【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができるとともに複数の処理を効率的に行うことができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置し被処理基板Ｗを収容する第１領域１２と整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２ａを用いて被処理基板を処理する方法である。処理方法は、第１の薬液を第２領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、第２の薬液を第１領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、を有する。第１の薬液は、少なくともウエハの周囲で上昇流が形成されるよう、供給される。第２の薬液は、少なくともウエハの周囲の液体を攪拌するよう、供給される。 （もっと読む）

【課題】大きさの異なる基板を、割れや欠け等の不具合を発生させることなく容易に洗浄する。
【解決手段】収納カセット３は、異なる大きさの液晶表示パネル２が収納可能であり、収納カセット３に収納されている液晶表示パネル２の大きさによって、洗浄槽１１における洗浄液１０の循環量および超音波の発振出力量を調整する制御部２７と、収納カセット３に収納されている液晶表示パネル２の大きさを検出する検出センサ１３とを有し、制御部２７は、検出センサ１３により検出された液晶表示パネル２の大きさにしたがって、洗浄液１０の循環量および超音波の発振の出力量を調整する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置する第１領域１２ａと整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２を用いて行われる。基板処理方法は、第１領域内に被処理基板Ｗを配置し、処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬する工程と、第２領域に薬液を供給して処理槽内の処理液を薬液で置換する工程と、第２領域に水を供給して処理槽内の薬液を水で置換する工程と、を備える。置換時に、第２領域に供給された液体は、整流部材を介して第１領域に流入し、第１領域内の少なくとも基板の近傍において上昇流が形成される。 （もっと読む）

【課題】簡便で安価な構成により、液剤製品を製造する設備を効率的に洗浄することが可能な液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】液剤を調製するための配合槽２と、配合槽２に原料を供給する原料供給ライン３と、配合槽２から液剤を循環させて再び配合槽２に戻す循環ライン４と、循環ライン４の経路内及び／又は循環ライン４から外部に接続するように設けられるバルブ５と、が備えられた液剤配合設備１を洗浄するための洗浄方法であり、配合槽２に洗浄媒体を供給して配合槽２を洗浄するとともに、前記洗浄媒体を配合槽２から循環ライン４に循環させて該循環ライン４を洗浄する際、バルブ５を開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する方法である。 （もっと読む）

【課題】枚葉式の基板処理装置におけるウェット処理において、基板に帯電する電荷量を抑制することが可能な電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電気光学装置用の基板を鉛直軸周りに回転し、該基板の一方の面に対して複数の処理液を順次供給することにより前記基板を処理し、該処理中において前記基板側に開口した環状の複数の処理液案内部が上下方向に多段に配置されて構成される処理液回収手段により、前記基板から飛散する処理液を回収する電気光学装置の製造方法において、前記処理液回収手段の最も上方に設けられた前記処理液案内部のみにより、前記複数の処理液を回収し、前記処理液案内部に連通する複数の処理液回収経路を、前記回収された複数の処理液に応じて経路切換手段により切り換えることで、前記回収された複数の処理液を種類ごとに分離する。 （もっと読む）

【課題】処理容器内に供給する水蒸気などの処理流体を、常に安定した流量で供給できるようにする。
【解決手段】被処理体Ｗを収納する処理容器３０と、所定の温度の処理流体を発生させる処理流体発生部４１とを備えた処理システム１であって、処理流体発生部４１から処理流体が供給される主流路５６に、切替弁７０を介して、処理容器３０内に処理流体を供給する処理側流路７１と、処理容器３０内を迂回させて処理流体を通すバイパス側流路７２を接続し、主流路５６に、処理流体の流量を調節する流量調節機構５６、６５を設けたことを特徴とする。処理流体発生部４１から処理流体が供給される主流路５６に流量調節機構５６，６５を設けているので、流量調節機構５６，６５に対して常に処理流体が供給される。そのため、流量調節機構５６，６５の温度が常に一定となる。 （もっと読む）

