【課題】 研磨材等の汚れの残りや、シミ等の洗浄不良の発生を抑え、１ケ流し生産方式や小ロット生産方式でも高い洗浄品質を得ることができる洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 本実施形態に係る光学素子の洗浄方法は、超音波が印加された洗浄液に光学素子を浸漬して洗浄する工程（浸漬洗浄工程：Ｓ０１）と、光学素子に高周波の超音波が印加された純水を掛け流してリンスする工程（リンス工程：Ｓ０２）と、光学素子を回転して乾燥する工程（乾燥工程：Ｓ０３）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の薬液処理をむらなく均一に行う。
【解決手段】薬液処理室２０ａ，２０ｂにおいて、薬液ノズル３から供給された薬液により、基板１の薬液処理が行われる。薬液処理後、基板１は、ローラ２により、水置換／冷却室３０へ送られる。水置換／冷却室３０において、アクアナイフ６から吹き付けられた純水により、基板１の表面の薬液が、洗い流されて、純水と置換される。そして、冷却液ノズル７から供給された冷却液により、基板１の表面に残存する薬液が常温より低い温度に冷却される。従来に比べて、迅速かつ均一に薬液処理の進行が押さえられるので、処理時間が均一化され、処理がむらなく均一に行われる。冷却液として、例えば、ドライアイスを混ぜた純水を用い、基板上の液体を凍結させる。この場合、基板上の液体は、凍結により体積が膨張するので、基板の表面から浮いて剥がれ易くなる。 （もっと読む）

【課題】洗浄性能がよく、純水の消費量も少なく、設置場所の変更も容易である洗浄装置とその装置を利用する作業用手袋洗浄方法を提供する。
【解決手段】この作業用手袋洗浄方法は、作業用手袋洗浄装置１を使用して作業用手袋７を洗浄する方法であって、該洗浄装置１は、洗浄開口部４ａをもつ洗浄用チャンバ４に固定される洗浄ノズルユニット２を有しており、洗浄ノズルユニット２は、２流体混合ノズルを構成する純水側ノズル２１とガス側ノズル２２とからなり、ガス側ノズル２２からガス１７を噴出させると、ガス１７の噴出に連れて純水１６が純水側ノズル２１から霧化状態で噴出する。洗浄開口部４ａにかざした手袋７に向けて上述したガス１７と霧化状態の純水１６を噴出させることによって該手袋７の洗浄が行われ、引き続いて、ガス１７のみをガス側ノズル２２から噴出させて手袋７の乾燥を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 例えば、アルミニウムやマグネシウム等が蒸着したマスク、液晶ディスプレイ基板、金属ミラー等のように、被洗浄物の洗浄面にダメージを与えることなく平滑的に、しかも、付着金属の除去したい厚さによって洗浄速度をコントロールできる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ＳＣＮ⁻、Ｉ⁻、ＣｌＯ₄⁻、ＮＯ₃⁻およびＢｒ⁻のようなカオトロピックイオンを含有する、ｐＨが１０以上の水溶液からなる洗浄剤。該カオトロピックイオンの濃度が０．１モル／ｌ以上、最も好ましくは０．８〜１．５モル／ｌである場合に特に効果に優れる。 （もっと読む）

【課題】 箱型の搬送用コンテナを効率的に清浄化するのに適した洗浄装置を提供する。
【解決手段】 略矩形状の底部とその周囲に形成された搬送物の脱落を防止する側部とからなる搬送用コンテナを洗浄する洗浄装置であって、搬送用コンテナの底部に対して洗浄液及び純水を射出することができる複数の射出口２を有する第１の液体射出手段３と、搬送用コンテナの側部に対して洗浄液及び純水を射出することができる複数の射出口４を有し、射出口が搬送用コンテナの側部の垂直断面形状に対して略相似の形状に整列して形成されている第２の液体射出手段５と、第１及び第２の液体射出手段を、搬送用コンテナの洗浄面に対して所定の距離を保持するように上下動させる高度調節手段と、を有する洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】 画像認識装置等の特別な装置を要することなく、ガラス基板等の被測定体の清浄度を高速に且つ簡便に測定する。
【解決手段】
ガラス基板等の被測定体１の表面に液滴１０をディスペンサ２により滴下する。被測定体１は、予めある程度の洗浄仕上げがされているため、滴下された液滴１０は時間の経過とともに円形に広がっていく。被測定体１の下部にはスケールであるスクリーン３が配置され、被測定体１の上部から光を供給すると、液滴１０の像がスクリーン３に投影される。スクリーン３にはＸ軸及びＹ軸からなる目盛Ｍが形成されており、当該目盛Ｍとスクリーン３に投影された液滴１０の像とに基づいて、被測定体１の清浄度を測定する。 （もっと読む）

