【課題】 設備費用などのコストの削減および環境への負荷の低減を実現でき、さらに、被処理物である基板が導電性であるか絶縁性であるかという電気的特性に関係なく、被処理物を流体で処理することができるウェット処理装置およびウェット処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ウェット処理装置１は、流体１９が通過する孔が設けられた領域１２ａを有するノズル１２と、前記領域１２ａを覆って流体１９のイオン濃度を増加させることができる通水性のある板状の触媒部材１３と、触媒部材１３を覆って孔が設けられた電極部材１４とを有するウェット処理装置であり、電極部材１４の電圧印加部１７とノズル１２の孔が設けられた領域１２ａとの間に電圧を印加しながら、流体１９を被処理物２０に吐出する。そうすることによって、ウェット処理装置１は、活性種を含む流体１９を被処理物２０の表面に供給して、被処理物２０の表面を処理する。 （もっと読む）

【課題】 その内部に気泡を含み、かつ、非常に小さい粒径を有する液滴を生成する装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の中空液滴生成装置は、所定の液体の液相から気体を発生させる気体発生手段と、該所定の液体に力学的エネルギーを付与して液滴を生成する液滴生成手段とを備え、該気体発生手段から発生した気体を、該液滴生成手段で生成した液滴に取り込んで中空液滴を生成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄能力の非常に高い基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】板状の基板と、円柱状の氷と、板状の基板に対し、基板の両面に円柱状の氷を一定の圧力で全面に押し当て、これら２つの円柱状の氷の回転軸と基板の中心軸の３者が一致するように保持する加圧手段と、円柱状の氷を互いに逆向きに回転させる回転手段とを有することを特徴とする基板洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 省スペース、低価格および環境に配慮した枚葉基板洗浄装置およびその洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板洗浄装置１は、シリコン基板を回転可能に保持する回転テーブル５０と、保持されたシリコン基板表面の少なくとも一部を光照射可能な光照射装置３０と、少なくともＮ_２Ｏ水およびフッ酸溶液を基板上へ選択的に供給可能なノズル４０と、光照射装置３０およびノズル４０の供給を制御し、シリコン基板上へＮ_２Ｏ水が供給されるとき光照射装置３０による光照射を可能とする制御ユニット１００とを有する。 （もっと読む）

【課題】腐食を軽減する方法を提供する。腐食メーターを使用することによりガラス形成ラインの洗浄水システムの腐食を軽減する方法が提供される。前記方法を利用したガラス繊維製造プロセスも提供される。
【解決手段】ガラス繊維の製造プロセスで腐食を軽減する方法であって：ポリマーバインダー、水および鉱酸を含み、ｐＨ４未満のフィード流れ（２）を含むガラス繊維結合システムを提供し；フィード流れを形成チャンバー（５）中でガラス繊維にスプレーし；形成チャンバー（５）内にスプレーされた洗浄水を洗浄水プロセスライン（１２、２１）、洗浄水収集容器中（１８）を介してリサイクルする洗浄水システムにおいて；洗浄水プロセスラインまたは洗浄水収集容器の内部で測定された腐食速度が設定値を超える場合、塩基を洗浄水に添加することを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 安価に製造することができ、また環境負荷を低減し、被処理物の電気的ダメージを低減し、処理能力向上を実現するウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 ウェット処理装置２０は、スリット状の吐出口３８を有するノズル２２を含む。このノズル２２には、処理液をラジカル活性化させるラジカル生成部３７が設けられる。ラジカル生成部３７は、吐出口３８を構成する第１電極３９と、第１電極３９の対極として設けられる第２電極４０と、第１および第２電極３９，４０に接し、かつノズル２２内の空間３６にあって吐出口３８から吐出されるべき処理液に接するように設けられるシート状の固体電解質４１とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】
溶剤あるいは水系洗浄剤を使用することなく確実に洗浄することができ、洗浄工程と乾燥工程とを一つの装置で行うことができ、かつ小型化を図ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】
出入口２ａから底面２ｃに向かって下り勾配に傾斜して配置される洗浄容器２と、洗浄容器２を回転軸線Ｌを中心に回転させるモータ５と、洗浄容器２の内面にスパイラル状に形成された送りフィン３と、洗浄容器２の内部に設けられ、外部から供給された洗浄水８を昇温させる加熱器１０と、加熱器１０によって昇温された高温水を洗浄容器２内の被洗浄物１に噴射させる複数のノズル１１ａとを備え、洗浄容器２には排水孔２ｄが形成され、加熱器１０は、被洗浄物１に付着した油成分を除去可能な粘度まで低下させる温度に洗浄水８を昇温させる。 （もっと読む）