【課題】
蒸気噴出後、処理基板上に蒸気を集中化させ、熱エネルギーと打力の集中化を利用して洗浄対象物を除去する蒸気ノズルを提供する。
【解決手段】
蒸気をノズル内部の分散板にて分散させ、分散蒸気をコアンダ効果によりテーパ状側壁にてノズル中心軸上の集束点に噴射する。この構造をもつ集束ノズルを使うことによって、一般的な円形ノズルにみられる高温流体の温度低下を防止し、温度効率のよい蒸気を処理基板上に噴射させることができる。また、集束ノズルにて集中化した蒸気の熱エネルギーと打力を効果的に利用することで、今まで除去が困難であったパーティクルの洗浄やレジスト膜等の除去が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、疎水性基板の上面に好適に処理液層を形成することによって、
乾燥処理にてウォーターマークの発生を抑制する基板の表面処理方法、及び、基板の表面
処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板Ｓの表面の洗浄処理後、処理液保持枠１６を基板Ｓの側面に接触させ、
純水層ＷＳを形成する。基板Ｓへの純水Ｗの供給を停止すると共に、基板Ｓの中心部に窒
素ガス供給ノズル１１から窒素ガスＧを噴出する。純水Ｗが除去されて基板Ｓの表面が略
円形に露出する。乾燥穴ＧＳが処理液保持枠１６に達すると同時に、処理液保持枠１６を
基板Ｓから離間させる。基板Ｓの四辺に残る純水層ＷＳは、スムーズに基板Ｓの側面から
流出する。これによって、基板Ｓの表面の乾燥処理が完了する。 （もっと読む）

【課題】複雑な機構を用いることなく液が基板の表面に到達することを阻止した状態で基板の裏面、または基板の裏面およびエッジ部を液処理することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部２と、ウエハ保持部２をウエハＷとともに回転させる回転機構３と、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷの裏面に液を供給する裏面側液供給ノズル６と、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷの周囲を囲繞するように設けられた排液カップ５１と、ウエハ保持部２に保持されたウエハの外側に、裏面側液供給ノズル６からウエハ裏面に供給された液がウエハＷの表面側に回り込むことを阻止するように環状に設けられ、ウエハＷから振り切られた液を排液カップ５１に導く仕切り部材３５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】シリコン製若しくはガラス製の基板表面、または基板表面に形成された無機系被膜表面に強固に付着している無機系の異物を表面粗さの増加を抑えながら容易に除去することができ、しかも一度除去された異物が基板表面に再付着することが防止された異物除去方法の提供。
【解決手段】シリコン製若しくはガラス製の基板表面または該基板表面に形成された無機系被膜表面から無機系異物を除去する方法であって、前記基板材料、前記無機系被膜材料および前記無機系異物のうち少なくとも１つに対して０．０１／ｃｍ以上の光吸収係数となる波長域の光線を、酸素若しくはオゾン含有雰囲気下にて前記基板表面若しくは前記無機系被膜表面に照射量１０Ｊ／ｃｍ²以上で照射した後、負の表面電位を有する前記基板表面若しくは前記無機系被膜表面にｐＨ≦６の酸性溶液を曝すことを特徴とする基板表面若しくは該基板表面に形成された無機系被膜表面から無機系異物を除去する方法。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の清浄度を低下させることなく、仕上げ精密洗浄工程をインラインで行えるトンネル型洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】中空通路26と、この中空通路を貫通する状態で設けられ、中空通路を通じて洗浄対象物を搬送する搬送装置8と、中空通路内の入口部側に配置され、搬送装置によって搬送される洗浄対象物に付着している付着物を洗浄除去する洗浄装置3，4と、洗浄装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、洗浄された洗浄対象物の水切りを行う水切装置5と、水切装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、水切りされた洗浄対象物を加熱乾燥する乾燥装置6と、乾燥装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、乾燥された洗浄対象物を冷却する冷却装置7とを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】純水が飛散する際に生じるカップ部の帯電による基板の誘導帯電により、基板上にて放電が生じてしまうことを防止する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理液供給部３から供給されて基板９から飛散する処理液を受け止めるカップ部４１を有し、カップ部４１は絶縁材料にて形成される。カップ部４１の外周面４１１ｂには親水化処理が施されており、基板９を処理する際に、カップ部４１の外周面４１１ｂにおいて水が保持される。これにより、カップ部を特殊な導電材料にて形成して基板処理装置１の製造コストを大幅に増大させることなく、純水が飛散する際に生じるカップ部４１の帯電電位を外周面４１１ｂにて保持される水にて抑制することができ、その結果、基板９の誘導帯電により基板９への処理液の供給時に基板９上にて放電が生じてしまうことを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に対して良好に洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】薬液ユニット１０は、基板Ｗの薬液処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット６０は、薬液ユニット１０により薬液が供給された基板Ｗにマイクロバブル水を供給して、マイクロバブル水による洗浄処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット６０は、主として、複数の上側ノズル６１と、複数の下側ノズル６２と、液ナイフ６６と、貯留槽２０と、マイクロバブル発生部２１と、を備えている。これにより、薬液処理後の基板Ｗにマイクロバブル水を供給することができる。そのため、薬液処理において基板に付着した薬液をマイクロバブル水により迅速に置換することができ、洗浄処理に使用される処理液の量を低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】水没した精密電子機器を分解することなく、電子回路素子に悪影響を及ぼすことを抑え、内部に入り込んだ水分、水分に含まれる異物を除去する。
【解決手段】水没した精密電子機器Ａを気密容器８に配置し、超純水タンク１１から超純水を入れて電気抵抗センサー１４からの信号で流入、排出バルブ１２，１３の制御をおこない、複数の超音波振動子Ｂを切り替えながら超音波発信機１６で洗浄し、超純水を排出した後、気密容器８内部を気圧センサー４で検出することにより、排気ポンプ１と外気導入コントロール電磁バルブ３及び排出コントロール電磁バルブ２を制御して、外気流入制御をおこない、気密容器内を最適気圧に保つ。 （もっと読む）

