【課題】少量の処理液で基板上面全体を均一に処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】多孔ノズル３２から基板Ｗの回転方向Ａに沿って基板Ｗの上面に対して斜め上方から配列方向Ｘに沿って列状に処理液を吐出させる。しかも、基板Ｗの回転半径方向に伸びる線を回転半径線としたとき、基板Ｗの上面に着液する列状処理液を構成する処理液（液滴）の各々の着液位置が、回転半径線ＲＬ上から回転半径線ＲＬに直交するオフセット方向Ｙに所定の距離Ｓ１だけずれるように、多孔ノズル３２から処理液を吐出させる。その一方で、中心処理ノズル３３から基板Ｗの回転中心Ａ０に向けて処理液を吐出させて、基板Ｗの中心部に処理液を供給する。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】基板上のパーティクルを効果的に除去することができ、しかも基板へのダメージを許容範囲とすることができる基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】基板の表面に液体と気体とからなる２流体スプレーを供給する工程（ステップ３）を含む基板洗浄方法であって、基板の表面に液体と気体とからなる２流体スプレーを供給する工程は、液体として純水とイソプロピルアルコールの混合液を用い、その混合液中のイソプロピルアルコールの濃度を１０〜６０体積％とし、パーティクルの除去率を８０％以上とする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板が大口径になっても高品質の処理ができる枚葉式基板処理装置を提供すること。
【解決手段】ウェーハＷを保持して回転する回転テーブル８と、回転テーブル８を回転させる回転駆動部１１と、底面の中心部１２_０に噴射ノズル１７_１〜１９_１を設けウェーハＷ表面を所定の隙間をあけて覆うフード部材１２と、フード部材１２を移動させる移動手段と、噴射ノズル１７_１〜１９_１に処理媒体を供給する処理媒体供給源２３〜２７とを備えた枚葉式基板処理装置１において、フード部材１２はウェーハＷ表面を覆った状態で、その外周縁部１２_１とこれに対向するウェーハＷ表面との隙間が、噴射ノズル１７_１〜１９_１が設けられた中央部１２_０とこれに対向するウェーハＷ表面との隙間より狭い形状を備え、噴射ノズル１７_１〜１９_１はフード部材１２の中央部１２_０に昇降自在な固定手段により固定しウェーハＷとの距離が調節できるようにした。 （もっと読む）

【課題】気泡の排出を行う際の気泡の除去性能を向上させ、気泡とともに排出されていた洗浄液を浪費することなく基板を洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板４４の上方に設けられ、箱状のヘッド本体内に超音波振動子１４、１４…が設けられるとともに、ヘッド本体の下部に洗浄液２０を吐出するための吐出口２２を有する基板上面洗浄用ヘッド１２と、被洗浄基板４４の下方に設けられ、箱状のヘッド本体内に超音波振動子４０、４０…が設けられるとともに、ヘッド本体の上部に洗浄液２０を吐出するための吐出口４２を有する基板下面洗浄用ヘッド３２と、基板上面洗浄用ヘッド１２に洗浄液２０を供給する洗浄液供給ライン１６と、基板上面洗浄用ヘッド１２に供給されて吐出口２２から吐出されなかった残りの洗浄液２０が基板下面洗浄用ヘッド３２に流れる連通ライン３４と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された素子に対するダメージを抑制する基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、伝播水が導入される外槽３と、外槽３の内部に収容され、内部に基板を収容可能であり、洗浄液を貯留する処理槽２と、外槽３の底部に配置される超音波振動発生器４とを備えている。外槽３と処理槽２との間の領域は、領域分離板７ａ・７ｂによって複数の区画領域に分離されており、各区画領域には伝播水の導入口と排出口とが独立して設けられている。 （もっと読む）