【課題】 廃液等の環境負荷が少なく、被処理物に対して電気的ダメージを与えず、かつ、高処理能力を有するウエット処理装置を提供することにある。
【解決手段】 このウエット処理装置１は、スリット状吐出口４を有するノズル本体２と、ノズル本体２の内部に水を供給する給水部と、ノズル本体２の内部で吐出口４に対向する位置に配置されると共に水をラジカル活性化させるラジカル生成部３とを備えている。このラジカル生成部３は、シート状の固体電解質８と、この固体電解質８の吐出口４側の一面に接触するように配置される複数の棒状電極６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液により循環洗浄を行い、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを十分に行い、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行い、更に純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う。 （もっと読む）

【課題】 洗浄時のオゾン濃度のばらつきを抑え、しかも、純水の無駄を低減することが可能な洗浄装置、及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】 洗浄装置１００は、基板Ｗを支持する支持部としての回転テーブル１３Ｔ、オゾン水を凍結してオゾン氷にするオゾン氷生成部としてのオゾン氷生成器２３、オゾン氷を融解してオゾン液にするオゾン氷融解部としてのオゾン氷融解器２４、回転テーブル１３Ｔに支持された基板Ｗにオゾン液を吐出する吐出部としての吐出ノズル２７と、を備えている。そして、洗浄装置１００は、オゾン氷を融解しながらオゾン液を生成することで、オゾン濃度の均一なオゾン液を基板Ｗに吐出して、オゾンの強い酸化・分解作用によって、基板Ｗを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を傾斜させて搬送する場合に、基板を精度よく洗浄することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】洗浄チャンバと、基板Ｗを搬送方向と交差する方向に所定の角度で傾斜させて上記洗浄チャンバ内を搬送する搬送ローラと、搬送される基板の上方にこの基板の搬送方向と交差する方向に沿って一列に配置され基板に上記洗浄液を細長いパターンＰで噴射する複数のノズルとを具備し、複数のノズルは、基板上に噴射される隣り合う洗浄液のパターンが基板の搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じることがないよう配置されている。 （もっと読む）

【課題】 オゾン水でレジスト剥離等の基板の洗浄を行う場合に、スピン洗浄機を用いず、単位オゾン水当たりの剥離面積、すなわち剥離効率を向上させ、レジスト剥離等を効率的に実施できる洗浄方法を提供する。
【解決手段】
被処理対象の基板の洗浄面に対向して覆板を設置し、基板と覆板との間隙を２ｍｍ以下に設定し、前記間隙にオゾン水を平均流速０．１ｍ／ｓ以上で流すことを特徴とする基板の洗浄方法である。さらに、オゾン水は加熱オゾン水であってもよい。 （もっと読む）

【課題】基板表面の異物をより確実に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、ウエハＷを保持して回転させるスピンチャック１と、ウエハＷに処理液を供給する処理液ノズル２と、ウエハＷをスクラブするスクラブブラシ３と、このスクラブブラシ３を移動させるノズル移動機構４と、待機ポット５とを備えている。スクラブブラシ３によってウエハＷの異物を除去するためのスクラブ処理をしていない待機時には、スクラブブラシ３は待機ポット５で待機させられる。待機ポット５には、アルカリ性液体としてのアンモニア水が供給されており、その内部にはアルカリ性液体貯留部が設けられている。このアルカリ性液体貯留部に貯留されたアンモニア水の揮発によりアンモニアガスが発生し、このアンモニアガスが待機状態のスクラブブラシ３に供給される。 （もっと読む）

【課題】 処理液を形成する薬液の特性を一定に維持して処理の安定化及び品質の向上を図れるようにすること。
【解決手段】 処理槽１０内に循環供給される薬液（ＤＨＦ，ＥＧ）の混合液からなる処理液であるエッチング液Ｅでエッチング処理する液処理装置において、各薬液を処理槽内に貯留された処理液に補充する薬液補充手段４０，５０と各薬液補充手段をそれぞれ構成する補充管路４３，５３に介設される開閉弁Ｖ2〜Ｖ5と、各補充管路に介設されて所定量の薬液を供給する薬液供給ポンプＰ1，Ｐ2と、各薬液の処理槽への補充タイミングを記憶し、この記憶された情報に基づいて各開閉手段及び各薬液供給手段に動作信号を伝達する制御コンピュータ７０とを具備する。制御コンピュータを、処理液の排液後に、処理槽内に複数の薬液を供給して処理液を作成する処理液交換工程後の経過時間毎に、各薬液毎に補充のタイミングを可変設定可能に形成する。 （もっと読む）