【課題】 傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える円盤状ポ−ラスセラミック製チャックの洗浄方法の提供。
【解決手段】 研削加工された基板を除去するたびに円盤状ポ−ラスセラミック製チャック１２を洗浄する方法において、この円盤状ポ−ラスセラミック製チャック上でブラシ洗浄された研削加工基板の枚数に応じて始めはセラミック製竿３２のみで１回チャック洗浄し、次ぎのチャック洗浄からｒ回（ｒは１〜１００の整数である。）はブラシ３１のみでチャック洗浄し、以降、研削加工された基板が取り去られた円盤状ポ−ラスセラミック製チャックをセラミック製竿３１のみで１回、続いてブラシのみでｒ回規則正しく円盤状ポ−ラスセラミック製チャック表面をチャック洗浄することを繰り返す。従来のセラミック製竿３１のみでチャック洗浄する方法と比較し、ブラシ洗浄を塀用することでチャックの磨耗量が減少し、傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物に噴射する液滴の大きさを均一に小さくし、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。
【解決手段】 噴射用のガスと液体とを混合して液滴を形成し、この形成された液滴を噴射して被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記液体に予め気泡発生用のガスを溶解させて過飽和状態の液体とするようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】製品を洗浄する方法において、大量の純水を精製して使用せずに、循環して高周波により殺菌すると共に加熱・冷却により、適宜の温度で効率良く、安価に、生菌による汚れがな製品を洗浄することを目的とする製品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】
製品を洗浄する純水が循環して、加温冷却により所定の温度で製品を洗浄する方法であって、前記、循環する純水が高周波により殺菌して使用されることを特徴とする製品の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の非処理領域を確実に保護することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲが、該非処理領域ＮＴＲに近接して対向配置される遮断板５とカバーリンスノズル７から供給されるリンス液とによって選択的に覆われる。このように基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲを保護することで、非処理領域ＮＴＲのうちリンス液が接液することによって錆もしくは吸湿などの影響を受ける部位については、遮断板５の対向面５ａで覆うことによって該部位（対向部位ＮＴＲ１）を保護することができる一方で、リンス液の接液によって影響を受けない部位（非対向部位ＮＴＲ２）については、リンス液で覆うことによって遮断板５の真円度などの外形形状および基板Ｗの中心と遮断板５の中心との相対位置精度にかかわりなく保護することができる。したがって、基板表面Ｗｆの非処理領域ＮＴＲが確実に保護される。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも改善された洗浄性、リンス性および防蝕性、さらには環境への負荷の少ないエレクトロニクス用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記（Ａ）〜（Ｆ）を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤である。
（Ａ）；炭素数８〜２４の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性化合物
（Ｂ）；融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール
（Ｃ）；一般式（１）で示されるグリコールエーテル
（Ｄ）；防錆剤
（Ｅ）；界面活性剤
（Ｆ）；水
Ｒ¹−Ｏ−（ＸＯ）_n−Ｒ² （１）
式中、Ｒ¹は炭素数４〜８の炭化水素基、Ｒ²は水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】 液晶用ガラス基板に代表されるガラス基板等の基板を洗浄する新たな基板洗浄装置を提供しようとする。
【解決手段】
従来の本発明に係る基板洗浄装置にかわって、基板を一方の表面を上方に向けて搬送する基板支持装置と、基板の下方に位置し前記一方の表面と距離Ｄを隔てて上方に向いた平面を形成する平板と前記平面と基板との間に液体を貯留可能な液体貯留空間を囲う側面を形成し上端部と前記他方の表面との間に隙間を設けられた側板とを有する貯留槽と、前記平面から上方に向けて超音波を発振する超音波発振装置と、前記液体貯留空間に第１液体を供給する下部液体供給装置と、基板の一方の表面に第２液体を供給する上部液体供給装置と、を備えるものとした。 （もっと読む）