【課題】
実質的にアルカリ金属を含まず、再付着防止性に優れる界面活性剤を提供する。
【解決手段】
式（１）で表されるカルボキシベタイン（Ａ）と、
プロトン付加反応における生成熱変化（Ｑ）が１０〜１５２ｋｃａｌ／ｍｏｌであるアミン（Ｂ）とを含有してなることを特徴とする界面活性剤を用いる。（Ｂ）は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７及び１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
Ｒ¹（ＯＡ）ｎＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＯ₂^-）ＣＨ₂Ｎ⁺Ｒ²₃ （１）
Ｒ¹及びＲ²は水素原子又は炭素数１〜２２の有機基、ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは０〜２００の整数、Ｏは酸素原子、Ｃは炭素原子、Ｈは水素原子、Ｎは窒素原子を示す。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】 小型な装置で、簡便に活性種を生成することができ、活性種を含む液体を製造することができる液体製造装置およびこの液体製造装置で製造した液体を用いた処理装置および表面加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 活性種を含む液体である機能水を製造する機能水製造装置１１である。純水を供給する高圧ポンプ１３と、高圧ポンプ１３によって供給された純水を吐出して活性種を生成するノズル１２とを有している。ノズル１２から機能水が吐出されてから吐出された機能水が液滴になるまでの時間が、ノズル１２から機能水が吐出されてから活性種が消失するまでの時間より短くなるように、吐出流速およびノズル１２の吐出口を構成する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理不良を防止しつつ、機能水を用いた基板の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】機能水生成部４１０には、洗浄処理部５ａ〜５ｄが接続されている。制御部４は、ＣＰＵ７０１およびメモリ７０２を含む。ＣＰＵ７０１には、操作パネル７１０が接続されている。作業者が操作パネル７１０を操作することにより、処理レシピがＣＰＵ７０１に設定される。制御部４のＣＰＵ７０１は、処理レシピに基づいて、機能水生成部４１０の抵抗制御バルブおよび気体調整バルブの開度を制御する。抵抗制御バルブの開度および気体調整バルブの開度を調整することにより、機能水生成部４１０で生成される炭酸水の濃度を調整することができる。機能水生成部４１０で生成された炭酸水は、リンス処理用供給管７４を通して洗浄処理部５ａ〜５ｄの各々へ導かれる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に加熱された純水と加熱された窒素ガスとを混合して生成される液滴の噴流を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に液滴の噴流が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）

【課題】基板に向けてノズルから流動性材料を連続的に吐出して塗布する塗布装置のノズルの目詰まりを確実に防止する。
【解決手段】塗布装置のノズルの洗浄では、界面活性剤を含む洗浄液にノズルが浸漬されて洗浄液に対して超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から異物が除去される。続いて、ノズルが純水に浸漬されて純水に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から界面活性剤が除去される。次に、ノズルがアルコールに浸漬されてアルコールに超音波振動が付与されることにより、ノズル表面の純水がアルコールに置換される。そして、流動性材料の主溶媒を主成分とする洗浄液にノズルが浸漬され、洗浄液に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面のアルコールが流動性材料の主溶媒に置換される。その結果、ノズルを使用して行う流動性材料の塗布において、ノズルの目詰まりを確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に供給される処理液の流量を正確に制御できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置の制御部は、予め複数の洗浄処理部５ａ〜５ｄに対応する処理レシピに基づいて複数の洗浄処理部５ａ〜５ｄの動作手順および動作条件を決定するとともに昇圧ポンプＰ１の吐出量を決定する。制御部は、昇圧ポンプＰ１の吐出量をフィードフォワード制御するために、処理レシピに基づいて昇圧ポンプＰ１の吐出量を実際に昇圧ポンプＰ１を制御する前に決定する。例えば、制御部は、複数の洗浄処理部５ａ〜２ｄの処理レシピに設定された薬液処理のタイミングおよび薬液ノズルの吐出流量に基づいて予め昇圧ポンプＰ１の吐出量を決定する。 （もっと読む）

【課題】基板を傾斜した状態で移動しながら、傾斜した基板の表面を均一に洗浄する。
【解決手段】基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により矢印で示す基板移動方向へ移動される。各ローラ１０は、その一端が他端より高くなる様に傾けて設置されており、これにより複数のローラ１０は、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に所定の角度θだけ傾斜した状態で移動する。アクアナイフ１１は、アクアナイフ１１が設置されている基板１の表面と平行な面において、基板移動方向と直交する方向に対して所定の角度Ｔだけ傾けて設けられている。これにより、傾斜した基板１の表面の上側では、傾斜した基板１の表面の下側よりも、基板移動方向における上流でアクアナイフ１１から吐出された洗浄液が供給される。 （もっと読む）

