【課題】ウェハーシッピングボックスの洗浄工程が終了した後、トレーを上昇するときに発生する負荷を減らし、乾燥工程を行うときの２次汚染の発生を防止する構造を持つボックスクリーナーを提供すること。
【解決手段】本発明によるボックスクリーナーは、純水が満たされる収容空間が設けられて下部には超音波発生機が配置された超音波洗浄槽と、ウェハーシッピングボックスが積載されるトレーと、前記トレーを前記超音波洗浄槽の内部に投入または搬出させるための駆動力を提供する昇降機構と、洗浄工程が完了した後、前記シッピングボックスを乾燥する乾燥装置を含むボックスクリーナーにおいて、前記超音波洗浄槽の一側には、洗浄工程が完了したときに前記シッピングボックスの内部に気体を噴射して前記シッピングボックス内部の純水を押し出すことで排水する気体噴射部が備えられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上の不要物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】バキュームチャック１１の上方には、ほぼ円錐形状の遮断板１２が配置されている。遮断板１２の下面１２１には、それぞれエッチング液、純水および窒素ガスを吐出する開口１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成されている。エッチング液、純水および窒素ガスは、ウエハＷの回転半径外方に向かうにつれてウエハＷに近づくように傾斜した方向に吐出されて、それぞれウエハＷの表面のエッチング液供給位置Ｐｅ、純水供給位置Ｐｄおよび窒素ガス供給位置Ｐｎに供給される。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板エッチング方法及びその装置を開示する。
【解決手段】 ガラス基板エッチング方法が開示される。まず、エッチング領域と洗浄領域を含むベースに収容されたエッチング液にガラス基板を沈積して、前記ガラス基板をエッチングする。前記ガラス基板を前記ベースの洗浄領域へ移送し、前記エッチング領域と前記洗浄領域を分離する。前記洗浄領域のエッチング液を排出する。前記ガラス基板に洗浄液を加える。従って、ガラス基板エッチング工程の効率を改善し、ガラス基板の品質低下を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２３を通して簡易式熱交換器Ｓ２に導かれる。簡易式熱交換器Ｓ２により冷却された処理液は、配管２３，２５を通して処理液タンクＴＢに戻される。処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。配管２１は処理液タンクＴＡ内を通過するので、配管２１を流れる処理液は、処理液タンクＴＡ内の処理液によって温調される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の洗浄効率が向上した基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板洗浄装置は、基板がロードされるステージと、前記基板に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記基板に一端で接触して、音波を伝達しつつ前記基板を洗浄する振動子と、前記振動子の他端部に備わって前記音波を発生する圧電ユニットであって、互いに離隔された少なくとも二つ以上の圧電体を有する圧電ユニットと、を含み、好ましくは、前記音波は、前記圧電体から各々発生され、前記各発生された音波は前記基板に隣接する前記振動子の一端の表面で互いに補強干渉する（同位相で重畳する）、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスの切断、切削又は端面研削等のガラス加工時に発生するサブミクロン〜数百ミクロンの切り屑がガラス表面に付着あるいは凝着することを防止すること。
【解決手段】本発明は、（１）ガラス加工前に、予めガラス表面に非イオン性界面活性剤水溶液を付着させる工程、（２）前記工程（１）において非イオン性界面活性剤水溶液を付着させたガラスを加工する工程、及び（３）前記ガラス加工工程（２）により生じたガラス切り屑を、非イオン性界面活性剤水溶液と共に除去する工程を含む、ガラス切り屑付着が抑制されたガラス製部材の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】洗浄流体が満たされた洗浄槽に被洗浄物を設置して被洗浄物を洗浄する洗浄装置、洗浄槽および洗浄方法に関し、洗浄流体中の異物を排出し、洗浄流体の清浄度を維持して被洗浄物を洗浄槽より回収する際に異物の再付着を防止することを目的とする。
【解決手段】洗浄流体が満たされた洗浄槽１内に被洗浄物を設置し、洗浄流体により被洗浄物を洗浄して被洗浄物の表面の異物を除去する際に、洗浄槽１内の洗浄流体に対し所定の流れを形成する流れ制御手段５と、洗浄流体の所定の流れの流路上に配置され、かつ、洗浄流体を排出する排出手段３とを備え、排出手段３によって洗浄流体を洗浄槽外に排出するように構成される。 （もっと読む）