【課題】氷の微粒子を含む処理液を用いて基板の洗浄処理を行う場合において、処理むらを生じることなく均一な基板処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。
【解決手段】マイクロバブルを多量に含有し氷の微粒子を含む処理液を貯留する貯留槽１４と、処理液中で氷の微粒子を生成する製氷ユニット１６と、処理液中でマイクロバブルを発生させるバブル発生ユニット１８と、マイクロバブルを含有し氷の微粒子を含む処理液を基板Ｗの主面へ供給して基板の主面を洗浄する基板洗浄部１０と、貯液槽１４から基板洗浄部１０へマイクロバブルを含有し氷の微粒子を含む処理液を供給する手段とを備えて装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板に供給して処理する基板処理装置において、処理中における基板の帯電を抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板２に向けて処理液の液滴を吐出する吐出口４６を有する吐出手段４１、および、吐出手段４１の外壁４１１に設けられた誘導電極４４を備える。処理液供給ユニット４１３は導電線４９を介して接地される。誘導電極４４は電源４５に接続され、処理液供給ユニット４１３と誘導電極４４との間に電位差が付与されることにより、電荷が誘導された処理液の液滴が生成される。基板処理装置１では、電荷が誘導された処理液の液滴により基板２を洗浄することにより、洗浄中および洗浄後における基板２の帯電を抑制することができる。また、外壁４１１に誘導電極４４が配置されることにより、外壁４１１の内部で液滴が生成される吐出手段に対しても、簡単な構成で誘導電極を配置できる。 （もっと読む）

【課題】少ない洗浄液で効率よく被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】垂直な姿勢で保持されたガラス基板Ｇの表面を洗浄ヘッド２０で走査して洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０の先端部に洗浄液保持枠５０を取り付け、噴射口２２から噴射される洗浄液を噴射口２２とガラス基板Ｇとの間で保持する。これにより、少ない量の洗浄液を噴射した場合であっても、常に噴射口２２とガラス基板Ｇとの間に洗浄液が満たされるので、超音波による洗浄効果を有効に作用させることができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を使用する基板処理装置および基板処理方法において、基板に対してマイクロバブルまたはナノバブルを効果的に作用させることができる技術を提供する。
【解決手段】マイクロバブル洗浄処理部４０は、圧送される洗浄液中に注入する窒素ガスの流量を調節することにより、洗浄液中に含まれるマイクロバブルのサイズを調節することができる。このため、除去対象となるパーティクルのサイズに応じて最適なサイズのマイクロバブルを多量に供給することができ、基板に対してマイクロバブルを効果的に作用させることができる。 （もっと読む）

【課題】少ない洗浄液で効率よく被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波が印加された洗浄液を洗浄ヘッド２０から噴射してガラス基板Ｇを洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０を外部ヘッド２４と内部ヘッド２６とで構成する。洗浄液は、外部ヘッド２０に形成された供給口２８から供給され、外部ヘッド２４と内部ヘッド２６との間に形成される流路３２を通って噴射口２２から噴射される。外部ヘッド２４を内部ヘッド２６に対して前後移動させると、流路３２の断面積が変化し、噴射口２２から噴射される洗浄液の流量が調整される。これにより、ガラス基板Ｇのサイズや汚れの程度、求められる洗浄の程度に応じて適切な流量で洗浄液を噴射することができ、必要最小限の洗浄液でガラス基板Ｇを洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく基板表面の周縁部から不要物を良好にエッチング除去することができる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。基板Ｗの上方に対向部材５が対向位置に配置された状態で、複数のガス吐出口５０２およびガス供給路５７から基板表面Ｗｆと対向部材５の下面５０１との間の空間ＳＰに窒素ガスが供給され、基板Ｗが支持ピンＦ１〜Ｆ１２，Ｓ１〜Ｓ１２に押圧される。第１ノズル３を供給位置Ｐ３１に位置決めして第１ノズル３から薬液を回転する基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給するとともに、第２ノズル４を供給位置Ｐ４１に位置決めして第２ノズル４から薬液を基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給する。基板Ｗの表面周縁部ＴＲの複数箇所に薬液が供給されるため、薄膜のエッチング除去に要する時間が短縮される。 （もっと読む）