【課題】装置の清浄化を容易に、かつ短時間で行うことができる。
【解決手段】処理液配管による処理液の供給を遮断し、供給部５を注入部に連通接続した状態で、開閉弁３９を開放すると、洗浄液タンク３内の洗浄液が供給部５から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄できる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置１により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の微細なパーティクルを十分に除去し、基板表面の洗浄力を向上させることが可能な基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｗの回転中止Ｐａを中心として回転させられている基板Ｗの表面上に、洗浄ノズル７より液滴の洗浄液が吐出される。洗浄ノズル７は、その胴部７ｂに空気を吐出する気体吐出ノズル１００と、純水を吐出する液体吐出ノズル２００が配置される。気体吐出口１０１から吐出された空気と液体吐出口２０１から吐出された純水は、その衝突部位Ｇでの入射角度αが０度以上で１１０度以下の範囲に設定される。そして、空気と純水が空中にて混合し、噴霧状となした液滴の洗浄液にて基板面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】処理液の種類に関係なく処理液が処理槽内で複数枚の被処理基板間にスムーズに流れて被処理基板表面に接触するようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】所定量の処理液及び複数枚の被処理基板Ｗが収容される有底の処理槽２と、該処理槽２の上方に配設された処理液供給管７ａ、７ｂとを備えた基板処理装置１において、処理槽２の被処理基板Ｗが収容される位置の下方には、中央部に大口径の貫通孔１０が形成された整流板８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】液処理装置及び処理液供給方法並びに処理液供給プログラムにおいて、処理液の濃度変化が生じても処理動作を中断させることなく継続して処理動作を行えるようにして、液処理工程のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、複数の供給源から供給される原液を調合槽で調合することによって所定濃度の処理液を生成し、この処理液を供給槽に貯留し、この供給槽から処理液吐出口へ処理液を供給する液処理装置において、供給槽内の処理液に濃度変化が生じたか否かを判断し（濃度変化判断ステップＳ７）、供給槽内の処理液に濃度変化が生じたと判断した場合に、調合槽から供給槽に処理液を補充したり、或いは、供給源から供給槽に原液を直接補充して、処理液の濃度を改善する（処理液濃度改善ステップＳ８）ことにした。 （もっと読む）

【課題】各種表示体に使用される機能性光学用プラスチックフィルムに混入している、埃、フィルム粕といった塵芥を除去でき、欠陥の少ない光学用プラスチックフィルムの洗浄装置等を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを巻回したロールよりプラスチックフィルム１を巻き出す巻出し部５と、プラスチックフィルム１に洗浄水として純水を供給して複数段での洗浄を行う洗浄部と、ニップロール３及び／又はエアーナイフ４による水切り部と、プラスチックフィルム１の乾燥を行う乾燥部５０と、乾燥を終えたプラスチックフィルム１をロール状に巻き取る巻取り部８とを順に設ける光学用プラスチックフィルムの洗浄装置である。上記洗浄部は、プラスチックフィルム１を純水１２の浴槽１１中に浸漬し洗浄する第１の洗浄部１０Ａと、該第１の洗浄を終えたプラスチックフィルム１を純水を用いてスプレー洗浄する第２の洗浄部１０Ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】 軸方向に長いローラユニットを用いて基板を搬送する場合においても、ローラユニットの自重によるたわみ変形を抑制し、基板の搬送不良および接液不良を防止することのできる表面処理装置を提供する。
【解決手段】 表面処理装置１０は、基板１１の表面を処理するための処理液１２が収容される処理液槽１３と、中心軸部材１４およびローラ部材１５を有し処理液槽１３中の処理液１２に一部が浸漬するようにして設けられるローラユニット１６とを備え、ローラユニット１６を回転させることによって基板１１を搬送するとともに処理液１２を基板１１の片方の表面に接液させて表面処理する。この装置１０に設けられるローラユニット１６は、ローラ部材１５が中空構造に形成され、ローラユニット１６に作用する重力と処理液１２から受ける浮力とが釣合うように構成される。 （もっと読む）