【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、液供給機構１５と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口３０ａを有した供給ライン３０と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット５０と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン３５と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁３８ａと、を有する。液供給切り替え弁３８ａは、供給ライン３０上に設けられ、供給ライン３０から戻しライン３５を介して液供給機構１５へ戻る液の経路上に、位置している。 （もっと読む）

【課題】光学素子等の被洗浄物の乾燥工程の動作を単純化できる乾燥装置を提供する。
【解決手段】軸回りに回転するローター４４を内部に有する回転乾燥部４と、被洗浄物を保持する保持部及び前記保持部が収容された保持治具本体を有しローター４４に対して脱着自在な保持治具５と、ローター４４に対する保持治具５の回転動作によってローター４４と保持治具５とを嵌合させる回転嵌合機構１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】大量の洗浄液を用いることなく陰極に生成されたスケールを除去でき、貯水槽内の水が洗浄液で汚染されないようにするスケール除去装置を提供する。
【解決手段】ポンプ８の駆動によって、洗浄液回収タンク９内の洗浄液３０が吸引され、洗浄液流出部６内に導入される。洗浄液流出部６内に導入された洗浄液３０は、複数の穴６ａから滴下され、陰極４の露出面のうち貯水槽１内の水面に向かう露出面に添加される。その洗浄液３０によって陰極４の露出面に生成されたスケールは、その露出面に添加された洗浄液３０によって溶解する。そして、その洗浄液３０は、洗浄液流出部６より下方に配置された洗浄液収集部７により拭い取られ、洗浄液収集部７の溝部７ａを通って洗浄液回収タンク９に流れ込み回収される。 （もっと読む）

【課題】 高圧蒸気を微小領域に吹き付け、当該微小領域を拡大させることで被洗浄対象物の洗浄を行う洗浄装置を提供する。
【解決手段】 特定部に開口する槽形状の洗浄槽の開口部をエアカーテンにて閉鎖することとし、洗浄槽内に置かれた被洗浄物に対して高圧蒸気を吹き付けるノズルを、該エアカーテンを超えた洗浄槽内に配置することとする。 （もっと読む）

【課題】 汚砂だけでなくし渣をも対象として内部に目詰まりを起こすことなく洗浄処理が効率的になされるようにした汚砂・し渣洗浄処理方法ならびにその装置を提供すること。
【解決手段】 沈砂池から導かれる汚砂を、洗浄水を満たした処理槽内に投入してのち、エアーあるいは水などの流体の導入により上昇流を発生可能なリフト管内に汚砂を含む洗浄水を吸引・上昇させるとともに処理槽内に放出することでリフト管内と処理槽内との間で循環攪拌流を形成して汚砂を洗浄処理する工程と、沈砂池から導かれたし渣を洗浄水中に投入してリフト管を通して処理槽内に循環攪拌流を形成してし渣を洗浄処理したあと一方向に押しやって掻き揚げ処理する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】基板上に処理液が存在するか否かについて、簡易な構造で検出し、製品の歩留まりの悪化を抑えること。
【解決手段】スピンチャック２に静電センサ５４Ａ〜５４Ｃを埋設する。静電センサ５４の静電容量は、基板であるウエハＷ上に処理液が存在すると、存在しない場合に比べて大きくなる。従って静電センサ５４Ａ〜５４Ｃにより、スピンチャック２上のウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することができる。従って所定のタイミングでウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することによって、処理液ノズル４からの処理液の吐出や、基板上における処理液の拡散の異常を速やかに検出できるため、これらの異常に直ちに対処でき、製品の歩留まりの悪化を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】経時変化や故障、人為的ミス等により所定の閾値を超えた場合に当該事実を自動報知することが可能な極めて実用性に秀れた超音波強度監視装置の提供。
【解決手段】洗浄液１が貯留される洗浄槽２に該洗浄液１に超音波振動を付与する振動部３が設けられ、この超音波振動が付与される洗浄液１により被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に設けられる超音波強度監視装置であって、前記洗浄槽２に接合部材を介して設けられ前記超音波振動を感知して前記洗浄槽２に伝達される超音波強度を検出する超音波強度検出センサ４と、この超音波強度検出センサ４と接続され該超音波強度検出センサ４で検出した前記超音波強度が所定の上限閾値若しくは下限閾値を超えた際、この上限閾値若しくは下限閾値を超えたことを報知する報知機構を有する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 従来、洗浄室内のテーブルにワークをセットし、ワークの全周面を、上下・左右側面・下面の四方向に設けた洗浄、乾燥ノズルを、公転と自転を介して、一気に洗浄、乾燥する構成であり、洗浄等のエリアーが広く、効率的な洗浄等が図れる。しかし、構造上で、小型のワーク、小ブロックの洗浄等は構造上で適する。しかし、大型ワークの洗浄、乾燥と、オーバーホールに関しては、必ずしも、十分とは考えられない。