液体、気体、流体化された固体、分散液、これらの組み合わせなどの一種類以上の処理材料により超小型電子半製品を処理するツール。本発明は単一もしくは複数の湿潤表面の迅速で有効な洗浄手法を提供すると共に、本発明は、処理されつつある半製品の全体に亙り先細の流れチャネルを画成する如き様式で上記半製品の上方に位置する隔壁板の如き移動可能な隔壁構造の下側表面を洗浄すべく使用されるときに特に好適である。不都合な跳ね返り、液滴もしくは霧を生成する様式で上記表面上へと洗浄液を噴射するのではなく、上記液体は、好適には層流条件下で、洗浄されるべき上記表面と流体連通する表面上へと流れるように供与される。円滑で均一な湿潤作用および薄寸体状展開作用に帰着することで、粒子汚染を引き起こす虞れが相当に減少された洗浄が行われる。
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【課題】枚葉方式で基板の洗浄を行う場合に、基板表面からパーティクルや金属汚染物質を効果的に短時間で除去でき、基板表面のエッチング量が多くなることもない方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル８０により、塩酸を含むフッ酸からなるエッチング液と気体とを混合して生成される液滴を、表面に自然酸化膜が形成された基板Ｗの表面へ噴射し、基板表面をエッチングして洗浄する。 （もっと読む）

【課題】基板上の微細パターンを損傷させることなく、効率の高い基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】単数枚または複数枚の基板を１バッチとし、１バッチの基板をウェットエッチング液に浸漬する工程と、超音波洗浄する工程と、乾燥する工程とを備えるバッチ式ディップ処理方式による基板の洗浄方法であって、超音波洗浄工程は、大気圧下における溶存ガスの飽和度が６０％〜１００％である洗浄水を用い、超音波の周波数が５００ｋＨｚ以上、超音波の出力が０．０２Ｗ／ｃｍ²〜０．５Ｗ／ｃｍ²である。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板、例えばフォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスクあるいはそれらの製造中間体等を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄液中の異物を除去する異物除去工程を含み、異物を除去した洗浄液を被洗浄基板に供給して洗浄する洗浄方法であって、少なくとも、前記洗浄液をフィルタで濾過して洗浄液中の異物を除去する前記異物除去工程において、併せて洗浄液中の気泡を除去し、前記気泡の除去および異物の除去を行った洗浄液を被洗浄基板に供給して洗浄することを特徴とする洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】基板表面の残渣を除去しつつ、基板表面の酸化を抑制する洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ナノバブル水を用いて磁気記録媒体用基板表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板の洗浄方法および該洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】超音波の高周波化に伴う内槽の板厚を従来のように薄くすることなく、洗浄槽の内槽内における音圧を確保しつつ、超音波の高周波化に対応した超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供することすること。
【解決手段】超音波振動を伝達する伝達媒体を貯留するための外槽５と、前記外槽５の内部に配置され、内部に貯留される洗浄液内に浸漬される前記被洗浄物を、前記伝達媒体を介して伝達される超音波振動により洗浄するための内槽３からなると洗浄槽とを備え、前記内槽の底板３ａは、超音波振動数の２分の１波長（半波長）の整数倍の板厚を有し、前記内槽の底板３ａと前記外槽の底板５ａとが平行とならないように前記内槽の底板３ａを傾斜するように配置する。 （もっと読む）

【課題】 使用する洗浄液の量が少なく、装置の小型化が可能であり、連続的に、均一かつ高効率に粒子の洗浄を行うことができる粒子の洗浄方法およびそれを用いる粒子洗浄装置を提供することである。
【解決手段】
分散液供給工程において粒子分散液を加圧して連続的に混合空間に供給し、洗浄液を加圧して連続的に混合空間に供給することにより粒子を洗浄するようにする。 （もっと読む）