【課題】マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】マスクに付着された物質にレーザビームを照射するステップと、マスクに付着された物質を除去するステップと、を含むことを特徴とするマスク洗浄方法である。これにより、マスクに付着された物質を迅速かつ効率的に除去できる。また、マスクに付着された物質を除去するステップは、マスクを超純水に浸漬するステップと、マスクを有機溶剤に浸漬するステップと、を含むものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 設備費用、環境負荷などを低減することができ、被洗浄物の電気的特性が限定されず、被洗浄物に付着する汚染物を剥離除去する能力の高いウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 基板４の上方に、基板４の被洗浄面４ａを臨むように配置され、被洗浄面４ａに洗浄液５を供給するノズル２と、基板４を載置して搬送する基板搬送手段とを含むウェット処理装置において、ノズル２がノズル容器１０とノズル壁体１１とからなり、スリット状開口部１３を有し、スリット状開口部１３に隣接するノズル容器内壁１０ａには電極１６が配置され、電極１６に電源２０から電圧を印加することによって純水を電気分解してラジカルなどの活性種を発生させ、該活性種を含む純水を洗浄液５として被洗浄面４ａに吐出する。 （もっと読む）

【課題】
Ｎａ，Ｋ，Ａｌ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ｃａ及びＭｇ等の金属不純物を容易かつ十分に除去することのできる石英ガラス治具又は該石英ガラス治具の製作工程途中の部材の洗浄方法及び該洗浄方法に好適に用いられる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】
半導体製造プロセスで使用される石英ガラス治具又は該石英ガラス治具の製作工程途中の石英ガラス部材の酸洗浄を含む洗浄方法において、該酸洗浄後に３０〜７０℃の純水中で超音波洗浄を少なくとも１回行うようにした。 （もっと読む）

【課題】 処理液の流れ方向を常に変化させることにより、被処理基板の処理効率を上げて基板表面の均一化を可能にした基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 複数枚の被処理基板Ｗを収容できる処理槽２と、処理槽の底部に配設された複数本の処理液供給管３１〜３５と、この処理液供給管に処理液を供給する制御装置５とを備えた基板処理装置１において、処理液供給管３１〜３５のうち、第１処理液供給管３１は処理槽の底壁面２２の中央部に、第２処理液供給管３２、３３は第１処理液供給管の両側に、噴射ノズルを前記処理槽内に収容される被処理基板Ｗの中央部に向けて配設し、第３処理液供給管３４、３５は前記処理槽の側壁に噴射ノズルを被処理基板Ｗの頂部に向けて配設し、制御装置５は被処理基板Ｗの洗浄時に処理液を前記第１処理液供給管３１からは常時、前記第２、第３処理液供給管からは秒単位の間隔で交互に切換えて供給する。 （もっと読む）

【課題】 基板へのダメージを低減しつつ、基板表面の不要物を効率的に除去することのできる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】 スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。基板裏面Ｗｂに供給された温水により基板Ｗが昇温され、基板表面Ｗｆに接液する処理液から溶解させている窒素を泡として効率的に発生させることができる。これにより、基板表面Ｗｆのパーティクルを効率良く除去するとともに排出される。しかも、基板表面Ｗｆで直接に泡を発生させているので泡が成長することなく比較的小さな泡で基板Ｗを処理することができるので、基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンロッドを均一に洗浄し、前槽の洗浄液の持ち込みが少なく、洗浄効果に優れた洗浄方法と洗浄装置を提供する。
【手段】多結晶シリコンを切断して得たロッドをバスケットに収納し、該バスケットを洗浄槽に浸漬して上記ロッドを洗浄する方法において、洗浄槽内で上記バスケットの片側を上下動して該バスケットを傾動することによって、バスケット内部のロッドを揺動ないし回転させて酸洗浄や純水洗浄を行い、あるいは上記バスケットの底部にロッドが脱落しない大きさの開口を設ける一方、バスケットを載置する支持台の上面に上記開口部を通じてロッドを回転する手段を設け、洗浄槽内で上記バスケット内部のロッドを強制回転させて酸洗浄や純水洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法および装置。 （もっと読む）

電子部品の洗浄に使用する超音波洗浄タンクであって、孔部を有する分流プレートに操作可能な状態で分離された上方部と下方部を有する。ピストン様の層流領域を発生させるために、洗浄タンクは、上方部の内部に突起物や障害物が存在しないように製造されている。孔部を通る洗浄流動体に均質流の発生を促進させるように、分流プレートは下方部内に反圧を提供するようになっている。洗浄流動体は電子部品を通過して上昇する。同時に、超音波トランスジューサが洗浄流動体内に超音波エネルギーを供給し、電子部品から汚染物が取り除かれるように超音波キャビテーション現象を促進する。汚染物は層流によって上方に運搬され、洗浄タンクの上縁部から溢れ出る。洗浄タンクはバッチモードまたは循環モードのどちらかで使用できる。 （もっと読む）