【解決手段】 本発明は、ワークの全周面を、上下・左右側面・下面の四方向に設けた洗浄、乾燥ノズルを、公転と自転を介して、一気に洗浄、乾燥する構成であるが、この公転を、フレームに設けた回転枠体でする構造として、その洗浄、乾燥エリアーの拡大を図り、大型ワークの洗浄、乾燥と、オーバーホールに有効な、全面洗浄装置を帝位供する。 （もっと読む）

【課題】物品への汚れの再付着を低減できる物品洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄すべき物品を内部に密閉可能に収容する洗浄槽３と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環する洗浄液７を貯留する洗浄液タンク手段６と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環するすすぎ液１６を貯留するすすぎ液タンク手段１５と、一端が液体排出口８に接続され、他端が洗浄液タンク手段６又はすすぎ液タンク手段１５に切り替え可能に接続されると共に、循環により通過する洗浄液７又すすぎ液１６を浄化させるフィルタ手段９ｃと、フィルタ手段９ｃに接続され、液体排出口８とフィルタ手段９ｃとの間に滞留する洗浄液７又はすすぎ液１６を排出可能なバルブ手段２０ｇを有する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成および制御で、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物を効果的に洗浄する。
【解決手段】洗浄槽３には、洗浄液が貯留され、その洗浄液に被洗浄物２が浸漬される。減圧手段５は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。加熱手段７は、洗浄槽３内の洗浄液を加熱する。給気手段６は、被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の洗浄液中に気体を導入する。加熱手段７により洗浄液を設定温度まで加熱した後、減圧手段５により洗浄槽３内を減圧して洗浄液を沸騰させ、この沸騰中に給気手段６により洗浄液中に気体を導入する。これにより、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物２の洗浄効果を増すことができる。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】第１に、基板材に対し強いインパクトで、均一なスプレーが実施され、第２に、もって微細化，高密度化された回路の電子回路基板でも、精度高く安定的に製造可能な、基板材の表面処理装置を提案する。
【解決手段】この表面処理装置６は、電子回路基板の製造工程で使用され、基板材Ａに対し、スプレーノズル７から処理液Ｂを噴射して表面処理する。スプレーノズル７は、２流体ノズルよりなり、処理液ＢとエアーＤを混合して噴射すると共に、基板材Ａとスプレーノズル７間が、５ｍｍ〜４０ｍｍの距離間隔Ｅとなっており、エアーＤと共に噴射された処理液Ｂは、微小粒子となって基板材Ａにスプレーされる。そして基板材Ａに対し、強いインパクトでスプレーされると共に、左右方向Ｆへの水平往復移動により、広く均一にスプレーされる。エアーＤは、圧送源１４のブロワから温度上昇して圧送供給される。 （もっと読む）

【課題】内部に形成された狭隘部を洗浄対象部位に含む被洗浄ワークを対象として、十分な洗浄性能を確保することが可能な洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】ライデンフロスト現象の作用により被洗浄面に付着した異物を除去する異物除去工程を、洗浄液を噴射インターバルＴ２毎に噴射継続時間Ｔ１だけ複数回噴射して供給する洗浄液間歇噴射工程と、被洗浄面に形成された蒸気層を介して洗浄液が被洗浄面に沿って液滴の状態で流動する状態を発生させる液滴流動状態形成工程と、被洗浄面に付着した異物を液滴によって捕集する異物捕集工程と、異物を捕集した液滴を洗浄液が気化した蒸気の流れによって移動させることにより洗浄対象部位から排除する液滴移動工程とで構成し、洗浄液間歇噴射工程において、先行して供給された洗浄液についての流動状態形成工程、異物捕集工程および液滴移動工程が完了した後に、後続して供給される洗浄液を噴射する。 （もっと読む）

