉バルブ(4a)を介して分岐され、前記洗浄水と同洗浄水よりも比重の重い異物とを排出する第２排出口(14)と、前記粗洗浄槽(11)内に配され、前記洗浄水と前記比重の重い異物とが通過し、前記ゴム栓を塞き止め可能な下部塞き止め部(15)と、前記粗洗浄槽(11)の下部に配された前記洗浄水の取水口(36)と、を備えてなるゴム栓洗浄装置。
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【課題】基板処理装置において処理液に効率良く電荷を誘導し、基板の帯電を効率良く抑制する。
【解決手段】基板処理装置は、基板に向けて洗浄液の液滴を吐出する吐出部３、および、吐出部３の吐出口３１近傍に配置される誘導電極６を備え、誘導電極６は吐出口３１の中心軸３０に対して傾斜する傾斜面６１を有する。基板処理装置では、誘導電極６と吐出部３の洗浄液管３２との間に電位差を付与することにより洗浄液に電荷を誘導し、当該洗浄液の液滴により基板を洗浄することにより洗浄処理による基板の帯電を抑制することができる。誘導電極６では、中心軸３０を含む面による傾斜面６１の任意の断面において、中心軸３０と傾斜面６１との間の距離が吐出口３１に近づくほど長くされる。これにより、吐出口３１に近接した位置における誘導電極６の面積を大きくすることができるため、洗浄液に効率良く電荷を誘導して基板の帯電を効率良く抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】十分なフィルタ寿命を得ることができる浸漬型の洗浄装置およびそれを用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに形成されたレジスト膜等を除去する洗浄装置は、レジスト膜等の剥離処理を行うための洗浄液を貯留し、その中にウエハＷを浸漬させて洗浄処理を行う洗浄槽１０１と、フィルタ１１４，１１５が介在され洗浄槽１０１内の洗浄液を循環させる循環ライン１０４と、洗浄槽１０１で洗浄処理を行ったウエハＷに残存しているレジスト膜等を除去液としてのリンス液により除去する除去処理を行う除去処理槽としてのリンス槽１２１とを具備する。 （もっと読む）