【解決手段】プロキシミティヘッドを形成及び使用するシステム並びに方法。プロキシミティヘッドは、ヘッド表面を含み、該ヘッド表面は、第１のゾーンと、第２のゾーンと、内部戻りゾーンとを含む。第１のゾーンは、第１の平坦な表面領域と、複数の第１の個別穴とを含む。複数の第１の個別穴の各穴は、複数の第１の導管のうちの対応する１本に接続されている。複数の第１の個別穴は、ヘッド表面内にあり、第１の平坦な表面領域に広がっている。複数の第１の個別穴の少なくとも一部分は、第１の列に配置される。第２のゾーンは、第２の平坦な表面領域と、複数の第２の個別穴とを含む。複数の第２の個別穴の各穴は、複数の第２の導管のうちの対応する１本に接続されている。複数の第２の個別穴は、ヘッド表面内にあり、第２の平坦な表面領域に広がっている。内部戻りゾーンは、複数の内部戻り個別穴を含む。内部戻りゾーンは、第１のゾーンと第２のゾーンとの間にそれらに隣接して位置している。複数の内部戻り個別穴の各穴は、複数の内部戻り導管のうちの対応する１本に接続されている。複数の内部戻り個別穴は、ヘッド表面内にあり、ヘッド表面に広がっている。複数の内部戻り個別穴の少なくとも一部分は、内部戻り列に配置される。第１の列と内部戻り列は、実質的に平行である。複数の内部戻り個別穴の各穴の縁の第１の部分は、ヘッド表面内に入り込んでいる。 （もっと読む）

本発明は、汚染物質（例えば落書き）を基材から取り除くための方法に関する。この方法は、被覆用組成物を基材に塗布するステップであって、被覆用組成物は水、水溶性フィルム形成用重合体、濡れ剤、および揺変性添加剤を含むステップ；水系組成物を脱水させ、および／または重合体を架橋させて犠牲バリアー被覆物を形成させるステップ；汚染物質をバリアー被覆物上に堆積させるステップ；および基材からバリアー被覆物の少なくとも一部と汚染物質とを取り除くステップを含む。 （もっと読む）

本発明は、洗浄組成物、及び多様な基材の洗浄のために該洗浄組成物を使用する方法、及びこのような洗浄組成物を製造する方法に関する。 （もっと読む）

本明細書中で開示されるのは、炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む組成物である。更に開示されるのは、５００ｒｐｍより大きい速度で溶液を少なくとも２時間混合するステップを含む、洗浄目的で乳濁液を調製する方法であり、溶液は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。更に本明細書中で開示されるのは、印刷機のローラ、プレート、又はブランケットの洗浄混合物での洗浄方法であり、その方法はローラ又はブランケットを洗浄混合物と接触させるステップを含み、洗浄混合物は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。 （もっと読む）

【課題】フロンを使用せず精密洗浄を行なえ、宇宙機器のような中小物部品から大型内部複雑構造物・配管類に至る迄の、多様な洗浄対象物に対応できる水系洗浄方法および水系洗浄装置。
【解決手段】洗浄対象物に対して脱脂洗浄、アルカリ洗浄、高圧水洗浄、純水仕上げ洗浄、検査、乾燥の各工程を前記順に行なう水系洗浄方法であって、脱脂洗浄工程においては洗浄対象物を溶剤またはアルカリ洗浄剤で予備的な脱脂洗浄を行なった後、純水によるリンスを行い、アルカリ洗浄工程では洗浄対象物をアルカリ洗浄剤で洗浄したのち、純水によるリンスを行い、高圧水洗浄工程では洗浄対象物に高圧の純水をノズルから直接噴射し、純水仕上げ洗浄では洗浄対象物に対し純水超音波洗浄と純水フラッシング洗浄を行い、検査工程では洗浄対象物の清浄度検査のため粒子検査用のサンプリング液と油分検査用のサンプリング液を採取し、乾燥工程では洗浄対象物の付着水分を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】大型の被洗浄物であっても、超音波が被洗浄物の全域に渡って照射が可能で、被洗浄物の表面近傍の溶出金属イオン、パーティクルなどの洗浄効果が得られ、大型被洗浄物の洗浄ができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本超音波洗浄装置は、水を貯える貯水槽と、この貯水槽内に移動可能に設けられ、かつ洗浄される被洗浄物が収容され、純水がオーバフローするように供給される石英ガラス容器と、この石英ガラス容器に純水を供給する純水供給装置と、石英ガラス容器の移動位置に対向して貯水槽の底部に配される超音波振動子と、石英ガラス容器を移動させる石英ガラス容器移動機構を備える。 （もっと読む）