【課題】安定的にしかも安価に、浸水事故にあった電子機器が電気的に動作する正常状態に回復させることを目的とする。
【解決手段】電子機器の回復装置１は、筐体２の上面部に矢印θ方向に開閉される開閉蓋６を備え、開閉蓋６を開けた筐体２の上面部内が電子機器を収容するためのチャンバ８を備える。このチャンバ８内には開閉蓋６の下面部に吊着状態で配設する籠状の収容部９に、例えば携帯電話機１０を収容可能としている。こうして収容部９に携帯電話機１０を収容した状態において、開閉蓋６を閉操作し、電子機器（携帯電話機１０）をチャンバ８内に密閉状態で収容し、チャンバ８内において真空状態で加熱乾燥することが可能となる。これにより、例えば浸水事故にあった携帯電話機１０を、半導体基板や液晶表示装置が電気的に動作する正常状態に回復させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理を良好に行うことができる基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを格納した記憶媒体を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板(2)を処理液(23)で処理する処理槽(24)と、処理槽(24)に第１の薬液(21)を供給する第１薬液供給機構(25)と、第１の薬液(21)と反応して処理液(23)を生成する第２の薬液(22)を処理槽(24)に供給する第２薬液供給機構(26)と、処理槽(24)に接続した循環流路(45)を用いて処理液(23)を循環させる処理液循環機構(27)と、第１及び第２の薬液の処理槽への供給を制御する制御部とを備え、所定の循環流量で処理液を循環させて基板(2)を処理する基板処理装置(1)を用い、第２の薬液(22)の供給を開始するとともに第２の薬液(22)の供給開始に基づいて循環流量を変化させることにした。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構成ながら、洗浄ムラや乾燥ムラを有効に抑制できる洗浄装置、乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】シャッター１３により開口１１，１２を遮蔽した後、バルブＶ１を開放すると、チャック２０に固定された部品Ｗ（ここでは洗浄物）に対して、細孔３１ｅ、３１ｆと細孔３１ｇ、３１ｈを介して、液体供給源ＷＰから供給された温水が連続的に噴射される。又、バルブＶ２を周期的に開閉することで、細孔３１ｉ、３１ｊと細孔３１ｋ、３１ｍを介して、空気圧源ＡＰから供給された空気が間欠的に噴射される。これにより、空気と温水とが混じり合った状態で、部品Ｗの表面が洗浄されるので高い洗浄効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】装置全体の小型化に寄与するとともに、高さの異なるコンテナを混在して洗浄する場合であってもコンテナを適正な力で押さえることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】装置本体４内に配置された被洗浄物の載置台２４と、載置台２４を水平方向に回転させる回転駆動手段２６と、外力が加えられることにより、装置本体４の操作用開口１０を閉塞あるいは開放のいずれかの位置に移動する扉体１６と、を備えた洗浄装置であって、扉体１６の天井部裏面に、扉体１６の移動とともに上下方向に移動し、その扉体１６が上方位置から下方位置に移動する第１の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に押さえ部材３２が当接し、扉体１６が下方位置から上方位置に移動する第２の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に対する押さえ部材３２の当接を解除する押さえ手段３０と、が具備されていることを特徴としててる。 （もっと読む）

【課題】フィルター洗浄能力を上げ、この洗浄期間の短縮を図ることによって、従来並の洗浄期間でフィルム破断を起こさない、充分に清浄な再生フィルターとするためのフィルター洗浄方法を提供する。
【解決手段】ポリエステルフィルムの製造工程で使用する溶融ポリエステル組成物を濾過するためのフィルターを使用後に洗浄して再生するフィルター洗浄方法であって、水酸基を有する化合物の存在下で前記フィルターに付着しているポリエステル組成物を加熱分解した後、アルカリ洗浄剤からなる洗浄液を充填した洗浄浴槽で前記フィルターを超音波洗浄を併用しながら洗浄するフィルター洗浄方法とする。 （もっと読む）

【課題】フィルター洗浄能力を上げ、この洗浄期間の短縮を図ることによって、従来並の洗浄期間でフィルム破断を起こさない、充分に清浄な再生フィルターとするためのフィルター洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルターの樹脂濾過方向とは逆方向に加温したアルカリ洗浄液を流しながら、フィルターを洗浄浴槽中で洗浄液に浸漬して超音波洗浄とアルカリ洗浄とを同時に行うフィルターの洗浄装置と洗浄方法とする。 （もっと読む）