【課題】撮像素子の受光面に付着したフラックスおよび微小パーティクルを除去し、更に洗浄液内のフラックスおよび微小パーティクルの基板への再付着を低減させ、洗浄後の歩留を向上させる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、撮像基板ユニットを洗浄液に浸漬し、この撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、この噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】 基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 オートフラップ機構４００は、２つの支持部４３ａ、回転軸４３ｂおよび板状部材４３ｃを備える。２つの支持部４３ａは、外槽４３の内部で側壁から水平方向に突出するように形成されている。２つの支持部４３ａ間に回転軸４３ｂが取り付けられている。回転軸４３ｂには、外槽４３の側壁に沿うように、長手形状を有する板状部材４３ｃが回転可能に取り付けられている。外槽４３の底部には、処理液排出口４４Ｘが形成されている。内槽４０から溢れ出す処理液は、板状部材４３ｃと内槽４０の側壁との間の隙間Ｃおよび外槽４３の処理液排出口４４Ｘを通って処理液排出管４４に流れる。内槽４０から処理液が溢れ出す場合、オートフラップ機構４００の板状部材４３ｃは、処理液の流れに応じて回転軸４３ｂを中心として回転する。それにより、板状部材４３ｃの下端が外槽４３の側壁の内面に当接する。 （もっと読む）

【課題】 基板の洗浄効果を向上させつつ、超純水の使用量を減少させることができる基板の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 搬送される基板の表面に対して、基板の進行方向後方に向かって所定の角度θａをもたせて洗浄液を噴射する第一のシャワー５６ａと、この第一のシャワー５６ａの基板の搬送方向前方に配設され、基板の進行方向後方に向かって前記角度θａよりも大きい角度θｂをもって洗浄液を噴射する第二のシャワー５６ｂを備え、この第二のシャワー５６ｂが噴射する洗浄液が基板に衝突する位置が、第一のシャワー５６ａが噴射する洗浄液が基板に衝突する位置の前記基板の進行方向前方の直近とする。 （もっと読む）

【課題】 従来の洗浄装置では、ノズルから噴出される洗浄液は大きな粒子を含むため、汚染物質と被洗浄物の間の隙間に浸透し難く、付着した汚染物質を剥離することは非常に困難であるという点である。
【解決手段】 容器６の底部に超音波振動子７が装着され、超音波振動子７に発振器８から発振出力が印加され、液体供給装置９から液体１０が容器６の底部に一定の深さになるように供給され、容器６の側部から液体１０の液面より上に気体が送風されるように、容器６の側面に気体供給口１１ａを設けた気体供給装置１１が接続され、気体供給口１１ａの対向位置の容器６の上部に気体を排出する排出口１２が形成され、排出口１２に吹き出し管１４が形成され、吹き出し管１４の吹き出し口１４ａに対向して、基板、液晶パネルなどのワーク１５が載置又は移動可能に載置されている。 （もっと読む）

【課題】 洗浄工程の後に熱処理を行うことにより、マスクの表面に残っている残留イオンを除去してヘイズを防止し、位相シフトマスクの光学的特性変化を減少させるフォトマスク洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】 フォトマスクに形成されたポリマーを除去するために酸系列でフォトマスクを洗浄する第１洗浄装置と、塩基系列で前記フォトマスクを洗浄する第２洗浄装置と、前記酸系列及び前記塩基系列で洗浄された前記フォトマスクを熱処理する熱処理装置と、熱処理された前記高温のフォトマスクを冷却する冷却装置と、前記フォトマスクを運搬するロボットアームとを含む。 （もっと読む）

【課題】 ノズル口から噴出するカーテン状の液膜がテーパ状に広がることを抑制し、さらにノズルの液膜噴出点を基板表面に近づけ、かつ基板表面に対して低角度で液膜を噴出することができる基板洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】 搬送される基板に向けて洗浄液を噴出して基板表面を洗浄するための基板洗浄ノズル１は、基板の搬送方向に直交する方向に延びてスリット状に形成されるノズル口であって、互いに略平行になるように形成される２つの第１ノズル口２と第２ノズル口３とを有する。第１および第２ノズル口２，３から洗浄液がそれぞれ噴出されて形成される液膜流れ７ａ，７ｂは、互いに引付け合って一重のカーテン状の液膜流れ７ｃを形成する。 （もっと読む）

【課題】 処理品質を向上させながら、小型化に有利な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 送引均衡型水洗ノズルヘッド１０に装備された排液チューブウォール２，４によってリンス処理後の純水（処理済リンス液）を吸引して基板上から直ちに除去するとともに、送引均衡型エアーナイフヘッド２０に装備された排気チューブウォール６，８によって処理済リンス液を含んだ乾燥処理後のガス（処理済乾燥ガス）を吸引して基板上から直ちに除去している。このため、処理済リンス液が飛散してヘッド２０によって乾燥処理される基板表面に付着することがない一方で、液切りされた処理済リンス液が飛散してヘッド１０によってリンス処理される基板表面に付着することがない。したがって、両ヘッド１０，２０を互いに近接配置して装置を小型化することができるとともに、汚染物の基板Ｗへの再付着を確実に防止して基板Ｗの処理品質を向上させることができる。 （もっと読む）